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一種OLED基板及其制作方法、顯示裝置與流程

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技術(shù)特征:

1.一種OLED基板,包括:襯底,位于所述襯底之上的圖案化的陽(yáng)極,其特征在于,還包括:

與所述陽(yáng)極的外圍圖案并聯(lián)接觸連接的圖案化的輔助電極,其中,所述輔助電極的阻抗小于所述陽(yáng)極的阻抗。

2.如權(quán)利要求1所述的OLED基板,其特征在于,所述輔助電極在所述襯底上的正投影與所述陽(yáng)極的外圍圖案在所述襯底上的正投影相重合。

3.如權(quán)利要求2所述的OLED基板,其特征在于,所述輔助電極位于所述陽(yáng)極下方,且與所述輔助電極并聯(lián)接觸連接的所述陽(yáng)極的外圍圖案用于邦定電路板,其中,所述陽(yáng)極的抗氧化性優(yōu)于所述輔助電極的抗氧化性。

4.如權(quán)利要求1所述的OLED基板,其特征在于,還包括:填充在所述陽(yáng)極的圖案縫隙處的絕緣層。

5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的OLED基板,其特征在于,所述輔助電極的材質(zhì)為金屬或金屬合金,所述陽(yáng)極的材質(zhì)為透明氧化物。

6.如權(quán)利要求5所述的OLED基板,其特征在于,所述輔助電極的材質(zhì)為鉬鋁鉬,所述陽(yáng)極的材質(zhì)為銦錫氧化物ITO。

7.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的OLED基板,其特征在于,所述輔助電極的厚度范圍為4500-6500埃米。

8.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的OLED基板,其特征在于,所述陽(yáng)極的厚度范圍為500-2500埃米。

9.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)所述的OLED基板。

10.一種制作權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的OLED基板的方法,其特征在于,包括:

在襯底上形成圖案化的輔助電極以及圖案化的陽(yáng)極,所述陽(yáng)極的外圍圖案與所述輔助電極并聯(lián)接觸連接;

其中,所述輔助電極的阻抗小于所述陽(yáng)極的阻抗。

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