本發(fā)明屬于顯示屏技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種主動開關(guān)陣列基板及其制造方法、顯示面板。

背景技術(shù)：

越來越多的顯示面板生產(chǎn)廠家使用在薄膜晶體管(thin-filmtransistor，簡稱tft)的陣列上制作彩色濾光膜(colorfilteronarray，簡稱coa)的工藝及白、紅、綠以及藍四色(white,red,green,blue,簡稱wrgb)技術(shù)。其中，coa工藝可提升顯示面板曲面畫質(zhì)或藉此簡化上板的結(jié)構(gòu)(例如:簡化平面轉(zhuǎn)換(in-planeswitching，簡稱ips)液晶模式上板的平坦化層(overcoat，簡稱oc)結(jié)構(gòu))；而wrgb技術(shù)可以提升面板穿透率、降低面板的能耗并節(jié)省背光成本。

傳統(tǒng)coa結(jié)構(gòu)搭配wrgb技術(shù)的顯示面板的陣列制程(array)工藝流程如下：傳統(tǒng)coa結(jié)構(gòu)搭配wrgb技術(shù)在柵極與源極制程完成之后，先進行第一個絕緣層的成型工序；而后再完成彩色光阻層(包括紅色光阻、綠色光阻以及藍色光阻)的涂布、曝光與顯影步驟，透明光阻層的涂布、曝光與顯影步驟。彩色光阻層及透明光阻層的結(jié)構(gòu)完成之后再進行第二個絕緣層的成型工序，然后涂布光刻膠層(也叫光阻)，并利用帶有通孔的掩膜板進行曝光操作，之后再顯影與蝕刻以除去對應(yīng)于通孔處的位于陣列上方的絕緣層以及絕緣層，后續(xù)再除去光刻膠層以接續(xù)后面的像素電極制程(pixelelectrode，簡稱pe)。

薄膜晶體管顯示面板產(chǎn)業(yè)由于工藝復雜且設(shè)備投資巨大，所以生產(chǎn)的成本很高，隨著市場的激烈競爭，降低屏的生產(chǎn)成本已是平板顯示行業(yè)必然的發(fā)展方向，且大部分舊式的薄膜晶體管顯示面板產(chǎn)線僅適合紅、綠及藍三原色技術(shù)的生產(chǎn)工藝，并無透明光阻相關(guān)的生產(chǎn)設(shè)備及廠房空間。因此，需要研發(fā)一種新的顯示器生產(chǎn)技術(shù)，以進一步降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種主動開關(guān)陣列基板及其制造方法、顯示面板，旨在進一步降低顯示面板的生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率。

本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的，一種主動開關(guān)陣列基板的制造方法，所述制造方法包括以下步驟：

