技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種鰭式場效應(yīng)晶體管金屬圖案的制備方法，包括：提供金屬層圖形的目標(biāo)圖案版圖，將目標(biāo)圖案版圖中的目標(biāo)圖案先反相，再拆分，分成線層圖案版圖和線端切除層圖案版圖；提供一襯底，襯底具有鰭層和柵極層；并且，在襯底上沉積介質(zhì)層和第一硬掩膜層；采用線層圖案版圖，經(jīng)光刻和刻蝕工藝，在第一硬掩膜層中刻蝕出線層圖案；采用線端切除層圖案版圖，經(jīng)光刻和刻蝕工藝，將第一硬掩膜層中相應(yīng)的線層圖案的線端切除；在線層圖案和暴露的介質(zhì)層上沉積第二硬掩膜層；去除第一硬掩模層的線層圖案，保留第二硬掩膜層；以第二硬掩膜層為掩膜，刻蝕介質(zhì)層，在介質(zhì)層中形成溝槽圖案；在溝槽圖案中填充金屬并且平坦化金屬表面，從而形成金屬圖案。

技術(shù)研發(fā)人員：袁偉;李銘
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海集成電路研發(fā)中心有限公司
文檔號碼：201611233807
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.28
技術(shù)公布日：2017.06.06