1.一種陣列基板，包括：基底，設(shè)置在所述基底上的層結(jié)構(gòu)，設(shè)置在所述層結(jié)構(gòu)上方的取向?qū)?；其中，在所述層結(jié)構(gòu)中設(shè)置有凹孔，其特征在于，環(huán)繞所述凹孔的取向?qū)又辽俅嬖趦蓚€位置到所述基底的距離不相等。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，環(huán)繞所述凹孔的取向?qū)哟嬖趦蓚€位置到所述基底的距離不相等，且這兩個位置沿所述過孔的軸線對稱設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述層結(jié)構(gòu)包括依次設(shè)置在所述基底上方的公共電極線所在層、柵極絕緣層、平坦化層、公共電極所在層；所述凹孔為貫穿所述柵極絕緣層和所述平坦化層的過孔，用于將所述公共電極與所述公共電極線連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述公共電極線位于所述過孔所在區(qū)域和環(huán)繞所述過孔的部分所述柵極絕緣層下方。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其特征在于，所述公共電極線位于所述過孔的部分區(qū)域和環(huán)繞所述過孔的部分所述柵極絕緣層下方。
6.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，包括：
在基底上形成層結(jié)構(gòu)，并在所述層結(jié)構(gòu)中形成凹孔；
在所述層結(jié)構(gòu)上方形成取向?qū)?，其中環(huán)繞所述凹孔的所述取向?qū)又辽俅嬖趦蓚€位置到所述基底的距離不相等。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述層結(jié)構(gòu)包括依次設(shè)置在所述基底上方的公共電極線所在層、柵極絕緣層、平坦化層、公共電極所在層；所述凹孔為貫穿所述柵極絕緣層和所述平坦化層的過孔，用于將所述公共電極與所述公共電極線連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述公共電極線位于所述過孔所在區(qū)域和環(huán)繞所述過孔的部分所述柵極絕緣層下方。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，所述公共電極線位于所述過孔的部分區(qū)域和環(huán)繞所述過孔的部分所述柵極絕緣層下方。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-5中任一項所述的陣列基板。