在一基板上形成主動開關(guān)的柵極、絕緣層、主動層以及歐姆接觸層；

于所述歐姆接觸層以及所述絕緣層上形成所述主動開關(guān)的源極與漏極；

于所述源極、漏極以及所述絕緣層上沉積一保護層；

于所述保護層上沉積一彩色濾光層并進行曝光及顯影；

于所述彩色濾光層及保護層上沉積一層可被可見光穿透過的光刻膠層；

于所述光刻膠層上直接沉積一透明導電層，并蝕刻所述透明導電層，以形成像素電極層。

進一步地，所述在一形成主動開關(guān)的柵極的具體步驟包括：

基板清洗，去除異物；

成膜工藝，在干凈的基板表面，通過濺射沉積形成金屬薄膜；

上光阻，在已形成的金屬薄膜上面均勻涂覆一層光刻膠；

曝光，紫外線透過掩模板照射光刻膠，進行曝光；

顯影，光刻膠曝光部分被顯影液溶解，留下部分圖案呈現(xiàn)所需形狀；

蝕刻，把基板放入對應(yīng)腐蝕液或腐蝕氣體中，腐蝕掉無光刻膠覆蓋的薄膜；

去光阻，去除殘余的光刻膠，留下所需形狀的金屬薄膜，以形成掃描線、主動開關(guān)的柵極以及共通電極。

進一步地，所述于所述歐姆接觸層以及所述絕緣層上形成所述主動開關(guān)的源極與漏極的步驟具體包括：

成膜工藝，在所述歐姆接觸層以及所述絕緣層上，通過濺射沉積形成金屬薄膜；

上光阻，在已形成的金屬薄膜上面均勻涂覆一層光刻膠；

曝光，紫外線透過掩模板照射光刻膠，進行曝光；

顯影，光刻膠曝光部分被顯影液溶解，留下部分圖案呈現(xiàn)所需形狀；

蝕刻，把基板放入對應(yīng)腐蝕液或腐蝕氣體中，腐蝕掉無光刻膠覆蓋的薄膜；

去光阻，去除殘余的光刻膠，留下所需形狀的金屬薄膜，以形成數(shù)據(jù)線、并于歐姆接觸層上定義出主動開關(guān)的源極及漏極。

進一步地，所述于所述保護層上沉積一彩色濾光層并進行曝光及顯影的步驟具體包括：

在所述絕緣層上涂覆一層感光的第一有機感光層，掩模曝光、顯影，形成與像素對應(yīng)的第一濾光層；

在所述絕緣層上涂覆一層感光的第二有機感光層，掩模曝光、顯影，形成與像素對應(yīng)的第二濾光層；

在所述絕緣層上涂覆一層感光的第三有機感光層，掩模曝光、顯影，形成與像素對應(yīng)的第三濾光層。

進一步地，沉積的所述光刻膠具有流平性。

本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題，還提供了一種主動開關(guān)陣列基板，包含：

基板；

包含主動開關(guān)的柵極，位于所述基板上；

絕緣層，位于所述基板及所述柵極上；

主動層，位于所述絕緣層上，用來作為所述主動開關(guān)的通道；

歐姆接觸層，位于所述主動層上；

主動開關(guān)的源極與漏極，位于所述歐姆接觸層及所述絕緣層上；

保護層，位于所述源極、漏極及絕緣層上；

彩色濾光層，位于所述保護層上，包含多個濾光單元；

光刻膠層，位于所述彩色濾光層及保護層上；其中，所述光刻膠層使用可被可見光穿透過的光刻膠沉積而成；

像素電極層，直接沉積于所述光刻膠層上。

本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題，還提供了一種顯示面板，包括：

背光模組，用以提供照明光源；

第一基板，所述第一基板包括：第一玻璃基板；包含主動開關(guān)的柵極，位于所述第一玻璃基板一側(cè)上；絕緣層，位于所述第一玻璃基板及所述柵極上；主動層，位于所述絕緣層上；歐姆接觸層，位于所述主動層上；主動開關(guān)的源極與漏極，位于所述歐姆接觸層及所述絕緣層上；保護層，位于所述源極、漏極及所述絕緣層上；彩色濾光層，位于所述保護層上；光刻膠層，位于所述彩色濾光層及保護層上，所述光刻膠層使用可被可見光穿透過的光刻膠沉積而成；像素電極層，直接位于所述光刻膠層上；及位于所述光刻膠層上的第一配向膜；所述第一玻璃基板的另一側(cè)還設(shè)有第一偏光板；

第二基板，與所述第一基板相扣合；

液晶層，填充于第一基板與第二基板之間。

進一步地，所述第二基板內(nèi)側(cè)設(shè)有黑色矩陣層及設(shè)在所述黑色矩陣層上的第二配向膜，所述第二基板的外側(cè)還設(shè)有第二偏光板。

本發(fā)明的主動開關(guān)陣列基板，其制造過程中，無需進行透明光阻的涂布、曝光以及顯影制程，也無需進行第二個絕緣層的成膜操作；后續(xù)也不需要除去光刻膠層，而是將光刻膠層留在面板上，并接續(xù)后面的像素電極制程?？梢姡a(chǎn)本發(fā)明的陣列基板以及具有該陣列基板的顯示面板，可節(jié)省生產(chǎn)透明光阻的設(shè)備投資費用與后續(xù)的掩膜板費用，并可在較小幅度改變紅、綠及藍三原色生產(chǎn)線的情況下生產(chǎn)白、紅、綠及藍四色技術(shù)面板，同時也可縮短了生產(chǎn)時間，降低生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)線的效率與產(chǎn)能。

附圖說明

一個或多個實施例通過與之對應(yīng)的附圖中的圖片進行示例性說明，這些示例性說明并不構(gòu)成對實施例的限定，附圖中具有相同參考數(shù)字標號的元件表示為類似的元件，除非有特別申明，附圖中的圖不構(gòu)成比例限制。

