本發(fā)明涉及柔性顯示面板技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種柔性顯示面板及其制造方法。
背景技術(shù):
隨著電視、智能手機(jī)、電腦、平板等消費(fèi)電子產(chǎn)品向著輕薄、便攜等方向快速發(fā)展,其顯示屏幕也經(jīng)歷著“球面屏-平面屏-柔性屏”的快速演化和迭代。柔性顯示面板由于具有結(jié)構(gòu)簡單、超輕薄、色飽和度和對(duì)比度高、功耗低、容易實(shí)現(xiàn)柔性顯示等優(yōu)勢(shì),逐漸成為產(chǎn)業(yè)界和學(xué)術(shù)界投資與研究的重點(diǎn),將成為未來發(fā)展主流。
然而,柔性顯示面板中位于非顯示區(qū)域的薄膜晶體管((Thin Film Transistor,TFT)器件層由于是在非顯示區(qū)域,因此在柔性顯示面板的疊層結(jié)構(gòu)中通常是位于最外層(無需在其上形成有機(jī)發(fā)光層),因此在柔性顯示面板彎曲過程中會(huì)受到較大的拉伸力或壓縮力,容易出現(xiàn)斷裂現(xiàn)象。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種柔性顯示面板及其制造方法,能夠減小非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層發(fā)生斷裂的幾率。
本發(fā)明實(shí)施例提供一種柔性顯示面板的制造方法,包括:
提供柔性基板;
在所述柔性基板上形成薄膜晶體管器件層,所述薄膜晶體管器件層包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域;
在所述薄膜晶體管器件層的顯示區(qū)域上依次形成有機(jī)發(fā)光層和第一阻擋層;
在所述薄膜晶體管器件層的非顯示區(qū)域上形成預(yù)定厚度的補(bǔ)償層,以使得所述柔性顯示面板彎曲時(shí),所述非顯示區(qū)域的所述薄膜晶體管器件層為中性層。
在本發(fā)明所述的制造方法中,所述在所述薄膜晶體管器件層的非顯示區(qū)域上形成預(yù)定厚度的補(bǔ)償層的步驟包括:在所述薄膜晶體管器件層的非顯示區(qū)域上涂布預(yù)定厚度的紫外光固化膠,以形成所述補(bǔ)償層。
在本發(fā)明所述的制造方法中,所述在所述薄膜晶體管器件層的非顯示區(qū)域上形成預(yù)定厚度的補(bǔ)償層的步驟包括:在所述薄膜晶體管器件層的非顯示區(qū)域上涂布預(yù)定厚度的塔菲膠,以形成所述補(bǔ)償層。
在本發(fā)明所述的制造方法中,所述在所述柔性基板上形成薄膜晶體管器件層的步驟之前包括:在所述柔性基板上形成第二阻擋層;
在所述柔性基板上形成薄膜晶體管器件層的步驟包括:在所述第二阻擋層上形成所述薄膜晶體管器件層。
在本發(fā)明所述的制造方法中,所述在所述薄膜晶體管器件層的顯示區(qū)域上依次形成有機(jī)發(fā)光層和第一阻擋層的步驟包括:
在所述薄膜晶體管器件層的顯示區(qū)域上形成有機(jī)發(fā)光層;
在所述有機(jī)發(fā)光層上依次形成第一氮化硅層、第一有機(jī)層、第二氮化硅層、第二有機(jī)層、第三氮化硅層以及第三有機(jī)層,以形成所述第一阻擋層。
本發(fā)明實(shí)施例還提供一種使用上述制造方法制造的柔性顯示面板。
相較于現(xiàn)有的柔性顯示面板,本發(fā)明的柔性顯示面板,在非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層上形成補(bǔ)償層,由此可以通過控制補(bǔ)償層的厚度以使得柔性顯示面板彎曲時(shí),非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層為中性層,由此可以使得非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層既不受拉伸力也不受壓縮力,即非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層在彎曲過程中的長度和彎曲前一致,從而可以減小非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層發(fā)生斷裂的幾率。
