1.一種OLED陣列基板，包括沿出光方向依次布置的第一電極層、像素定義層、有機(jī)材料功能層和第二電極層，
其中，
有機(jī)材料功能層包括發(fā)射不同顏色的光的發(fā)光區(qū)域，
像素定義層包括與發(fā)光區(qū)域?qū)?yīng)的像素區(qū)域，和布置在相鄰像素區(qū)域之間的間隔區(qū)域，并且每一個(gè)間隔區(qū)域用于電氣隔離相鄰的發(fā)光區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其中有機(jī)材料功能層包括沿出光方向依次布置的第一功能層、發(fā)光層和第二功能層，并且每一個(gè)間隔區(qū)域包括沿出光方向依次布置的第一間隔部和第二間隔部，所述第一間隔部用于使對(duì)應(yīng)于各個(gè)發(fā)光區(qū)域的至少第一功能層的部分彼此分離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其中第一間隔部的側(cè)壁與第一間隔部的下表面的夾角大于第二間隔部的側(cè)壁與第二間隔部的下表面的夾角。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其中第一間隔部的側(cè)壁與第一間隔部的下表面的夾角大于或等于60°，并且第二間隔部的側(cè)壁與第二間隔部的下表面的夾角小于或等于30°。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板，其中第一間隔部的材料的橫向蝕刻速率大于第二間隔部的材料的橫向蝕刻速率。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其中第一間隔部的上表面的寬度小于或等于第二間隔部的下表面的寬度。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其中第一間隔部的厚度大于第一功能層的厚度。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其中第一功能層由空穴注入層、空穴傳輸層和電子阻擋層中的至少一個(gè)構(gòu)成，第二功能層由空穴阻擋層、電子傳輸層、電子注入層中的至少一個(gè)構(gòu)成，并且第一電極層為陽極層，第二電極層為陰極層。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板，其中發(fā)光層包括有機(jī)發(fā)光層和布置在有機(jī)發(fā)光層與第一功能層之間的光學(xué)補(bǔ)償層。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其中第一電極層為反射電極層，并且第二電極層為透明電極層。
11.一種OLED顯示面板，包括根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的OLED陣列基板。
12.一種OLED陣列基板的制作方法，包括：
依次形成第一電極層、像素定義層、有機(jī)材料功能層和第二電極層，
其中，
有機(jī)材料功能層包括發(fā)射不同顏色的光的發(fā)光區(qū)域，
像素定義層包括與發(fā)光區(qū)域?qū)?yīng)的像素區(qū)域，和布置在相鄰像素區(qū)域之間的間隔區(qū)域，并且每一個(gè)間隔區(qū)域用于電氣隔離相鄰的發(fā)光區(qū)域。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制作方法，其中形成有機(jī)材料功能層包括依次形成第一功能層、發(fā)光層和第二功能層，并且每一個(gè)間隔區(qū)域包括沿出光方向依次布置的第一間隔部和第二間隔部，所述第一間隔部用于使對(duì)應(yīng)于各個(gè)發(fā)光區(qū)域的至少第一功能層的部分彼此分離。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制作方法，其中所述第一間隔部和所述第二間隔部同層形成。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制作方法，其中所述第一間隔部和所述第二間隔部分層形成。