圖1是是本發(fā)明實施例提供的一種主動開關(guān)陣列基板的工藝流程步驟示意圖。

圖2是本發(fā)明實施例提供的一種主動開關(guān)陣列基板的制作流程圖。

圖3本發(fā)明實施例提供的一種主動開關(guān)陣列基板的縱向截面圖。

具體實施方式

為了使本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應(yīng)當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

如圖1及圖2所示，為本發(fā)明的一實施例，提供了一種主動開關(guān)陣列基板的制造方法，包括以下步驟：

步驟s100，在一基板100上形成一第一金屬層，蝕刻所述第一金屬層，以形成主動開關(guān)的柵極1；

步驟s200，沉積一絕緣層2于所述基板100及所述柵極1上；

步驟s300，于所述絕緣層2上，沉積一主動層3以及歐姆接觸層4；

步驟s400，于所述歐姆接觸層4以及所述絕緣層2上沉積一第二金屬層，并蝕刻所述第二金屬層以形成所述主動開關(guān)的源極與漏極5；

步驟s500，于所述源極、漏極5以及絕緣層2上沉積一保護層6；

步驟s600，于所述保護層6上沉積一彩色濾光層c并進行曝光及顯影；

步驟s700，于所述彩色濾光層c及保護層上沉積一層可被可見光穿透過的(即是，透明或較為透明的)光刻膠層w’；

步驟s800，于所述光刻膠層w’上直接沉積一透明導電層，并蝕刻所述透明導電層，以形成像素電極層。

可選地，在所述步驟s100中，在一基板100上形成一金屬層，蝕刻所述第一金屬層，以形成主動開關(guān)的柵極1的具體步驟包括：

基板100清洗，去除異物；

成膜工藝，在干凈的基板100表面，通過濺射沉積形成金屬薄膜；

上光阻，在已形成的金屬薄膜上面均勻涂覆一層光刻膠；

曝光，紫外線透過掩模板照射基板100上的光刻膠，進行曝光；

顯影，光刻膠曝光部分被顯影液溶解，留下部分圖案呈現(xiàn)所需形狀；

蝕刻，把基板放入對應(yīng)腐蝕液或腐蝕氣體中，腐蝕掉無光刻膠覆蓋的薄膜；

去光阻，去除殘余的光刻膠，留下所需形狀的金屬薄膜，以形成掃描線sl、包含主動開關(guān)的柵極1以及共通電極cl。

進一步地，在步驟s400中，于所述歐姆接觸層4以及所述絕緣層上沉積一第二金屬層，并蝕刻所述第二金屬層以形成所述主動開關(guān)的源極與漏極5的步驟具體包括：

成膜工藝，在所述歐姆接觸層4以及所述絕緣層2上，通過濺射沉積形成金屬薄膜；

上光阻，在已形成的金屬薄膜上面均勻涂覆一層光刻膠；

曝光，紫外線透過掩模板照射光刻膠，進行曝光；

顯影，光刻膠曝光部分被顯影液溶解，留下部分圖案呈現(xiàn)所需形狀；

蝕刻，把基板放入對應(yīng)腐蝕液或腐蝕氣體中，腐蝕掉無光刻膠覆蓋的薄膜；

去光阻，去除殘余的光刻膠，留下所需形狀的金屬薄膜，以形成數(shù)據(jù)線dl、并于歐姆接觸層上定義出主動開關(guān)的源極及漏極5。

更進一步地，在所述步驟s600中，所述于所述保護層6上沉積一彩色濾光層并進行曝光及顯影的步驟具體包括：

在所述保護層6上涂覆一層感光的紅色有機感光層，掩模曝光、顯影，形成與像素對應(yīng)的紅色濾光層；

在所述保護層6上涂覆一層感光的綠色有機感光層，掩模曝光、顯影，形成與像素對應(yīng)的綠色濾光層；

在所述保護層6上涂覆一層感光的藍色有機感光層，掩模曝光、顯影，形成與像素對應(yīng)的藍色濾光層。

經(jīng)過上述三個步驟(順序不限)，可以形成本發(fā)明實施例中所述的彩色濾光層c。

在所述步驟s700中，為了保證光刻膠層w＇厚度均勻，表面平滑，可以采用具有良好流平性的光刻膠。

本實施中上述彩色濾光層c包括處于同一水平高度的紅色濾光層、綠色濾光層以及藍色濾光層。而光刻膠層w＇由穿透度較高、較為透明的光刻膠制成，所以其具有透明光阻所具備的特征。

