1.一種柔性TFT基板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟1、提供一剛性基板(10)，在所述剛性基板(10)上涂布第一有機(jī)材料，形成一柔性襯底(11)；
步驟2、在所述柔性襯底(11)上涂布第二有機(jī)材料，形成第一有機(jī)層(20)，采用半透膜光罩對(duì)所述第一有機(jī)層(20)進(jìn)行圖形化處理，在所述第一有機(jī)層(20)上形成數(shù)個(gè)第一凹槽(21)、數(shù)個(gè)第二凹槽(22)、數(shù)個(gè)第三凹槽(23)、及數(shù)個(gè)第四凹槽(24)，其中，所述第一凹槽(21)與所述第二凹槽(22)相交叉，所述第三凹槽(23)分別連通至所述第一凹槽(21)與第二凹槽(22)，所述第四凹槽(24)與所述第三凹槽(23)相連通；
步驟3、在所述第一凹槽(21)中形成掃描線(31)，同時(shí)在所述第三凹槽(23)中形成柵極(32)，所述柵極(32)與所述掃描線(31)相連；
在所述掃描線(31)與柵極(32)上形成柵極絕緣層(40)；
在所述柵極絕緣層(40)上對(duì)應(yīng)于所述柵極(32)的上方形成有源層(41)；
在所述第二凹槽(22)中形成數(shù)據(jù)線(51)，同時(shí)在所述第三凹槽(23)中形成源極(52)與漏極(53)，所述源極(52)與所述數(shù)據(jù)線(51)相連，所述源極(52)與漏極(53)分別與所述有源層(41)的兩側(cè)相接觸；
在所述數(shù)據(jù)線(51)、源極(52)、漏極(53)、有源層(41)、及所述第四凹槽(24)的槽底上形成鈍化層(60)，所述鈍化層(60)上設(shè)有對(duì)應(yīng)于所述漏極(53)上方的第一通孔(61)；
在所述鈍化層(60)上對(duì)應(yīng)于所述第四凹槽(24)的槽底上方的區(qū)域形成像素電極(70)，所述像素電極(70)經(jīng)由所述第一通孔(61)與所述漏極(53)相接觸；
步驟4、在所述第一有機(jī)層(20)上涂布第三有機(jī)材料，形成第二有機(jī)層(80)；
步驟5、將所述柔性襯底(11)從所述剛性基板(10)上剝離，制得一柔性TFT基板(100)。
2.如權(quán)利要求1所述的柔性TFT基板的制作方法，其特征在于，所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)的槽底位于所述第一有機(jī)層(20)中或者所述柔性襯底(11)與所述第一有機(jī)層(20)相交接的表面上，所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)的深度相同或不同。
3.如權(quán)利要求1所述的柔性TFT基板的制作方法，其特征在于，所述步驟2還包括：在所述第一有機(jī)層(20)上形成數(shù)個(gè)第五凹槽(25)，所述第五凹槽(25)與所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)中的一個(gè)或多個(gè)相連通或者均不連通，所述第五凹槽(25)的槽底位于所述第一有機(jī)層(20)中或者所述柔性襯底(11)上與所述第一有機(jī)層(20)相交接的表面上，所述第五凹槽(25)與所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)中的一個(gè)或多個(gè)深度相同，或者與所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)的深度均不相同。
4.如權(quán)利要求1所述的柔性TFT基板的制作方法，其特征在于，所述第一有機(jī)材料、第二有機(jī)材料、及第三有機(jī)材料分別包括聚碳酸酯、聚乙二醇對(duì)苯二甲酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜樹(shù)脂、及聚酰亞胺中的至少一種；
并且，所述第一有機(jī)材料與所述第二有機(jī)材料相同，所述步驟1中所述第一有機(jī)材料的涂布制程與所述步驟2中所述第二有機(jī)材料的涂布制程合并為同一個(gè)涂布制程。
