1.一種用于形成圖案的方法，所述方法包括：
在底層之上形成橢圓形柱體，其中，柱體組合而形成菱形陣列，使得分離空間位于菱形陣列的中心；
以大體上共形的方式形成包圍柱體的引導(dǎo)晶格，使得在分離空間內(nèi)限定第一窗口；
去除柱體以形成第二窗口；
形成填充第一窗口和第二窗口的嵌段共聚物層；
將第一窗口內(nèi)的嵌段共聚物層相分離成第一區(qū)域和第一矩陣；
將每個第二窗口內(nèi)的嵌段共聚物層相分離成多個第二區(qū)域和第二矩陣；以及
去除第一區(qū)域和多個第二區(qū)域，以分別形成第一開口和多個第二開口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，
其中，柱體包括第一柱體、第二柱體、第三柱體和第四柱體，
其中，每個柱體包括突出側(cè)和長側(cè)，
其中，長側(cè)與突出側(cè)連續(xù)地連接，
其中，第一柱體和第二柱體的突出側(cè)彼此面對，以及
其中，第三柱體和第四柱體的長度彼此面對。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，
其中，每個柱體具有在長軸方向上的第一寬度和在短軸方向上的第二寬度，以及
其中，第一寬度和第二寬度彼此不同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，
其中，分離空間具有第三寬度，
其中，第一寬度比第三寬度大，以及
其中，第二寬度比第三寬度小。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，形成引導(dǎo)晶格包括：
形成覆蓋柱體的引導(dǎo)層；以及
執(zhí)行針對引導(dǎo)層的各向異性刻蝕，以形成引導(dǎo)晶格。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，
其中，每個柱體具有橢圓形形狀，以及
其中，柱體的長軸彼此沿相同的方向延伸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，
其中，形成在每個第二窗口內(nèi)的多個第二區(qū)域的數(shù)目為2。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，
其中，形成在第二窗口內(nèi)的多個第二區(qū)域組合而形成六邊形圖案，以及
其中，第一區(qū)域位于六邊形圖案的中心。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：
圖案化底層，以形成通孔，
其中，通孔從第一開口和多個第二開口延伸。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，
其中，通過將第一矩陣和第二矩陣以及引導(dǎo)晶格組合用作刻蝕掩模來刻蝕底層而形成通孔。
11.一種用于形成圖案的方法，所述方法包括：
在底層之上形成引導(dǎo)晶格，使得在底層之上限定第一窗口和多個第二窗口，其中，多個第二窗口組合形成菱形圖案，其中，每個第二窗口具有細長的結(jié)構(gòu)，以及其中，第一窗口位于菱形圖案的中心；
形成填充第一窗口和多個第二窗口的嵌段共聚物層；
將第一窗口內(nèi)的嵌段共聚物層相分離成第一區(qū)域和第一矩陣；
將每個第二窗口內(nèi)的嵌段共聚物層相分離成多個第二區(qū)域和第二矩陣；以及
去除第一區(qū)域和多個第二區(qū)域，以分別形成第一開口和多個第二開口。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，
其中，多個第二窗口的數(shù)目為四個，
其中，多個第二窗口中的每個具有突出側(cè)和長側(cè)，
其中，長側(cè)與突出側(cè)連續(xù)地連接，
其中，多個第二窗口中的兩個的突出側(cè)面對第一窗口，以及
其中，其余的兩個第二窗口的長側(cè)面對第一窗口。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，
其中，多個第二窗口中的每個具有長軸寬度和短軸寬度，以及
其中，長軸寬度與短軸寬度不同。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，
其中，第一窗口具有第一寬度，
其中，長軸寬度比第一寬度大，以及
其中，短軸寬度比第一寬度小。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，
其中，第一窗口為圓形孔或者正方形孔。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，
其中，多個第二窗口的長軸彼此在相同的方向上延伸。
17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，
其中，形成在每個第二窗口內(nèi)的多個第二區(qū)域的數(shù)目為二個。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，
其中，形成在第二窗口內(nèi)的多個第二區(qū)域組合而形成六邊形圖案，以及
其中，第一區(qū)域位于六邊形圖案的中心。
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，還包括：
圖案化底層，以形成通孔，
其中，通孔從第一開口和第二開口延伸。
20.一種用于制造圖案的方法，所述方法包括：
在底層之上形成橢圓形柱體，使得在柱體之間限定分離空間；
形成包圍柱體的引導(dǎo)晶格，使得在分離空間內(nèi)形成第一窗口；
去除柱體，以形成第二窗口；
形成填充第一窗口和第二窗口的嵌段共聚物層；
將第一窗口內(nèi)的嵌段共聚物層相分離成第一區(qū)域和第一矩陣；
將每個第二窗口內(nèi)的嵌段共聚物層相分離成多個第二區(qū)域和第二矩陣；以及
去除第一區(qū)域和第二區(qū)域，以分別形成第一開口和多個第二開口。