本發(fā)明涉及顯示裝置及顯示裝置的制造方法。

背景技術：

近年來，使用有機el(electro-luminescent)元件的有機el顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示裝置正在被實用化。然而，由于有機el元件對于水分子、氧分子等而言脆弱，因此有機el元件可能會發(fā)生劣化、發(fā)生暗斑(darkspot)等點亮不良。另外，液晶顯示裝置中也發(fā)生下述問題，即，受侵入的水分的影響從而薄膜晶體管(thinfilmtransistor)的特性發(fā)生變動，顯示質量發(fā)生劣化

因此，例如專利文獻1公開了下述顯示裝置：在玻璃基板上的基板表面內的周邊部形成具有吸濕性的鈣部件(日文為“カルシウム部材”)，通過用貼合玻璃基板和保護玻璃的粘接劑覆蓋該鈣部件，從而防止水分子侵入顯示區(qū)域中。

另外，例如專利文獻2公開了下述顯示裝置：在形成發(fā)光元件的元件基板、和與元件基板貼合的封固基板之間設置極性體，該極性體吸附將兩基板貼合的密封材中所含的氣泡，由此防止氣泡中所含的氧分子、水分子和發(fā)光元件發(fā)生化學反應。

另外，引用文獻3公開了下述有機el顯示裝置，其具有以密封有機el層的方式形成的密封部件，在由密封部件密封的空間內的任意位置形成脫氧脫水部。

另外，引用文獻4公開了下述顯示裝置：通過具有在基板的外周部分中利用粘接劑覆蓋電極層的封固基板，從而防止水分等從封固基板的外部侵入。

此外，引用文獻5公開了下述顯示裝置：向斥液性的框體的外周涂布密封材，將含有吸濕性物質的層與平板元件基板的有機el元件對置并貼合，在此基礎上進一步將密封材固化從而進行封固，由此防止水分等侵入框體的內部。

現(xiàn)有技術文獻

專利文獻

[專利文獻1]日本特開2006-80094號公報

[專利文獻2]日本特開2010-198926號公報

[專利文獻3]日本特開2002-8852號公報

[專利文獻4]日本特開2013-110116號公報

[專利文獻5]日本特開2008-77951號公報

技術實現(xiàn)要素：

發(fā)明所要解決的課題

像上述現(xiàn)有技術文獻那樣，即便利用密封材等有機材料將形成了有機el元件的基板的外周進行封固，水分也會經由密封材等而緩慢地向顯示區(qū)域內侵入。另外，即便設為在基板上形成吸濕劑等的構成的情況下，在形成吸濕劑的工序之后，由于在直至完成顯示面板的過程中吸濕劑與水分等發(fā)生反應，因此在完成顯示面板的時刻，吸濕劑的性能降低。

本發(fā)明是鑒于上述課題而做出的，其目的在于提供一種可有效抑制水分子向發(fā)光元件的侵入、防止發(fā)光元件的劣化的圖像顯示裝置。

用于解決課題的手段

本發(fā)明的一個方式為一種顯示裝置，具有由多個像素構成的顯示區(qū)域，其特征在于，具有第1基板、第2基板和粘接層，所述第1基板具有形成于所述顯示區(qū)域的周圍的吸濕劑、和覆蓋所述吸濕劑的封固膜，所述第2基板與所述第1基板相對配置，所述粘接層的至少一部分配置在比所述吸濕劑更靠近所述顯示區(qū)域的一側、并粘接所述第1基板和所述第2基板。

另外，本發(fā)明的另一個方式為一種顯示裝置，其具有顯示區(qū)域和比所述顯示區(qū)域更靠近外側的周邊區(qū)域，所述顯示區(qū)域具有多個像素，其特征在于，所述多個像素分別具有包括陽極電極、發(fā)光層和陰極電極的發(fā)光元件，所述發(fā)光元件設置于第1基板，所述第1基板設置有封固膜，所述封固膜跨過所述顯示區(qū)域和所述周邊區(qū)域地位于所述顯示區(qū)域和所述周邊區(qū)域、并覆蓋所述發(fā)光元件，所述周邊區(qū)域設置有吸濕劑，所述吸濕劑位于所述第1基板和所述封固膜之間，所述周邊區(qū)域設置有圍繞所述顯示區(qū)域的隔離劑(日文為“ダム剤”)，所述封固膜的一部分和所述吸濕劑被所述隔離劑覆蓋。