5.如權(quán)利要求1所述的柔性TFT基板的制作方法，其特征在于，所述步驟4還包括：采用半透膜光罩對(duì)所述第二有機(jī)層(80)進(jìn)行圖形化處理，在所述第二有機(jī)層(80)上對(duì)應(yīng)所述像素電極(70)的上方形成第六凹槽(86)，薄化位于所述像素電極(70)上方的第二有機(jī)層(80)的厚度。
6.一種柔性TFT基板，其特征在于，包括柔性襯底(11)、設(shè)于所述柔性襯底(11)上的第一有機(jī)層(20)、及設(shè)于所述第一有機(jī)層(20)上的第二有機(jī)層(80)；
所述第一有機(jī)層(20)上設(shè)有數(shù)個(gè)第一凹槽(21)、數(shù)個(gè)第二凹槽(22)、數(shù)個(gè)第三凹槽(23)、及數(shù)個(gè)第四凹槽(24)，其中，所述第一凹槽(21)與所述第二凹槽(22)相交叉，所述第三凹槽(23)分別連通至所述第一凹槽(21)與第二凹槽(22)，所述第四凹槽(24)與所述第三凹槽(23)相連通；
所述第三凹槽(23)中設(shè)有從下到上依次層疊設(shè)置的柵極(32)、柵極絕緣層(40)、有源層(41)、源極(52)與漏極(53)、及鈍化層(60)，所述有源層(41)對(duì)應(yīng)于所述柵極(32)的上方設(shè)置，所述源極(52)與漏極(53)分別與所述有源層(41)的兩側(cè)相接觸；
所述第一凹槽(21)中設(shè)有從下到上依次層疊設(shè)置的掃描線(31)與柵極絕緣層(40)，所述掃描線(31)與所述柵極(32)相連；
所述第二凹槽(22)中設(shè)有從下到上依次層疊設(shè)置的數(shù)據(jù)線(51)與鈍化層(60)，所述數(shù)據(jù)線(51)與所述源極(52)相連；
所述第四凹槽(24)中設(shè)有從下到上依次層疊設(shè)置的鈍化層(60)與像素電極(70)；
所述鈍化層(60)上設(shè)有對(duì)應(yīng)于所述漏極(53)上方的第一通孔(61)，所述像素電極(70)經(jīng)由所述第一通孔(61)與所述漏極(53)相接觸。
7.如權(quán)利要求6所述的柔性TFT基板，其特征在于，所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)的槽底位于所述第一有機(jī)層(20)中或者所述柔性襯底(11)與所述第一有機(jī)層(20)相交接的表面上，所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)的深度相同或不同。
8.如權(quán)利要求6所述的柔性TFT基板，其特征在于，所述第一有機(jī)層(20)上還設(shè)有數(shù)個(gè)第五凹槽(25)，所述第五凹槽(25)與所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)中的一個(gè)或多個(gè)相連通或者均不連通，所述第五凹槽(25)的槽底位于所述第一有機(jī)層(20)中或者所述柔性襯底(11)上與所述第一有機(jī)層(20)相交接的表面上，所述第五凹槽(25)與所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)中的一個(gè)或多個(gè)深度相同，或者與所述第一凹槽(21)、第二凹槽(22)、第三凹槽(23)及第四凹槽(24)的深度均不相同。
9.如權(quán)利要求6所述的柔性TFT基板，其特征在于，所述第二有機(jī)層(80)上對(duì)應(yīng)所述像素電極(70)的上方設(shè)有第六凹槽(86)。
10.如權(quán)利要求6所述的柔性TFT基板，其特征在于，所述柔性襯底(11)的材料、第一有機(jī)層(20)的材料、及第二有機(jī)層(80)的材料分別包括聚碳酸酯、聚乙二醇對(duì)苯二甲酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜樹(shù)脂、及聚酰亞胺中的至少一種；并且所述柔性襯底(11)的材料與所述第一有機(jī)層(20)的材料相同。