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開關(guān)元件的制作方法

文檔序號:12142738閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種開關(guān)元件,其中,具有:

半導(dǎo)體基板,具有表面和背面,在所述表面形成有溝槽;

底部絕緣層,配置于所述溝槽內(nèi)的底部;

柵極絕緣膜,覆蓋所述溝槽的比所述底部絕緣層靠所述表面?zhèn)鹊膫?cè)面;以及

柵極電極,配置于所述溝槽內(nèi)的比所述底部絕緣層靠所述表面?zhèn)鹊奈恢?,通過所述底部絕緣層和所述柵極絕緣膜而與所述半導(dǎo)體基板絕緣,

所述半導(dǎo)體基板具有:

第一n型區(qū)域,與所述柵極絕緣膜相接;

第一p型區(qū)域,在所述第一n型區(qū)域的所述背面?zhèn)扰c所述柵極絕緣膜相接;

第二p型區(qū)域,與所述底部絕緣層的所述背面?zhèn)鹊亩瞬肯嘟?;以?/p>

第二n型區(qū)域,配置于所述第一p型區(qū)域的所述背面?zhèn)?,通過所述第一p型區(qū)域而與所述第一n型區(qū)域分離,與所述柵極絕緣膜以及所述底部絕緣層相接,延伸到比所述第二p型區(qū)域靠所述背面?zhèn)鹊奈恢茫顾龅诙型區(qū)域與所述第一p型區(qū)域分離,

從所述第一p型區(qū)域的所述背面?zhèn)鹊亩瞬康剿龅诙型區(qū)域的所述表面?zhèn)鹊亩瞬繛橹沟木嚯xA與從所述底部絕緣層的所述背面?zhèn)鹊乃龆瞬康剿龅诙型區(qū)域的所述背面?zhèn)鹊亩瞬繛橹沟木嚯xB滿足A<4B的關(guān)系,

從所述第二p型區(qū)域的所述表面?zhèn)鹊乃龆瞬康剿龅撞拷^緣層的所述背面?zhèn)鹊乃龆瞬繛橹沟木嚯xC比從所述第一p型區(qū)域的所述背面?zhèn)鹊乃龆瞬康剿鰱艠O電極的所述背面?zhèn)鹊亩瞬繛橹沟木嚯xD小。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的開關(guān)元件,其中,

所述半導(dǎo)體基板由SiC系半導(dǎo)體構(gòu)成,

所述第二p型區(qū)域含有Al。

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