1.一種金屬氧化膜電阻的多源蒸發(fā)式制備方法，其特征在于其具體制備步驟為：
（1）將錫、銻、鎳分別放置在真空鍍膜機(jī)的三個不同的蒸發(fā)源內(nèi)，設(shè)置蒸鍍時真空度達(dá)到8×10-4以上，鍍膜速度控制在30-50nm/s，蒸鍍時陶瓷基底呈旋轉(zhuǎn)狀態(tài)；
（2）蒸鍍完畢取出冷卻后，置入紫外照射艙紫外照射處理40-50分鐘，再置入加熱爐中在120-140℃下烘烤30-40分鐘；
（3）烘烤結(jié)束后自然冷卻，再經(jīng)過涂漆、壓帽、焊引線、刻槽和涂外漆工序，得到金屬氧化膜電阻。