本發(fā)明涉及顯示裝置，例如撓性的el顯示裝置。

背景技術(shù)：

作為顯示裝置的代表例能夠列舉在各像素具有液晶元件、發(fā)光元件的液晶顯示裝置、有機(jī)el(electroluminescence)顯示裝置等。這些顯示裝置在形成在基板上的多個(gè)像素的各像素中具有液晶元件或者有機(jī)發(fā)光元件(以下，稱為發(fā)光元件)等的顯示元件。液晶元件、發(fā)光元件分別在一對(duì)電極間具有包含液晶或者有機(jī)化合物的層(以下，稱為有機(jī)層)，通過對(duì)一對(duì)電極間施加電壓或者供給電流而被驅(qū)動(dòng)。

發(fā)光元件是全固體的顯示元件，所以，即使對(duì)顯示裝置賦予撓性進(jìn)行折彎或彎曲，原則上對(duì)顯示品質(zhì)不產(chǎn)生影響。利用該特性，制作了在撓性的基板上制作有發(fā)光元件的、所謂的撓性顯示器(薄板顯示器)。例如在日本特開2013-15835號(hào)公報(bào)中，公開了能夠折彎的撓性有機(jī)el顯示裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明想要解決的技術(shù)問題

本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式是一種顯示裝置，其包括：基材；所述基材上的顯示區(qū)域；位于所述基材上，并且從所述顯示區(qū)域向所述顯示區(qū)域的外側(cè)延伸的配線；和所述基材上的一對(duì)金屬膜，所述配線位于所述一對(duì)金屬膜之間。

本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式是一種顯示裝置，其包括：基材；所述基材上的顯示區(qū)域；位于所述基材上，并且從所述顯示區(qū)域向所述顯示區(qū)域的外側(cè)延伸的配線；和所述基材上的金屬膜，所述基材以具有通過折彎而形成的彎曲區(qū)域和夾著所述彎曲區(qū)域的兩個(gè)平坦區(qū)域的方式形成，所述金屬膜在所述彎曲區(qū)域和所述兩個(gè)平坦區(qū)域中延伸。

附圖說明

圖1是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的俯視示意圖。

圖2是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的截面示意圖。

圖3是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的截面示意圖。

圖4a、圖4b是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的立體圖和俯視圖。

圖5a、圖5b是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的截面示意圖。

圖6a、圖6b是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的截面示意圖。

圖7是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的截面示意圖。

圖8a、圖8b、圖8c是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的俯視示意圖。

圖9是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的俯視示意圖。

圖10是一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置的俯視示意圖。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖等說明本發(fā)明的各實(shí)施方式。其中，本發(fā)明能夠在不脫離其主旨的范圍內(nèi)以各種方式實(shí)施，不限于以下所例示的實(shí)施方式的記載內(nèi)容進(jìn)行解釋。

為了使說明更加明確，與實(shí)際的情況相比，附圖中有時(shí)示意地表示各部分的寬度、厚度、形狀等，但是，終究是一個(gè)例子，不限定本發(fā)明的解釋。在本說明書和各圖中，對(duì)具有與關(guān)于已述的圖說明了的內(nèi)容相同的功能的要素，標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記，省略重復(fù)的說明。

在本發(fā)明中，在對(duì)某一個(gè)膜進(jìn)行加工來形成多個(gè)膜的情況下，這些多個(gè)膜有可能具有不同的功能、作用。但是，這些多個(gè)膜來自在同一步驟中作為同一層所形成的膜，具有相同的層構(gòu)造、相同的材料。所以，上述多個(gè)膜定義為是存在于同一層的膜。

(第1實(shí)施方式)

