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一種具有天線裝飾功能的殼體及制備工藝的制作方法

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一種具有天線裝飾功能的殼體及制備工藝的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及一種具有天線裝飾功能的殼體及制備工藝。



背景技術(shù):

隨著科技進(jìn)步和材料、工藝的發(fā)展,外觀表面正在發(fā)生革命性的創(chuàng)新,將電子、觸控、無(wú)線等功能性整合于表面裝飾,產(chǎn)品從單純的裝飾性發(fā)展成為功能性電子產(chǎn)品已成為一種趨勢(shì);模內(nèi)裝飾產(chǎn)品從單純的裝飾性發(fā)展成為功能性電子產(chǎn)品,實(shí)現(xiàn)智能化、觸摸式的塑料組件。

隨著電子產(chǎn)品往輕、薄的方向發(fā)展,簡(jiǎn)化電子裝置中內(nèi)置元件的結(jié)構(gòu)、減小內(nèi)置元件的體積對(duì)簡(jiǎn)化整個(gè)電子產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)及降低整體體積具有很大的作用。天線作為電子產(chǎn)品中一收發(fā)信號(hào)的重要元件,結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)化及體積的減小對(duì)整體結(jié)構(gòu)及降低體積具有積極的作用。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明目的是:提供一種具有天線裝飾功能的殼體及制備工藝,其將天線功能與裝飾薄膜有機(jī)的結(jié)合在一起,達(dá)到一種具有裝飾性的功能薄膜,同時(shí)將這種功能薄膜與模內(nèi)注塑工藝相結(jié)合,從而獲得一種不僅具備較好裝飾效果,還同時(shí)具有天線功能的殼體。

本發(fā)明的一種技術(shù)方案是:一種具有天線裝飾功能的殼體,包括殼本體和設(shè)置在殼本體表面的裝飾薄膜,所述殼本體由金屬部分和塑膠部分結(jié)合而成,且金屬部分和塑膠部分之間形成有天線導(dǎo)通孔,所述殼本體內(nèi)側(cè)的塑膠部分對(duì)應(yīng)天線導(dǎo)通孔的位置鐳雕形成有天線接收線路圖案層,所述天線接收線路圖案層表面依次設(shè)有第二金屬鍍層及pu漆層,所述裝飾薄膜內(nèi)側(cè)面對(duì)應(yīng)天線導(dǎo)通孔的位置設(shè)有l(wèi)ds天線輻射薄膜,所述lds天線輻射薄膜由外向內(nèi)依次為薄膜基材、具有天線輻射線路圖案的lds激光活化層、第一金屬層、保護(hù)層及接著層,其薄膜基材與裝飾薄膜內(nèi)側(cè)面粘合固定,其接著層與殼本體相接。

優(yōu)選的,所述裝飾薄膜由外向內(nèi)依次為基體薄膜、離型層、硬涂層、圖案油墨層。

優(yōu)選的,所述lds天線輻射薄膜中的薄膜基材為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(pet),基材厚度為20μm。

優(yōu)選的,所述具有天線輻射線路圖案的lds激光活化層內(nèi)包含有機(jī)金屬絡(luò)合物,所述有機(jī)金屬絡(luò)合物為銀絡(luò)合物、銅絡(luò)合物、鎳絡(luò)合物中的一種或者兩種以上混合物。

優(yōu)選的,所述lds激光活化層的天線輻射線路圖案的寬度為0.3mm,間距為0.5mm。

優(yōu)選的,所述第一金屬鍍層為銅或者鎳,第一金屬鍍層厚度約8μm。

優(yōu)選的,所述塑膠部分為含有機(jī)金屬?gòu)?fù)合物的改性塑膠,改性塑膠材料為聚酰胺類、聚碳酸酯類、pc/abs合金類或聚酯類。

優(yōu)選的,所述第二金屬鍍層為銅或者鎳,金屬鍍層厚度約8μm。

優(yōu)選的,所述pu漆層厚度為15μm。

本發(fā)明的另一種技術(shù)方案是:一種具有天線裝飾功能的殼體的制備工藝,具體包括如下步驟:

(1)裁切:將薄膜基材根據(jù)所需大小進(jìn)行裁切;

(2)涂覆:將裁切好的薄膜基材放置在涂覆治具上,再將lds活化涂料在薄膜基材表面進(jìn)行均勻噴涂形成lds活化涂層,lds活化涂層厚度約12μm;

(3)烘干:將涂覆好的薄膜基材置入烤箱內(nèi)烘干;

(4)鐳雕:利用lds技術(shù)在涂覆好的lds活化涂層上,激光鐳雕出天線輻射線路圖案;

(5)濺鍍:將此基材置于真空濺鍍倉(cāng)中,采用真空濺鍍工藝在所述天線輻射線路圖案上鍍第一金屬鍍層;

(6)熱壓:在第一金屬鍍層表面依次貼附保護(hù)層與接著層膠水后,將此薄膜基材置于模具內(nèi)進(jìn)行熱壓成型,形成lds天線輻射薄膜;

(7)壓延:選用一種裝飾薄膜,在其表面涂覆膠水層,將此裝飾薄膜與所述lds天線輻射薄膜進(jìn)行粘合,粘貼好后放置在壓延機(jī)上,利用輥筒一體壓延成型構(gòu)成具有天線功能的薄膜;

(8)模內(nèi)注塑與轉(zhuǎn)?。簩⒕哂刑炀€功能的薄膜與金屬殼體部分同時(shí)放入注塑模具中,通過(guò)模內(nèi)注塑工藝及模內(nèi)轉(zhuǎn)印工藝,一體成型出具有天線導(dǎo)通孔的殼體;

(9)lds:將上述電子殼體放置在鐳雕治具上,利用激光在電子殼體的塑膠部分內(nèi)側(cè)鐳雕出天線接收線路圖案并進(jìn)行激光活化;

(10)濺鍍:將上述激光活化后的電子殼體置于真空濺鍍倉(cāng)內(nèi),在天線接收線路圖案表面真空濺鍍第二金屬鍍層;

(11)噴涂:在第二金屬鍍層表面噴涂pu漆,再經(jīng)過(guò)烤箱進(jìn)行固化保護(hù),獲得一種具有天線功能的電子殼體。

優(yōu)選的,步驟(1)中,所述薄膜基材為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(pet),基材厚度為20μm。

優(yōu)選的,步驟(2)中,所述lds活化涂料包含有機(jī)金屬絡(luò)合物,有機(jī)金屬絡(luò)合物經(jīng)過(guò)激光照射后,有機(jī)物部分被氣化;

優(yōu)選的,所述有機(jī)金屬絡(luò)合物為銀絡(luò)合物、銅絡(luò)合物、鎳絡(luò)合物中的一種或者兩種以上混合物。

優(yōu)選的,步驟(3)中,烘烤溫度為100℃;

優(yōu)選的,步驟(4)中,天線輻射線路圖案的寬度為0.3mm,間距為0.5mm。

優(yōu)選的,步驟(5)中,第一金屬鍍層為銅或者鎳,第一金屬鍍層厚度約8μm。

優(yōu)選的,步驟(8)中,模內(nèi)注塑的塑膠材料為含有機(jī)金屬?gòu)?fù)合物的改性塑膠,經(jīng)激光照射后,有機(jī)金屬?gòu)?fù)合物釋放出金屬粒子。

優(yōu)選的,所述改性塑膠材料為聚酰胺類、聚碳酸酯類、pc/abs合金類或聚酯類。

優(yōu)選的,步驟(10)中,第二金屬鍍層為銅或者鎳,第二金屬鍍層厚度約8μm。

優(yōu)選的,步驟(11)中,烘烤類型為一涂一烘,烤箱溫度為70℃,pu漆厚度為15μm。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是:本發(fā)明將天線功能與裝飾薄膜有機(jī)的結(jié)合在一起,達(dá)到一種具有裝飾性的功能薄膜,同時(shí)將這種功能薄膜與模內(nèi)注塑工藝相結(jié)合,從而獲得一種不僅具備較好裝飾效果,還同時(shí)具有天線功能的殼體。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述:

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為本發(fā)明中l(wèi)ds天線輻射薄膜的剖面結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本發(fā)明中裝飾薄膜的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

其中:1殼本體;1-1金屬部分;1-2塑膠部分;1-3天線導(dǎo)通孔;

2裝飾薄膜;2-1基體薄膜;2-2離型層;2-3硬涂層;2-4圖案油墨層;

3天線接收線路圖案層;

4第二金屬鍍層;

5pu漆層;

6lds天線輻射薄膜;6-1薄膜基材;6-2具有天線輻射線路圖案的lds激光活化層;6-3第一金屬層;6-4保護(hù)層;6-5接著層。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例:如圖1至圖3所示,一種具有天線裝飾功能的殼體,包括殼本體1和設(shè)置在殼本體1表面的裝飾薄膜2,所述殼本體1由金屬部分1-1和塑膠部分1-2結(jié)合而成,且金屬部分1-1和塑膠部分1-2之間形成有天線導(dǎo)通孔1-3,所述殼本體1內(nèi)側(cè)的塑膠部分1-2對(duì)應(yīng)天線導(dǎo)通孔1-3的位置鐳雕形成有天線接收線路圖案層3,所述天線接收線路圖案層3表面依次設(shè)有第二金屬鍍層4及pu漆層5,所述裝飾薄膜2內(nèi)側(cè)面對(duì)應(yīng)天線導(dǎo)通孔1-3的位置設(shè)有l(wèi)ds天線輻射薄膜6,所述lds天線輻射薄膜6由外向內(nèi)依次為薄膜基材6-1、具有天線輻射線路圖案的lds激光活化層6-2、第一金屬層6-3、保護(hù)層6-4及接著層6-5,其薄膜基材6-1與裝飾薄膜2內(nèi)側(cè)面粘合固定,其接著層6-5與殼本體1相接。

本實(shí)施例中,所述裝飾薄膜2由外向內(nèi)依次為基體薄膜2-1、離型層2-2、硬涂層2-3、圖案油墨層2-4。

本實(shí)施例中,所述lds天線輻射薄膜6中的薄膜基材6-1為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(pet),基材厚度為20μm。

本實(shí)施例中,所述具有天線輻射線路圖案的lds激光活化層6-2內(nèi)包含有機(jī)金屬絡(luò)合物,所述有機(jī)金屬絡(luò)合物為銀絡(luò)合物、銅絡(luò)合物、鎳絡(luò)合物中的一種或者兩種以上混合物。

本實(shí)施例中,所述lds激光活化層6-3的天線輻射線路圖案的寬度為0.3mm,間距為0.5mm。

本實(shí)施例中,所述第一金屬鍍層6-3為銅或者鎳,第一金屬鍍層厚度約8μm。

本實(shí)施例中,所述塑膠部分1-2為含有機(jī)金屬?gòu)?fù)合物的改性塑膠,改性塑膠材料為聚酰胺類、聚碳酸酯類、pc/abs合金類或聚酯類。

本實(shí)施例中,所述第二金屬鍍層4為銅或者鎳,金屬鍍層厚度約8μm。

本實(shí)施例中,所述pu漆層5厚度為15μm。

本發(fā)明在殼體本體1上形成天線導(dǎo)通孔1-3,并在天線導(dǎo)通孔1-3的外端與裝飾薄膜2之間設(shè)置lds天線輻射薄膜6、在天線導(dǎo)通孔1-3的內(nèi)端側(cè)的塑膠部分1-2形成有天線接收線路圖案層3,且天線接收線路圖案層3表面依次設(shè)有第二金屬鍍層4及pu漆層5,該結(jié)構(gòu)使得殼體不僅具備較好裝飾效果,還同時(shí)具有天線功能,大大降低了整體體積。

一種具有天線裝飾功能的殼體的制備工藝,具體包括如下步驟:

(1)裁切:將薄膜基材根據(jù)所需大小進(jìn)行裁切;本實(shí)施例中,所述薄膜基材為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(pet),基材厚度為20μm。

(2)涂覆:將裁切好的薄膜基材放置在涂覆治具上,再將lds活化涂料在薄膜基材表面進(jìn)行均勻噴涂形成lds活化涂層,lds活化涂層厚度約12μm;本實(shí)施例中,所述lds活化涂料包含有機(jī)金屬絡(luò)合物,有機(jī)金屬絡(luò)合物經(jīng)過(guò)激光照射后,有機(jī)物部分被氣化;所述有機(jī)金屬絡(luò)合物為銀絡(luò)合物、銅絡(luò)合物、鎳絡(luò)合物中的一種或者兩種以上混合物。

(3)烘干:將涂覆好的薄膜基材置入烤箱內(nèi)烘干,烘烤溫度為100℃;

(4)鐳雕:利用lds技術(shù)在涂覆好的lds活化涂層上,激光鐳雕出天線輻射線路圖案;其中,天線輻射線路圖案的寬度為0.3mm,間距為0.5mm。

(5)濺鍍:將此基材置于真空濺鍍倉(cāng)中,采用真空濺鍍工藝在所述天線輻射線路圖案上鍍第一金屬鍍層;本實(shí)施例中,第一金屬鍍層為銅或者鎳,第一金屬鍍層厚度約8μm。

(6)熱壓:在第一金屬鍍層表面依次貼附保護(hù)層與接著層膠水后,將此薄膜基材置于模具內(nèi)進(jìn)行熱壓成型,形成lds天線輻射薄膜;

(7)壓延:選用一種裝飾薄膜,在其表面涂覆膠水層,將此裝飾薄膜與所述lds天線輻射薄膜進(jìn)行粘合,粘貼好后放置在壓延機(jī)上,利用輥筒一體壓延成型構(gòu)成具有天線功能的薄膜;

(8)模內(nèi)注塑與轉(zhuǎn)?。簩⒕哂刑炀€功能的薄膜與金屬殼體部分同時(shí)放入注塑模具中,通過(guò)模內(nèi)注塑工藝及模內(nèi)轉(zhuǎn)印工藝,一體成型出具有天線導(dǎo)通孔的殼體;本實(shí)施例中,模內(nèi)注塑的塑膠材料為含有機(jī)金屬?gòu)?fù)合物的改性塑膠,經(jīng)激光照射后,有機(jī)金屬?gòu)?fù)合物釋放出金屬粒子。所述改性塑膠材料為聚酰胺類、聚碳酸酯類、pc/abs合金類或聚酯類。

(9)lds:將上述電子殼體放置在鐳雕治具上,利用激光在電子殼體的塑膠部分內(nèi)側(cè)鐳雕出天線接收線路圖案并進(jìn)行激光活化;

(10)濺鍍:將上述激光活化后的電子殼體置于真空濺鍍倉(cāng)內(nèi),在天線接收線路圖案表面真空濺鍍第二金屬鍍層;本實(shí)施例中,第二金屬鍍層為銅或者鎳,第二金屬鍍層厚度約8μm。

(11)噴涂:在第二金屬鍍層表面噴涂pu漆,再經(jīng)過(guò)烤箱進(jìn)行固化保護(hù),獲得一種具有天線功能的電子殼體。本實(shí)施例中,烘烤類型為一涂一烘,烤箱溫度為70℃,pu漆厚度為15μm。

本發(fā)明將天線功能與裝飾薄膜有機(jī)的結(jié)合在一起,達(dá)到一種具有裝飾性的功能薄膜,同時(shí)將這種功能薄膜與模內(nèi)注塑工藝相結(jié)合,從而獲得一種不僅具備較好裝飾效果,還同時(shí)具有天線功能的殼體。

以上僅是本發(fā)明的具體應(yīng)用范例,對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍不構(gòu)成任何限制。除上述實(shí)施例外,本發(fā)明還可以有其它實(shí)施方式。凡采用等同替換或等效變換形成的技術(shù)方案,均落在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。

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