為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂,下文特舉優(yōu)選實(shí)施例,并配合所附圖式,作詳細(xì)說明如下:
附圖說明
圖1本發(fā)明柔性顯示面板的制造方法一實(shí)施方式的流程圖;
圖2是本發(fā)明柔性顯示面板的制造方法一實(shí)施方式的流程圖,其中圖中為各步驟形成的結(jié)構(gòu)示意;
圖3是本發(fā)明柔性顯示面板的制造方法另一實(shí)施方式的流程圖,其中圖中為各步驟形成的結(jié)構(gòu)示意;
圖4是本發(fā)明柔性顯示面板一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5是本發(fā)明柔性顯示面板另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式,用以例示本發(fā)明可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本發(fā)明所提到的方向用語,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「?jìng)?cè)面」等,僅是參考附加圖式的方向。因此,使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明,而非用以限制本發(fā)明。
在圖中,結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號(hào)表示。
參閱圖1,在本發(fā)明柔性顯示面板的制造方法一實(shí)施方式中,柔性顯示面板為柔性O(shè)LED顯示面板,所述制造方法包括如下步驟:
步驟S101:提供柔性基板。
柔性基板例如可以是聚酰亞胺(PI)材料形成的基板。
步驟S102:在柔性基板上形成薄膜晶體管器件層,薄膜晶體管器件層包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域。
薄膜晶體管器件層即用于形成薄膜晶體管的膜層。結(jié)合圖2,圖2是本發(fā)明柔性顯示面板的制造方法一實(shí)施方式的流程圖,其中圖中為各步驟形成的結(jié)構(gòu)示意。對(duì)應(yīng)于圖2的步驟S201,在柔性基板21上形成薄膜晶體管器件層22。其中,薄膜晶體管器件層22包括顯示區(qū)域221和非顯示區(qū)域222,顯示區(qū)域221和非顯示區(qū)域222以圖中虛線為界。
步驟S103:在薄膜晶體管器件層的顯示區(qū)域上依次形成有機(jī)發(fā)光層和第一阻擋層。
對(duì)應(yīng)于圖2的步驟S202,在薄膜晶體管器件層22的顯示區(qū)域221上形成有機(jī)發(fā)光層23,然后在有機(jī)發(fā)光層23上形成第一阻擋層24。第一阻擋層24用于阻擋水汽、氧氣等進(jìn)入有機(jī)發(fā)光層23,避免有機(jī)發(fā)光層23的金屬與水汽、氧氣等發(fā)生反應(yīng),進(jìn)而避免保護(hù)器件性能下降。
步驟S104:在薄膜晶體管器件層的非顯示區(qū)域上形成預(yù)定厚度的補(bǔ)償層,以使得柔性顯示面板彎曲時(shí),非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層為中性層。
對(duì)應(yīng)于圖2的步驟S203,在薄膜晶體管器件層22的非顯示區(qū)域222上形成預(yù)定厚度的補(bǔ)償層25,以使得柔性顯示面板彎曲時(shí)非顯示區(qū)域222的薄膜晶體管器件層22為中性層。
根據(jù)材料彎曲理論可知,材料在彎曲過程中,外層受拉伸,內(nèi)層受擠壓,在其斷面上必然存在一個(gè)既不受拉,也不受壓的過渡層,該過渡層即稱為材料的中性層。中性層的切向應(yīng)力幾乎為零,并且中性層在彎曲過程中的長度和彎曲前一致。