在本實(shí)施方式中，使用圖1至圖4b說明本發(fā)明的一實(shí)施方式的顯示裝置。

圖1表示本實(shí)施方式的顯示裝置100的俯視圖。顯示裝置100在基材102的一個(gè)面(上表面)包括具有多個(gè)像素106的顯示區(qū)域104和柵極側(cè)驅(qū)動(dòng)電路(以下、稱為驅(qū)動(dòng)電路)108。像素106配置成矩陣狀。配線110從顯示區(qū)域104向基材102的側(cè)面(圖中，顯示裝置100的短邊)延伸，配線110在基材102的端部露出，露出部形成端子112。端子112與撓性的印刷電路(fpc)等的連接器120連接，由此，連接器120和顯示區(qū)域104通過配線110電連接。在本實(shí)施方式中，驅(qū)動(dòng)電路108以隔著顯示區(qū)域104的方式設(shè)置兩個(gè)，但是，驅(qū)動(dòng)電路108可以為一個(gè)。另外，驅(qū)動(dòng)電路108可以不設(shè)置在基材102上，而將設(shè)置在不同的基板上的驅(qū)動(dòng)電路形成在例如連接器120上。此外，在圖1中為了促進(jìn)理解，連接器120的一部分未圖示。

顯示區(qū)域104也經(jīng)由配線110與ic芯片114電連接。從外部電路(未圖示)供給的影像信號(hào)經(jīng)由驅(qū)動(dòng)電路108、ic芯片114被施加到像素106，來控制像素106的發(fā)光，影像在顯示區(qū)域104上再現(xiàn)。此外，雖然未圖示，但是，顯示裝置100可以在顯示區(qū)域104的周邊具有例如源極側(cè)驅(qū)動(dòng)電路來替代ic芯片114。

基材102通過使用具有撓性的膜等，能夠?qū)︼@示裝置100整體賦予撓性，通過將顯示裝置折彎或者彎曲能夠使顯示裝置100變形。撓性的基材102有時(shí)也被稱為基底膜。

各個(gè)像素106中具有發(fā)光元件。各像素106通過設(shè)置例如以紅色、綠色或者藍(lán)色發(fā)光的發(fā)光元件能夠進(jìn)行全彩色顯示(fullcolor)?；蛘?，可以在全部像素106中使用白色發(fā)光元件，使用彩色濾光片按每像素106取出紅色、綠色或者藍(lán)色進(jìn)行全彩色顯示。最終取出的顏色不限于紅色、綠色、藍(lán)色的組合，例如也能夠從像素106取出紅色、綠色、藍(lán)色、白色這4種顏色。像素106的配置沒有限制，能夠采用條形配置、三角形配置、鑲嵌配置等。

顯示裝置100還在基材102上具有電源線116。如后文所述，設(shè)置在各像素106的發(fā)光元件具有夾著有機(jī)層的一對(duì)電極，一個(gè)電極以覆蓋有機(jī)層的方式形成，此時(shí)，與電源線116電連接。電源線116也向基材102的側(cè)面延伸，在端部與連接器120電連接。

在顯示裝置100沿著與用于與連接器120的連接的基材102的側(cè)面不同的側(cè)面(圖中為顯示裝置100的長邊)設(shè)置有金屬膜118。本實(shí)施方式的金屬膜118以成對(duì)的方式設(shè)置有兩個(gè)，配線110以被該一對(duì)金屬膜118夾著的方式配置。另外，電源線116也以被一對(duì)金屬膜118夾著的方式配置。金屬膜118可以為電浮置，或者可以為被施加一定電位。如圖1所示，金屬膜118優(yōu)選設(shè)置成達(dá)到用于與連接器120的連接的基材102的側(cè)面。

圖2、圖3分別表示沿著圖1所示的直線a-b、c-d的截面示意圖。在圖2的截面a-b中，表示了顯示區(qū)域104、用于發(fā)光元件的一方的電極與電源線116的連接的區(qū)域(接觸區(qū)域)105。

如圖2所示，在顯示區(qū)域104內(nèi)的像素106設(shè)置有晶體管122、電容124、發(fā)光元件126等的元件。像素106中的各元件的構(gòu)成不限于這樣的構(gòu)成，像素106可以包括多個(gè)晶體管、多個(gè)電容。