在所述步驟s700之后，利用具有通孔的掩膜板對光刻膠層w＇曝光，再進行顯影與蝕刻操作，進而除去掩膜板的通孔位置所對應(yīng)的絕緣層2及保護層6形成開口，進而，開口處對應(yīng)的金屬層可以顯露在外面，形成陣列。

通過本發(fā)明的上述實施例，可以得知在本發(fā)明提供的主動開關(guān)陣列基板的制造過程中，不需要除去光刻膠層而將光刻膠留在基板上并接續(xù)后面的像素電極制程。同時與現(xiàn)有的coa結(jié)構(gòu)搭配wrgb技術(shù)之a(chǎn)rray工藝流程相比：本實施例可省去原本工藝中一系列之透明光阻(white)之涂布、曝光與顯影制程，有效節(jié)省了設(shè)備投資費用與后續(xù)的掩膜板費用，并在不大幅改動rgb三原色生產(chǎn)線的條件下可以生產(chǎn)出wrgb面板，同時也可縮短了生產(chǎn)節(jié)拍時間，降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)線的效率與產(chǎn)能。

如圖2所示，本發(fā)明的實施例還提供一種主動開關(guān)陣列基板，包含：

基板100；

包含主動開關(guān)的柵極1，位于所述基板100上；

絕緣層2，位于所述基板100及所述柵極1上；

主動層3，位于所述絕緣層2上，用來作為所述主動開關(guān)的通道；

歐姆接觸層4，位于所述主動層3上；

主動開關(guān)的源極與漏極5，位于所述歐姆接觸層4及所述絕緣層2上；

保護層6，位于所述源極、漏極5及絕緣層2上；

彩色濾光層c，位于所述保護層6上，包含多個濾光單元；

光刻膠層w’，位于所述彩色濾光層c及保護層6上；其中，所述光刻膠層w’使用可見光波段穿透度高的光刻膠沉積而成；

像素電極層，直接沉積于所述光刻膠層上w’。

本發(fā)明實施例中，所述光刻膠層w’中的光刻膠的流平性較好。

進一步地，本發(fā)明的主動開關(guān)陣列基板中，所述光刻膠層w’上還沉積有一透明導電層，從而形成像素電極。

本發(fā)明的實施例還提供了一種顯示面板包括：

背光模組，用以提供照明光源；

第一基板，所述第一基板包括：第一玻璃基板；包含主動開關(guān)的柵極1，位于所述第一玻璃基板一側(cè)上；絕緣層，位于所述第一玻璃基板及所述柵極上；主動層，位于所述絕緣層上；歐姆接觸層，位于所述主動層上；主動開關(guān)的源極與漏極，位于所述歐姆接觸層及所述絕緣層上；保護層，位于所述源極、漏極及絕緣層上；彩色濾光層，位于所述保護層上；光刻膠層，位于所述彩色濾光層及保護層上，所述光刻膠層使用可見光波段穿透度高的光刻膠沉積而成；像素電極層，位于所述光刻膠層上；及位于所述光刻膠層上的第一配向膜；所述第一玻璃基板的另一側(cè)還設(shè)有第一偏光板；

第二基板，與所述第一基板相扣合；

液晶層，填充于第一基板與第二基板之間。

進一步地，所述第二基板內(nèi)側(cè)設(shè)有黑色矩陣層及設(shè)在所述黑色矩陣層上的第二配向膜，所述第二基板的外側(cè)還設(shè)有第二偏光板。

通過與現(xiàn)有的顯示面板的制造方法相比較，本實施例的顯示面板，其制造過程中，無需進行透明光阻的涂布、曝光以及顯影制程，也無需進行第二層絕緣層的成膜操作；后續(xù)也不需要除去光刻膠層w＇，而是將光刻膠層w＇留在面板上，并接續(xù)后面的像素電極制程。雖然，本實施例的顯示面板沒有除去光刻膠層w＇會增加彩色光阻層c上方的厚度，但是通過光刻膠層w＇可以進一步降低信號線的負載。

可見本實施例的顯示面板，可節(jié)省了生產(chǎn)透明光阻的設(shè)備投資費用與后續(xù)的掩膜板費用，并可在較小幅度改變紅、綠及藍三原色生產(chǎn)線的情況下生產(chǎn)白、紅、綠及藍四色技術(shù)面板，同時也可縮短了生產(chǎn)時間，降低生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)線的效率與產(chǎn)能。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。