其中,中性層在材料中的位置受板材厚度、力學(xué)性能、相對(duì)彎曲半徑等因素影響。因此,本實(shí)施方式中,通過控制補(bǔ)償層25的厚度,以控制柔性顯示面板在非顯示區(qū)域的厚度,從而可以控制柔性顯示面板彎曲時(shí)非顯示區(qū)域的中性層落在非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層22,即在柔性顯示面板彎曲時(shí)使得非顯示區(qū)域222的薄膜晶體管器件層22為中性層,由此可以使得非顯示區(qū)域222的薄膜晶體管器件層22既不受拉伸力也不受壓縮力,使其在彎曲過程的長度和彎曲前一致,從而可以大大降低位于非顯示區(qū)域222的薄膜晶體管器件層22發(fā)生斷裂的幾率。
其中,所述預(yù)定厚度為能夠使得非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層為中性層的厚度,該厚度可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)取得。根據(jù)材料彎曲理論,在實(shí)驗(yàn)過程中,可通過改變補(bǔ)償層的厚度以改變?nèi)嵝燥@示面板在非顯示區(qū)域的中性層位置,直至使得中性層落在非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層。因此,經(jīng)過有限次的實(shí)驗(yàn)可以確定補(bǔ)償層的所述預(yù)定厚度。
其中,可以理解的是,可以通過控制第一阻擋層24的厚度以在柔性顯示面板彎曲時(shí)使得柔性顯示面板在顯示區(qū)域的中性層落在薄膜晶體管器件層22和有機(jī)發(fā)光層23,即使得顯示區(qū)域221的薄膜晶體管器件層22和有機(jī)發(fā)光層23為中性層,從而可以減小顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層和有機(jī)發(fā)光層發(fā)生斷裂的幾率。第一阻擋層24的厚度同樣可以根據(jù)有限次實(shí)驗(yàn)取得。
其中,步驟S103和步驟S104可以是同時(shí)進(jìn)行,也可以先進(jìn)性步驟S103,再進(jìn)行步驟S104,或者先進(jìn)性步驟S104,再進(jìn)行步驟S103,對(duì)兩個(gè)步驟的先后順序不做限定。
在本發(fā)明一實(shí)施方式中,在薄膜晶體管器件層的非顯示區(qū)域上形成預(yù)定厚度的補(bǔ)償層的步驟具體包括:在薄膜晶體管器件層的非顯示區(qū)域上涂布預(yù)定厚度的紫外光固化膠(UV膠)。即補(bǔ)償層25為紫外光固化膠形成。在另一實(shí)施方式中,補(bǔ)償層25也可以是塔菲(tuffy)膠形成,或者還可以是氮化硅材料形成。
參閱圖3,圖3是本發(fā)明柔性顯示面板的制造方法另一實(shí)施方式的流程圖,其中圖中為各步驟形成的結(jié)構(gòu)示意。如圖3所示,與上述實(shí)施方式主要不同的是,在步驟S301中,在柔性基板21上形成第二阻擋層26,之后在第二阻擋層26上形成薄膜晶體管器件層22,即在柔性基板21上形成薄膜晶體管器件層22之前,先在柔性基板21上形成第二阻擋層26。第二阻擋層26用于阻擋水汽、氧氣等進(jìn)入薄膜晶體管器件層22和有機(jī)發(fā)光層23。
其中,第二阻擋層26可以是氮化硅層,也可以是有機(jī)層,有機(jī)層例如可以是亞克力形成。
在步驟302中,在薄膜晶體管器件層22的顯示區(qū)域221上形成有機(jī)發(fā)光層23,之后在有機(jī)發(fā)光層23上依次形成第一氮化硅層241、第一有機(jī)層242、第二氮化硅層243、第二有機(jī)層244、第三氮化硅層245以及第三有機(jī)層246,以形成所述第一阻擋層24。即本實(shí)施方式的第一阻擋層24包括第一氮化硅層241、第一有機(jī)層242、第二氮化硅層243、第二有機(jī)層244、第三氮化硅層245以及第三有機(jī)層246。
其中,第一有機(jī)層242、第二有機(jī)層244以及第三有機(jī)層246可以是亞克力層。
在其他實(shí)施方式中,第一阻擋層24可以僅是一層氮化硅層,或者僅是一層有機(jī)層,或者還可以是一層氮化硅層和一層有機(jī)層的組合,或者是兩個(gè)氮化硅層之間夾一層有機(jī)層的組合等等。
在步驟S303中,在薄膜晶體管器件層22的非顯示區(qū)域222上形成預(yù)定厚度的補(bǔ)償層25。