參照?qǐng)D2，在基材102上隔著基底膜130設(shè)置有半導(dǎo)體膜132。作為能夠用于基材102的材料，能夠列舉玻璃、石英、金屬等。在對(duì)顯示裝置100賦予撓性的情況下，基材102例如能夠使用聚酰亞胺(材料)、聚酯纖維、丙烯酸樹脂等的高分子材料?；啄?30例如能夠包含氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、氮氧化硅等的無機(jī)材料，能夠使用化學(xué)氣相沉積法(cvd法)、濺射法等形成。圖2中，作為基底膜130描繪了具有三層構(gòu)造的例子。在該情況下，例如通過以氧化硅膜、氮化硅膜、氧化硅膜的順序?qū)盈B來形成基底膜130即可。最下層的氧化硅膜為了提高與基材102的緊貼性，中層的氮化硅膜作為防止水等的雜質(zhì)從外部侵入的阻擋膜，最上層的氧化硅膜作為阻擋膜分別設(shè)置以使氮化硅膜中所包含的氫原子不向晶體管122等的元件擴(kuò)散，但是，該結(jié)構(gòu)無特別限定。并且，也可以層疊其它的層，也可以使用單層或者雙層構(gòu)造的基底膜130。

半導(dǎo)體膜132能夠使用硅、顯示半導(dǎo)體特性的金屬氧化物等，應(yīng)用cvd法、濺射法等形成。半導(dǎo)體膜132的結(jié)晶性無制限，可以具有非晶、多晶、微晶、單晶的任意的結(jié)晶狀態(tài)。

顯示裝置100在半導(dǎo)體膜132上具有柵極絕緣膜134。柵極絕緣膜134能夠使用氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、氮氧化硅等的無機(jī)化合物，柵極絕緣膜134能夠使用cvd法、濺射法等形成。在柵極絕緣膜134上形成有第1金屬層，通過對(duì)其進(jìn)行蝕刻加工而在像素106內(nèi)形成晶體管122的柵極電極136、電容124的一方的電極138。因此，柵極電極136和電極138存在于同一層。

第1金屬層能夠使用金屬、合金，通過濺射法等形成。作為金屬能夠使用鋁、銅、鈦、鎢、鉬、鉭等，第1金屬層能夠以單層構(gòu)造、或者層疊構(gòu)造形成。例如能夠采用鈦和鋁的層疊構(gòu)造、用鈦或鉬等的高融點(diǎn)金屬夾持鋁或銅等的導(dǎo)電性高的金屬的構(gòu)造。由于柵極電極136和電極138存在于同一層，因此兩者也具有相同的層構(gòu)造，含有相同的材料。

半導(dǎo)體膜132可以具有摻雜了雜質(zhì)的源極·漏極區(qū)域和溝道區(qū)域。在該情況下，將柵極電極136用作掩模摻雜雜質(zhì)。另外，半導(dǎo)體膜132可以在溝道區(qū)域與源極·漏極區(qū)域之間具有以比源極·漏極區(qū)域低的濃度摻雜了雜質(zhì)的區(qū)域(低濃度雜質(zhì)區(qū)域)。

在柵極電極136、電極138之上設(shè)置有層間膜140。層間膜140使用能夠在基底膜130、柵極絕緣膜134中使用的材料，能夠以單層或者層疊構(gòu)造形成。例如以氮化硅膜和氧化硅膜的層疊構(gòu)造形成層間膜140。層間膜140具有保護(hù)晶體管122的功能，同時(shí)也具有作為電容124中的電介質(zhì)膜的功能。

顯示裝置100還在層間膜140之上具有源極電極142、漏極電極144。源極電極142、漏極電極144通過設(shè)置在層間膜140、柵極絕緣膜134的開口部與半導(dǎo)體膜132電連接。由半導(dǎo)體膜132、柵極絕緣膜134、柵極電極136、源極電極142、漏極電極144構(gòu)成晶體管122。此外，漏極電極144也形成在電極138之上，由電極138、層間膜140和漏極電極144中的與電極138重疊的部分構(gòu)成電容124。源極電極142、漏極電極144通過在層間膜140上形成第2金屬層后實(shí)施蝕刻加工來形成。因此，源極電極142和漏極電極144存在于同一層。第2金屬層使用在第1金屬層中能夠使用的材料，可以利用cvd法、濺射法等形成。例如能夠采用以鈦膜挾持鋁膜的層疊構(gòu)造。

