技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及作為金屬擴(kuò)散阻擋層的無(wú)定形碳的高選擇性沉積，具體涉及一種用于提供金屬擴(kuò)散阻擋層的方法，該方法包括：提供包含金屬層的襯底；在所述金屬層上沉積電介質(zhì)層；在所述電介質(zhì)層中定義特征，其中，所述特征包括由所述電介質(zhì)層定義的側(cè)壁和由所述金屬層定義的底表面；在所述特征的所述側(cè)壁上選擇性地沉積金屬擴(kuò)散阻擋層，并且不在所述特征的所述底表面上沉積金屬擴(kuò)散阻擋層，其中，所述金屬擴(kuò)散阻擋層包括無(wú)定形碳；以及在所述特征中沉積金屬。

技術(shù)研發(fā)人員：唐偉;詹森·達(dá)埃金·帕克;帕特里克·A·萬(wàn)克利姆布特;耶斯蒂·多蒂
受保護(hù)的技術(shù)使用者：朗姆研究公司
文檔號(hào)碼：201610290322
技術(shù)研發(fā)日：2016.05.04
技術(shù)公布日：2016.11.16