技術(shù)總結(jié)
公開了制備本體異質(zhì)結(jié)光敏層、使添加劑位于本體異質(zhì)結(jié)光敏層界面、或提高本體異質(zhì)結(jié)光敏層效率的方法，所述方法包括以下步驟：獲得包含溶劑、電子供體材料、可接受電子的材料和溶解于所述溶劑的添加劑的混合物，其中添加劑具有高(負)的結(jié)晶焓(ΔHcryst)；由混合物形成本體異質(zhì)結(jié)光敏層，其中添加劑的晶體形成，并使其位于本體異質(zhì)結(jié)光敏層的電子供體材料和電子受體材料之間的界面。

技術(shù)研發(fā)人員：蒂莫西·P·本德;杰里米·丹格;伯努瓦·H·萊薩德
受保護的技術(shù)使用者：沙特基礎(chǔ)工業(yè)全球技術(shù)公司
文檔號碼：201580022917
技術(shù)研發(fā)日：2015.04.27
技術(shù)公布日：2017.02.22