此外，圖1所示的配線110也能夠與源極電極142、漏極電極144同時(shí)地形成(參照?qǐng)D3)。因此，配線110能夠存在于與源極電極142、漏極電極144相同的層。

在源極電極142和漏極電極144之上，為了吸收因晶體管122、電容124導(dǎo)致的高低差，實(shí)現(xiàn)平坦的表面而設(shè)置有平坦化膜146。平坦化膜146能夠使用丙烯酸樹脂、聚酰亞胺、聚硅氧烷等的高分子材料，使用旋涂法、噴涂(ink-jet)法、印刷法、浸涂法等形成。如圖2所示，基底膜130、柵極絕緣膜134、層間膜140和平坦化膜146不僅設(shè)置在顯示區(qū)域104，也設(shè)置在接觸區(qū)域105。此外，本實(shí)施方式的接觸區(qū)域105不包含半導(dǎo)體膜132，但是，可以在接觸區(qū)域105設(shè)置半導(dǎo)體膜132。

顯示裝置100在平坦化膜146上具有連接配線148、149。在接觸區(qū)域105中，連接配線149設(shè)置在平坦化膜146的平坦的表面上。在顯示區(qū)域104中，設(shè)置有設(shè)在平坦化膜146中的、且以覆蓋達(dá)到漏極電極144的開口部的方式設(shè)置的連接配線148。雖然未圖示，但是在形成開口部時(shí)，圖1中所示的端子112上的平坦化膜146也同時(shí)被除去。連接配線148、149例如利用濺射法等在平坦化膜146上形成銦-錫氧化物(ito)、銦-鋅氧化物(izo)等的具有透光性的含有導(dǎo)電性氧化物的膜，通過對(duì)其進(jìn)行蝕刻加工來形成。所以，連接配線148、149存在于同一層。此外，在形成連接配線148、149時(shí)，在端子112上也同時(shí)形成具有透光性的導(dǎo)電性氧化物。由此，能夠進(jìn)行端子112和連接器120的穩(wěn)定的電連接。

顯示裝置100還在顯示區(qū)域104內(nèi)具有電容配線150，在接觸區(qū)域105內(nèi)具有輔助配線152。這些配線在形成第3金屬層后通過蝕刻加工來形成。所以，電容配線150和輔助配線152存在于同一層。在接觸區(qū)域105中，輔助配線152與連接配線149彼此電連接，通過它們構(gòu)成電源線116。第3金屬層能夠使用鋁、銅、鈦、鉬、鎢、鉭等的金屬或者這些金屬的合金，以單層構(gòu)造或者層疊構(gòu)造形成。例如能夠使用鉬/鋁/鉬的層疊構(gòu)造。在連接配線148、149由ito、izo等的具有透光性的導(dǎo)電性氧化物形成的情況下，連接配線148、149的電阻比較高，在接觸區(qū)域105中引起電壓下降，但是，通過形成輔助配線152能夠抑制電壓下降。此外，在顯示區(qū)域104內(nèi)，并不一定需要設(shè)置連接配線148，但是，通過進(jìn)行設(shè)置，在形成電容配線150、輔助配線152的時(shí)能夠保護(hù)晶體管122的漏極電極144，能夠防止接觸電阻的增大。

顯示裝置100還在電容配線150、輔助配線152的具有絕緣膜154。絕緣膜154能夠使用氮化硅等的能夠用于柵極絕緣膜134、層間膜140的材料形成。絕緣膜154具有用于使進(jìn)行晶體管122與發(fā)光元件126的電連接的接觸部(即，形成在平坦化膜146的開口部的連接配線148的底面)、電源線116的一部分以及平坦化膜146的表面的一部分露出的開口部。