參閱圖4,本發(fā)明柔性顯示面板一實(shí)施方式中,柔性顯示面板包括柔性基板21以及依次形成在柔性基板21上的薄膜晶體管器件層22、有機(jī)發(fā)光層23以及第一阻擋層24。
柔性基板例如可以是聚酰亞胺(PI)材料形成的基板。薄膜晶體管器件層即用于形成薄膜晶體管開關(guān)的膜層。其中,通過第一阻擋層24可以阻擋水汽、氧氣等進(jìn)入有機(jī)發(fā)光層23,避免有機(jī)發(fā)光層23的金屬與水汽、氧氣等發(fā)生反應(yīng),進(jìn)而避免保護(hù)器件性能下降。
其中,薄膜晶體管器件層22包括顯示區(qū)域221和非顯示區(qū)域222。有機(jī)發(fā)光層23和第一阻擋層24位于薄膜晶體管器件層22的顯示區(qū)域221上。薄膜晶體管器件層22的非顯示區(qū)域222上形成有預(yù)定厚度的補(bǔ)償層25,以使得柔性顯示面板彎曲時(shí),非顯示區(qū)域222的薄膜晶體管器件層22為中性層。
其中,補(bǔ)償層25例如可以是紫外光固化膠層,或者塔菲(tuffy)膠層,或者還可以是氮化硅層等。
根據(jù)材料彎曲理論可知,材料在彎曲過程中,外層受拉伸,內(nèi)層受擠壓,在其斷面上必然存在一個(gè)既不受拉,也不受壓的過渡層,該過渡層即稱為材料的中性層。中性層的切向應(yīng)力幾乎為零,并且中性層在彎曲過程中的長度和彎曲前一致。
其中,中性層在材料中的位置受板材厚度、力學(xué)性能、相對(duì)彎曲半徑等因素影響。因此,本實(shí)施方式的柔性顯示面板,可以通過控制補(bǔ)償層25的厚度,以控制柔性顯示面板在非顯示區(qū)域的厚度,從而可以控制柔性顯示面板彎曲時(shí)非顯示區(qū)域的中性層落在非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層22,即在柔性顯示面板彎曲時(shí)使得非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層22為中性層,由此可以使得非顯示區(qū)域222的薄膜晶體管器件層22既不受拉伸力也不受壓縮力,使其在彎曲過程的長度和彎曲前一致,從而可以大大降低非顯示區(qū)域222的薄膜晶體管器件層22發(fā)生斷裂的幾率。
其中,所述預(yù)定厚度為能夠使得非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層為中性層的厚度,該厚度可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)取得。根據(jù)材料彎曲理論,在實(shí)驗(yàn)過程中,可通過改變補(bǔ)償層的厚度以改變?nèi)嵝燥@示面板在非顯示區(qū)域的中性層位置,直至使得中性層落在非顯示區(qū)域的薄膜晶體管器件層。因此,經(jīng)過有限次的實(shí)驗(yàn)可以確定補(bǔ)償層的所述預(yù)定厚度。
參閱圖5,在本發(fā)明柔性顯示面板另一實(shí)施方式中,柔性顯示面板進(jìn)一步包括位于柔性基板21和薄膜晶體管器件層22之間的第二阻擋層26。第二阻擋層26可以是氮化硅層,也可以是有機(jī)層,有機(jī)層例如可以是亞克力形成。
通過第二阻擋層26的作用,可以進(jìn)一步防止水汽、氧氣等從柔性基板21一側(cè)進(jìn)入薄膜晶體管器件層22和有機(jī)發(fā)光層23。
本實(shí)施方式中,第一阻擋層24包括依次形成在有機(jī)發(fā)光層23上的第一氮化硅層241、第一有機(jī)層242、第二氮化硅層243、第二有機(jī)層244、第三氮化硅層245以及第三有機(jī)層246。
其中,第一有機(jī)層242、第二有機(jī)層244以及第三有機(jī)層246可以是亞克力層。
在其他實(shí)施方式中,第一阻擋層24可以僅是氮化硅層,或者僅是有機(jī)層,或者還可以是一層氮化硅層和一層有機(jī)層的組合。
綜上所述,雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上,但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),均可作各種更動(dòng)與潤飾,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。