另外，本發(fā)明的另一個方式為一種顯示裝置的制造方法，所述顯示裝置具有由多個像素構成的顯示區(qū)域，其特征在于，具有下述工序：形成第1基板的工序，所述第1基板具有形成于所述顯示區(qū)域的外側的周邊區(qū)域的吸濕劑、及以覆蓋所述吸濕劑的方式形成的封固膜；形成第2基板的工序，所述第2基板與所述第1基板相對；滴加粘接劑的工序，向所述第1基板或所述第2基板的一方滴加由有機系材料形成的粘接劑；形成裂紋的工序，通過所述粘接劑將所述第1基板和所述第2基板貼合，并利用加壓在所述封固膜中形成裂紋。

附圖說明

[圖1]為概略表示本發(fā)明的實施方式涉及的顯示裝置的圖。

[圖2]為表示從顯示一側觀察有機el面板而得的構成的圖。

[圖3]為用于說明有機el面板的剖面的圖。

[圖4]為用于說明吸濕劑的配置布局的圖。

[圖5]為用于說明有機el面板的制造工序的圖。

[圖6]為用于說明有機el面板的制造工序的圖。

[圖7]為用于說明有機el面板的制造工序的圖。

附圖標記說明

100顯示裝置

110上邊框

120下邊框

200有機el面板

201陣列基板

202對置基板

203驅動ic

204子像素

205顯示區(qū)域

301下玻璃基板

302tft電路層

303有機平坦化膜

304陽極電極

305有機堤

306有機膜

307陰極電極

308吸濕劑

309封固膜

310上玻璃基板

311紅色彩色濾光片層

312綠色彩色濾光片層

313藍色彩色濾光片層

314遮光層

315填充劑

316隔離劑

317漏電極

318像素晶體管

319周邊區(qū)域。

具體實施方式

以下，參照附圖說明本發(fā)明的各實施方式。為了更清楚地進行說明，與實際的方式相比，附圖中有時對各部分的寬度、厚度、形狀等進行示意性表示，但終究不過是一個例子，并非用來限定本發(fā)明的解釋。此外，在本說明書與各圖中，對于與在已有的圖中的前面已經描述了的要素相同的要素，標注相同附圖標記，有時適當省略詳細說明。

圖1為概略表示本發(fā)明的實施方式涉及的顯示裝置100的圖。如圖所示，顯示裝置100構成為包含有機el面板200，該有機el面板200以被上邊框110及下邊框120夾著的方式固定。

圖2為示出圖1的有機el面板200的構成的概略圖。如圖2所示，有機el面板200具有陣列基板201、對置基板202、驅動ic(integratedcircuit)203。陣列基板201配置有后述的吸濕劑308，封固膜309等，通過粘接層(填充劑(日語為“フィル剤”)315及隔離劑316)而與對置基板202粘接。

驅動ic203例如對像素晶體管318(參見圖3等)的掃描信號線施加用于使源極、漏極間導通的電壓、并且相對于各像素晶體管318的數(shù)據(jù)信號線流過與像素的灰階值相對應的電流，其中，像素晶體管318分別對應構成1像素的多個子像素204而配置。另外，多個像素的各自分別具有包括后述的陽極電極304、發(fā)光層和陰極電極307的發(fā)光元件。通過該驅動ic203，對于有機el面板200而言，通過由多種顏色形成的多個子像素204而構成的彩色圖像顯示于顯示區(qū)域205。

圖3為對第1實施方式的像素的剖面進行概略表示的圖的一個例子，并且是表示圖2的iii-iii剖面的圖。在以下的說明中，對多個像素是將分別發(fā)出紅色、綠色、及藍色的光的3個子像素204進行組合而構成的情況進行說明，但多個像素也可以是分別將4個以上的子像素204進行組合而構成。

如圖3所示，陣列基板201構成為包括下玻璃基板301、和在下玻璃基板301上朝向對置基板202而依次形成的tft(thinfilmtransistor)電路層302、有機平坦化膜303、陽極電極304、有機堤305、有機膜306、陰極電極307、吸濕劑308和封固膜309。對置基板202構成為包括上玻璃基板310、和在上玻璃基板310上形成的彩色濾光片層311、312、313及遮光層314。另外，在陣列基板201和對置基板202之間填充有填充劑315及隔離劑316，陣列基板201和對置基板202通過填充劑315及隔離劑316而貼合。

tft電路層302具有像素晶體管318，該像素晶體管318構成為包括源電極、漏電極317、柵電極、半導體層等。就像素晶體管318的詳細的結構而言，由于與現(xiàn)有技術相同，因此省略說明。