顯示裝置100還具有構(gòu)成發(fā)光元件126的第1電極158、有機(jī)層162、第2電極164。在使來自發(fā)光元件126的發(fā)光通過基材102而取出的情況下，能夠?qū)⒕哂型腹庑缘牟牧侠鏸to、izo等的導(dǎo)電性氧化物用于第1電極158。另一方面，在使來自發(fā)光元件126的發(fā)光從第2電極164側(cè)取出的情況下，能夠使用鋁、銀等的金屬或者它們的合金?；蛘?，能夠采用金屬或合金與導(dǎo)電性氧化物的層疊構(gòu)造，例如用導(dǎo)電性氧化物挾著金屬的層疊構(gòu)造(例如ito/銀/ito等)。此外，通過第1電極158和電容配線150以及由它們夾著的絕緣膜154附加地形成電容。

第2電極164在使來自發(fā)光元件126的發(fā)光通過基材102取出的情況下，能夠使用鋁、銀等的金屬或者它們的合金形成。另一方面，在使來自發(fā)光元件126的發(fā)光通過第2電極164取出的情況下，使用上述金屬、合金，以具有透過可見光的程度的膜厚的方式形成第2電極164即可?；蛘撸梢允褂镁哂型腹庑缘牟牧?、例如ito、izo等的導(dǎo)電性氧化物形成第2電極164。另外，在第2電極164能夠采用將上述金屬或合金與導(dǎo)電性氧化物的層疊構(gòu)造(例如mg-ag/ito等)。

在此，在第1電極158之上，設(shè)置有吸收第1電極158的端部和設(shè)置在平坦化膜146的開口部引起的高低差、并且用于將相鄰的像素106的第1電極158彼此電絕緣的分隔壁160。分隔壁160被稱為堰堤(肋)。分隔壁160能夠使用在平坦化膜146中能夠使用的材料形成。分隔壁160具有開口部以使第1電極158和電源線116的一部分露出，優(yōu)選其端部為平滑的錐形形狀。開口部的端部相對(duì)于第1電極158具有陡峭的傾斜度時(shí)，容易導(dǎo)致有機(jī)層162、第2電極164的覆蓋不良。平坦化膜146和分隔壁160通過設(shè)置在絕緣膜154的開口部的一個(gè)開口部156彼此接觸。通過采用這樣的構(gòu)造，在分隔壁160形成后的熱處理等中，能夠?qū)钠教够?46脫離的水蒸氣等的氣體通過分隔壁160釋放。

在圖2中有機(jī)層162作為單層的構(gòu)造描繪，但是，有機(jī)層162可以具有由多個(gè)層層疊而成的構(gòu)造。例如有機(jī)層162能夠適當(dāng)包括電荷注入層、電荷輸送層、發(fā)光層、電荷阻止層、電荷產(chǎn)生層等的層。在全部的像素106中可以采用具有相同構(gòu)造的有機(jī)層162，也可以在相鄰的像素106之間使用構(gòu)造不同的有機(jī)層。有機(jī)層162能夠通過蒸鍍法、噴涂法、印刷法、旋涂法等形成。從第1電極158和第2電極164將載流子(電子、空穴)注入有機(jī)層162，通過載流子的再結(jié)合而取得的激勵(lì)狀態(tài)經(jīng)由在基底狀態(tài)進(jìn)行緩和的處理而得到發(fā)光。所以，發(fā)光元件126中的、有機(jī)層162與第1電極158彼此直接相接的區(qū)域是發(fā)光區(qū)域。

發(fā)光元件126的第2電極164延伸至接觸區(qū)域105，與連接配線149電連接。所以，通過晶體管122供給的電流，在第1電極158作為陽極發(fā)揮作用的情況下，按第1電極158、有機(jī)層162、第2電極164、電源線116的順序流動(dòng)。

顯示裝置100還在第2電極164上具有保護(hù)膜166(鈍化層)。保護(hù)膜166的功能之一在于防止水分從外部侵入發(fā)光元件126，作為保護(hù)膜166優(yōu)選氣體阻隔性高的材料。例如優(yōu)選使用氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧氮化硅等的無機(jī)材料形成保護(hù)膜166?；蛘撸梢允褂冒┧針渲?、聚硅氧烷、聚酰亞胺、聚酯纖維等的有機(jī)樹脂。例如，可以采用由無機(jī)材料形成的膜和使用有機(jī)樹脂形成的膜的層疊構(gòu)造。具體來說，能夠列舉氮化硅、氧化硅、丙烯酸樹脂、氮化硅的層疊構(gòu)造等。上述的各層能夠使用蒸鍍法、cvd法、濺射法等形成。

作為任意的結(jié)構(gòu)，顯示裝置100可以在保護(hù)膜166上具有相對(duì)基板。相對(duì)基板使用接合劑(粘合劑)通過保護(hù)膜166與基材102固定。此時(shí)，顯示裝置100可以在相對(duì)基板與保護(hù)膜166之間的空間具有不活潑氣體，或者具有樹脂等的充填材料。在具有充填材料的情況下，優(yōu)選充填材料相對(duì)于可見光具有高透明性。相對(duì)基板可以在與發(fā)光區(qū)域重疊的區(qū)域具備具有開口部的遮光膜、在與發(fā)光區(qū)域重疊的區(qū)域具有彩色濾光片。遮光膜使用鉻、鉬等反射率比較低的金屬、或者在樹脂材料中含有黑色或者相當(dāng)于它的著色劑的材料，具有遮擋從發(fā)光區(qū)域直接取得的光以外的散射光、外光反射等的功能。彩色濾光片的光學(xué)特性在每個(gè)像素106中改變，例如能夠形成為取出紅色、綠色、藍(lán)色的發(fā)光。遮光膜和彩色濾光片可以隔著基底膜設(shè)置在相對(duì)基板，另外，還可以以覆蓋遮光膜和彩色濾光片的方式設(shè)置覆蓋層。

在顯示裝置100具有相對(duì)基板的情況下，以發(fā)光元件126被相對(duì)基板和基材102夾著的方式，通過設(shè)置在顯示區(qū)域104的周邊的接合劑(粘合劑)將相對(duì)基板與基材102貼合。接合劑可以包含用于調(diào)整相對(duì)基板和基材102之間的間隔的間隔物?；蛘撸@示裝置100可以在顯示區(qū)域104內(nèi)的像素106之間具有成為間隔物的構(gòu)造體。

參照?qǐng)D3，金屬膜118設(shè)置于在晶體管122設(shè)置的柵極絕緣膜134上。該金屬膜118也能夠通過對(duì)第1金屬層進(jìn)行蝕刻加工而形成。所以，金屬膜118與晶體管122的柵極電極136、電容124的電極138存在于相同的層。具體來說，金屬膜118、晶體管122的柵極電極136、電容124的一方的電極138設(shè)置在兩個(gè)絕緣膜(柵極絕緣膜134和層間膜140)之間。如上所述，配線110設(shè)置在層間膜140上，能夠通過對(duì)第2金屬層進(jìn)行蝕刻加工而形成。因此，配線110與晶體管122的源極電極142、漏極電極144存在于相同的層。電源線116設(shè)置在平坦化膜146上，在其上具由絕緣膜154、分隔壁160、保護(hù)膜166。

如上所述，通過使用具有撓性的基材102，能夠?qū)︼@示裝置100賦予撓性。例如以圖1所示的假想的軸170為中心，如圖4a所示，能夠以顯示區(qū)域104位于外側(cè)的方式折彎顯示裝置100。在此，軸170是以彎曲區(qū)域的至少一部分為外周的軸。在該情況下，如圖4a所示，形成有彎曲區(qū)域和夾著該彎曲區(qū)域的兩個(gè)平坦區(qū)域。而且，彎曲區(qū)域位于顯示區(qū)域104與連接器120之間，顯示區(qū)域104和端子112分別位于兩個(gè)平坦的區(qū)域。在如上所述那樣折彎了顯示裝置100的情況下，被施以最大負(fù)荷的區(qū)域是彎曲區(qū)域，因此，在彎曲時(shí)該區(qū)域容易破損。破損容易在基材102的端部產(chǎn)生，如圖4b所示，在接近軸170的區(qū)域，從基材102的端部產(chǎn)生裂紋180。裂紋180從基材102的端部向內(nèi)側(cè)成長，誘發(fā)電源線116、配線110的破損、斷線。