有機平坦化膜303在顯示區(qū)域205中以覆蓋tft電路層302的方式形成，并使得由配置于下層側的布線、像素晶體管318而引起的高低差平坦化。另外，有機平坦化膜303在顯示區(qū)域205的外側的區(qū)域即周邊區(qū)域319中以圍繞顯示區(qū)域205的方式形成。

陽極電極304形成于像素晶體管318的上部。具體而言，例如，陽極電極304在顯示區(qū)域205中，以經由有機平坦化膜303的接觸孔而與像素晶體管318的源電極或漏電極317電連接的方式，形成于源電極或漏電極317的上層側。

有機堤305在顯示區(qū)域205中以分別覆蓋各陽極電極304的各自的周邊部的方式形成、在周邊區(qū)域319中覆蓋有機平坦化膜303的方式形成。具體而言，例如，如圖3那樣，有機堤305由樹脂材料形成，并且在顯示區(qū)域205中有機堤305形成在各陽極電極304之間及陽極電極304的端部的上方，在周邊區(qū)域319中有機堤305形成在有機平坦化膜303的上方。通過該有機堤305，可防止陽極電極304和陰極電極307之間發(fā)生短路。

有機膜306在顯示區(qū)域205中，形成于陽極電極304及有機堤305的端部的上層側。另外，有機膜306通過空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子注入層、及電子傳輸層的層疊而形成。發(fā)光層利用由陽極電極304注入的空穴、和由陰極電極307注入的電子的再結合而發(fā)光。就空穴注入層、空穴傳輸層、電子注入層、及電子傳輸層而言，由于與現(xiàn)有技術相同，因此省略說明。

陰極電極307形成于有機膜306的上層側。具體而言，例如陰極電極307在顯示區(qū)域205中以覆蓋有機堤305及有機膜306的方式形成，并通過向陰極電極307與陽極電極304之間施加電壓、從而在有機膜306中流過電流從而使之發(fā)光。另外，陰極電極307使用透明的材料形成。具體而言，例如陰極電極307由包含氧化銦錫(ito：indiumtinoxide)等金屬而構成的、具有透射性的金屬薄膜形成。

吸濕劑308形成于顯示區(qū)域205的外側的周邊區(qū)域319。具體而言，例如如圖3所示，吸濕劑308在周邊區(qū)域319中，以作為保持陣列基板201和對置基板202的間隔的支柱的方式形成在有機堤305的上層側。另外，吸濕劑308由堿金屬或堿土金屬形成。具體而言，例如吸濕劑308使用鈣、鎂、鋰、銫、鋇等材料而形成。

吸濕劑308不僅通過與從有機el面板200的外部侵入的水分子發(fā)生化學反應而吸收水分子，而且在該化學反應結束后還作為阻止水分子向顯示區(qū)域205侵入的屏障而發(fā)揮作用。具體而言，例如當使用鈣來形成吸濕劑308時，鈣若與水分子發(fā)生化學反應則變?yōu)闅溲趸}，該氫氧化鈣阻止水分子向顯示區(qū)域205的侵入。

需要說明的是，在圖3中，吸濕劑308以保持陣列基板201和對置基板202的間隔的支柱的方式形成，但吸濕劑308的高度可低于陣列基板201和對置基板202的間隔。具體而言，例如吸濕劑308可具有與對置基板202相對的上表面，封固膜309的一部分位于該上表面和對置基板202之間。即便對于該構成，作為吸濕劑308發(fā)揮作用直至鈣的化學反應結束，從而可阻止水分向顯示區(qū)域205的侵入。另外，也可以以自陣列基板201起至吸濕劑308的上表面的距離變得大于顯示區(qū)域205中自陣列基板201起至封固膜309的表面的距離的方式形成柱狀的吸濕劑308。

接下來，對吸濕劑308的平面配置進行說明。吸濕劑308以在至少2個不連續(xù)的區(qū)域環(huán)繞周邊區(qū)域319的4個邊的方式形成。具體而言，例如使用圖4對吸濕劑308的配置布局進行說明。如圖4(a)所示，吸濕劑308以環(huán)繞顯示區(qū)域205的全部周圍的方式形成于周邊區(qū)域319。通過以圍繞顯示區(qū)域205的方式形成吸濕劑308，在吸濕劑308的化學反應結束后，可阻止水分子從有機el面板200外部向顯示區(qū)域205的侵入。需要說明的是，如圖4(b)及(c)所示，也可以將吸濕劑308分成2部分或分成4部分而形成。通過該構成，可通過比如圖4(a)所示的吸濕劑308的制造工序更簡單的制造工序來形成吸濕劑308。