本實(shí)施方式的顯示裝置100具有一對(duì)金屬膜118，配線110、電源線116配置成被一對(duì)金屬膜118夾著。另外，金屬膜118配置成與將顯示裝置100折彎時(shí)的軸170重疊或者與其交叉。在圖1中，金屬膜118在與軸170垂直的方向上延伸。在將具有這樣的結(jié)構(gòu)的顯示裝置100折彎時(shí)，金屬膜118不僅包含平坦區(qū)域，也包含彎曲區(qū)域。在該情況下，即使在基材102的端部產(chǎn)生裂紋180，在達(dá)到金屬膜118的階段裂紋180的成長停止或者成長的速度大幅降低。所以，能夠防止電源線116、配線110的破損、斷線，其結(jié)果是，能夠提高顯示裝置100的可靠性。

(第2實(shí)施方式)

在本實(shí)施方式中，使用圖5a至圖7說明本發(fā)明的一實(shí)施方式的顯示裝置。對(duì)與第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)省略說明。

在第1實(shí)施方式中，金屬膜118與包含于像素106的晶體管122的柵極電極136存在于相同的層，將一方連接器120與顯示區(qū)域104電連接的配線110與晶體管122的源極電極142、漏極電極144存在于相同的層。在本實(shí)施方式中，包含金屬膜118、配線110和電源線116的層的位置關(guān)系與第1實(shí)施方式的位置關(guān)系不同。

具體來說，如圖5a所示，金屬膜118能夠與配線110存在于相同的層，配置在晶體管122的層間膜140之上且在平坦化膜146之下。因此，金屬膜118能夠與晶體管122的源極電極142、漏極電極144存在于相同的層。

或者，如圖5b所示，金屬膜118雖然與配線110存在于相同的層，也能夠配置在晶體管122的柵極絕緣膜134之上且在層間膜140之下。所以，金屬膜118能夠與晶體管122的柵極電極136存在于相同的層。

或者，如圖6a所示，金屬膜118與配線110雖然存在于彼此不同的層，但能夠?qū)⒔饘倌?18配置在層間膜140與平坦化膜146之間，能夠?qū)⑴渚€110配置在柵極絕緣膜134與層間膜140之間。即，金屬膜118能夠與晶體管122的源極電極142、漏極電極144存在于相同的層。

或者，如圖6b所示，金屬膜118與配線110雖然存在于彼此不同的層，但也能夠?qū)⒔饘倌?18配置在平坦化膜146與絕緣膜154之間。即，金屬膜118能夠與電源線116、或者電源線116的輔助配線152存在于相同的層。

或者，如圖7所示，金屬膜118與配線110雖然存在于彼此不同的層，但也能夠?qū)⒔饘倌?18配置在平坦化膜146與絕緣膜154之間的位置且與連接配線149存在于相同的層。

與第1實(shí)施方式同樣，本實(shí)施方式的顯示裝置100具有金屬膜118，配線110、電源線116與金屬膜118相比，配置在距基材102的端部較遠(yuǎn)的位置。因此，在基材102具有撓性的情況下，即使由于使顯示裝置100變形而在基材102的端部產(chǎn)生裂紋180，在到達(dá)金屬膜118的階段裂紋180的成長停止或者成長的速度大幅降低。因此，能夠防止電源線116、配線110的破損、斷線，其結(jié)果是，能夠提高顯示裝置100的可靠性。

(第3實(shí)施方式)