封固膜309以覆蓋吸濕劑308的方式形成。具體而言，如圖3所示，在顯示區(qū)域205中，以覆蓋陰極電極307的方式，換言之以將包括陽極電極304、具有發(fā)光層的有機膜306、陰極電極307等的發(fā)光元件覆蓋的方式形成封固膜309，在周邊區(qū)域319中以覆蓋有機堤305及吸濕劑308的方式形成封固膜309。吸濕劑308被封固膜309覆蓋，由此在制造有機el面板200的過程中，可防止發(fā)生吸濕劑308和水分子的化學反應進行的狀況。

另外，在圖3中，對封固膜309沒有孔的情況進行了記載，但封固膜309也可以具有露出吸濕劑308的孔、向吸濕劑308的上表面的一側凹陷的孔、容許水分子侵入的孔(侵入孔)。具體而言，例如封固膜309可構成為具有通過將陣列基板201和對置基板202貼合所進行的加壓而產生的裂紋。該孔既可以形成為使吸濕劑308的上表面露出、也可以形成為使吸濕劑308的側面露出。此外，在封固膜309的一部分構成為位于吸濕劑308的上表面和對置基板202之間的情況下，也可以構成為封固膜309的一部分設置有向該上表面的一側凹陷的孔。對其詳情在后面描述，在將陣列基板201和對置基板202貼合的工序中，通過在封固膜309中形成侵入孔的方式，吸濕劑308可成為在貼合工序之后才發(fā)揮出吸濕性的狀態(tài)。

彩色濾光片層311、312、313可由僅使特定的波長的光透射的材料形成。例如，彩色濾光片層可構成為包括選擇性地透射紅色的光的紅色彩色濾光片層311、選擇性地透射綠色的光的綠色彩色濾光片層312、及選擇性地透射藍色的光的藍色彩色濾光片層313。具體而言，如圖3所示，自附圖上的左側起，紅色彩色濾光片層311、綠色彩色濾光片層312、及藍色彩色濾光片層313依次形成于上玻璃基板310上。

遮光層314可由阻隔光的材料形成。具體而言，例如如圖3所示，遮光層314形成于顯示區(qū)域205中的彩色濾光片層之間、及周邊區(qū)域319。通過遮光層314，可防止由相鄰子像素204發(fā)出的光發(fā)生混合而產生混色的狀況。

粘接層含有填充劑315及隔離劑316而形成。關于粘接層，至少其一部分配置在比吸濕劑308的內側更靠近顯示區(qū)域205的一側，并將陣列基板201和對置基板202粘接。關于填充劑315，至少其一部分位于顯示區(qū)域205，封固膜309在顯示區(qū)域205中以被填充劑315覆蓋的方式形成。具體而言，例如填充劑315配置于吸濕劑308的內側，即，比吸濕劑308更靠近顯示區(qū)域205的一側。填充劑315由有機系材料形成，并配置于吸濕劑308的內側，由此將陣列基板201和對置基板202粘接。

隔離劑316以位于周邊區(qū)域319并圍繞顯示區(qū)域205、并且覆蓋吸濕劑308的方式形成。具體而言，隔離劑316使用比填充劑315透水性低的材料，在填充劑315的外側以圍繞顯示區(qū)域205的方式形成。

如上述那樣，根據(jù)本發(fā)明的構成，在直至吸濕劑308的化學反應完成為止通過吸濕劑308吸收水分子，并且在化學反應結束后通過抑制水分子向發(fā)光元件的侵入，從而可防止發(fā)光元件的劣化。

需要說明的是，在上述之中，對將陣列基板201和對置基板202貼合的構成進行了記載，但也可以是沒有對置基板202的構成。在本變形例中，與上述相同，有機el面板200具有顯示區(qū)域205、比顯示區(qū)域205更靠近外側的周邊區(qū)域319，其中，顯示區(qū)域205具有多個像素。并且，有機el面板200構成為包括陣列基板201、和驅動ic(integratedcircuit)203。

另外，與上述相同，陣列基板201包括跨過顯示區(qū)域205和周邊區(qū)域319地位于顯示區(qū)域205和周邊區(qū)域319并覆蓋發(fā)光元件的封固膜309、位于下玻璃基板301和封固膜309之間的吸濕劑308等而形成。陣列基板所含的發(fā)光層由按每個子像素204而發(fā)出不同顏色光的材料形成，在這一點上與上述實施例不同。

另外，本變形例中，沒有設置對置基板202，但在陣列基板201中設置有隔離劑316。具體而言，關于陣列基板201，在周邊區(qū)域319中，設置有圍繞顯示區(qū)域205的隔離劑316，封固膜309的一部分和吸濕劑308以被隔離劑316覆蓋的方式形成。

本變形例中，封固膜309也可以以具有露出吸濕劑308的孔的方式形成。另外，吸濕劑308具有位于與下玻璃基板301相反的一側的上表面，封固膜309的一部分可設置與該上表面相對、且向上表面的一側凹陷的孔。另外，吸濕劑308可通過堿金屬或堿土金屬(例如鈣)來形成。此外，吸濕劑308可形成為柱狀，自下玻璃基板301起至形成為柱狀的吸濕劑308的上表面的距離可形成為大于顯示區(qū)域205中的自下玻璃基板301起至位于封固膜309的與下玻璃基板301相反的一側的表面的距離。

接下來，對本發(fā)明中的顯示裝置100的制造工序進行說明。圖5至圖7為表示本發(fā)明的實施方式中的制造工序的圖。首先，如圖5(a)所示，在下玻璃基板301上形成tft電路層302，并以覆蓋tft電路層302的方式形成有機平坦化膜303。此處，有機平坦化膜303還形成于周邊區(qū)域319。接下來，在層疊于漏電極317上部的有機平坦化膜303中開出接觸孔，在開口部的漏電極317上形成陽極電極304。另外，以覆蓋各陽極電極304的各自的周邊部的方式，形成有機堤305。此處，有機堤305還形成于在周邊區(qū)域319中形成的有機平坦化膜303的上層側。此外，在顯示區(qū)域205中，在陽極電極304及有機堤305的端部的上層側形成有機膜306，在有機膜306的上層側形成陰極電極307。

接下來，如圖5(b)所示，在形成于周邊區(qū)域319的有機堤305的上層側，形成吸濕劑308。此處，吸濕劑308的高度形成為與陣列基板201和對置基板202的間隔相同，或較陣列基板201和對置基板202的間隔而言更高。另外，吸濕劑308可利用真空蒸鍍法等方法來形成。

下面，如圖6(a)所示，以將形成于顯示區(qū)域205的陰極電極307、及形成于周邊區(qū)域319的有機堤305以及吸濕劑308覆蓋的方式形成封固膜309。此處，封固膜309優(yōu)選在形成吸濕劑308的工序之后、在吸濕劑308不與空氣接觸的環(huán)境下連續(xù)形成。通過在形成吸濕劑308的工序之后立即形成封固膜309，可防止吸濕劑308和水分子等的化學反應的進行。

下面，如圖6(b)所示，相對于陣列基板201滴加粘接劑。具體而言，例如，以與形成于周邊區(qū)域319的吸濕劑308及有機堤305重合的方式，使用分配器滴加隔離劑316，在顯示區(qū)域205中，每隔一定間隔滴加填充劑315。

另外，如圖7所示，將在圖6(b)的工序中滴加了隔離劑316及填充劑315的陣列基板201和對置基板202貼合。此處，由于對置基板202的制造方法與現(xiàn)有技術相同，因此省略說明。如上述那樣，由于吸濕劑308的高度形成為陣列基板201和對置基板202的間隔的同等以上，因此在將陣列基板201和對置基板202貼合時，壓力被施加于以覆蓋吸濕劑308的方式形成的封固膜309。其結果，在以覆蓋吸濕劑的方式形成的封固膜309中，產生透過水分子等的裂紋。

如上述那樣，關于通過圖6(a)的工序所形成的封固膜309，在直至圖7所示的工序中通過加壓而產生裂紋之前的工序中，防止吸濕劑308和水分子的化學反應的進行。另外，通過在圖7所示的工序中產生的侵入孔，吸濕劑308初次發(fā)揮功能，由此吸濕劑308可長期保持發(fā)揮吸濕性的時間。此外，吸濕劑的高度形成為陣列基板201和對置基板202的間隔的同等以上，吸濕劑在與水分子的化學反應結束后變成不透過水分子等的材料，因此在化學反應的結束后，也能防止水分子等從外部向顯示區(qū)域的侵入。

在本發(fā)明的思想范疇內本領域技術人員可想到各種變更例及修正例，應了解，這些變更例及修正例也屬于本發(fā)明的范圍。例如，對于前述的各實施方式，本領域技術人員對其進行適當?shù)募夹g特征的追加、刪除或設計變更而成的方案，或進行了工序的追加、省略或條件變更而成的方案，只要具備本發(fā)明的要旨，就包含于本發(fā)明的范圍。