在本實(shí)施方式中，使用圖8a至圖8c說明本發(fā)明的一實(shí)施方式的顯示裝置。對(duì)與第1、第2實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)省略說明。

本實(shí)施方式的金屬膜118其平面形狀與第1、第2實(shí)施方式不同。具體來說，如由圖8a中的橢圓包圍的區(qū)域所示，金屬膜118能夠在與配線110交叉的方向上具有凸部。在圖8a中，凸部具有相對(duì)于基材102的端部向相反方向突出的形狀，但是，金屬膜118也可以具有向端部的方向突出的凸部。此時(shí)，凸部也可以到達(dá)基材102的端部。另外，金屬膜118也可以在向基材102的端部延伸的方向和向配線110延伸的方向這兩個(gè)方向上具有凸部。

或者，如圖8b所示，金屬膜118可以設(shè)置成至少其一部分與配線110、電源線116交叉。在該情況下，可以以金屬膜118的一部分與配線110、電源線116或者其一部分垂直交叉的方式配置金屬膜118。另外，圖1中所示的一對(duì)金屬膜118可以彼此連接?；蛘?，如圖8c所示，金屬膜118整體可以在與配線110交叉的方向上延伸，也可以設(shè)置成與配線110、電源線116正交。

在想要將顯示裝置100折彎時(shí)，通過在施加彎曲的區(qū)域的部分設(shè)置本實(shí)施方式中所示的形狀的金屬膜118，由此能夠與折彎顯示裝置100的軸170平行地配置金屬膜118。因此，在彎曲區(qū)域中即使在基材102的端部產(chǎn)生裂紋180，也能夠有效且可靠地防止其成長，能夠提供可靠性高的顯示裝置。

(第4實(shí)施方式)

在本實(shí)施方式中，使用圖9、10說明本發(fā)明的一實(shí)施方式的顯示裝置。對(duì)與第1至第3實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)省略說明。

本實(shí)施方式的金屬膜118其平面配置與第1至第3實(shí)施方式不同。具體而言，如圖9所示，在顯示裝置100以一對(duì)金屬膜118夾著顯示區(qū)域104的方式設(shè)置。或者，如圖10所示，以夾著配線110和顯示區(qū)域104這兩者的方式配置一對(duì)金屬膜118。

通常在顯示區(qū)域104再現(xiàn)影像時(shí)，將顯示區(qū)域104折彎的頻率較少。但是，例如以在無意地將顯示區(qū)域104折彎、即以在彎曲區(qū)域中包含顯示區(qū)域104的方式將顯示裝置100折彎時(shí)，即使在顯示區(qū)域104附近的基材102的端部產(chǎn)生裂紋180，也能夠使其成長停止或者使成長速度降低。因此，不僅能夠防止配線110的破壞也能夠防止顯示區(qū)域104的破壞，能夠提供可靠性高的撓性顯示裝置。

作為本發(fā)明的實(shí)施方式的上述各實(shí)施方式只要彼此不矛盾，就能夠適當(dāng)組合進(jìn)行實(shí)施。另外，以各實(shí)施方式的顯示裝置為基礎(chǔ)，本領(lǐng)域技術(shù)人員適當(dāng)進(jìn)行構(gòu)成要素的追加、削除或者設(shè)計(jì)變更、或者工序的追加、省略或者條件變更，只要具有本發(fā)明的要旨，就包含于本發(fā)明的范圍中。

在本說明書中，作為公開例主要例示了el顯示裝置的情況，但是作為另外的應(yīng)用例，能夠列舉其它的自發(fā)光型顯示裝置、液晶顯示裝置、或者具有電泳元件等的電子紙型顯示裝置等、所謂的平板型的顯示裝置。另外，從中小型至大型，只要無特別限定就能夠應(yīng)用。

與由上述各實(shí)施方式的方式所帶來的作用效果不同的另外的作用效果，根據(jù)本說明書的記載可明確，或者本領(lǐng)域技術(shù)人員容易想到的方案，當(dāng)然也理解為包含于本發(fā)明。