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基板處理裝置的制造方法

文檔序號:11464389閱讀:來源:國知局
基板處理裝置的制造方法

技術特征:
1.一種基板處理裝置,其特征在于,包括:本體,在內(nèi)部形成有作為處理基板的空間的腔室,并且在前表面上形成有與所述腔室連通且供基板出入的出入口;門,設置在所述本體的前表面上,用于開閉所述出入口;多個第一加熱器,設置在所述腔室;多個第二加熱器,設置在所述門上,所述門包括:外側(cè)門,可上下升降地設置在所述本體的前表面;內(nèi)側(cè)門,被所述外側(cè)門支承而隨著所述外側(cè)門升降的同時,可相對于所述外側(cè)門前后滑動,用以開閉所述出入口,在所述外側(cè)門上設置有使所述內(nèi)側(cè)門滑動的汽缸,所述第二加熱器設置在所述內(nèi)側(cè)門上。2.根據(jù)權利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于,所述本體的前后方向長度大于左右方向?qū)挾?,所述第一加熱器包括:多個短軸加熱器,呈棒狀,在所述本體的前后方向上隔著間距的同時在所述本體的上下方向上隔著間距,并與所述本體的左右方向平行地設置在所述腔室;多個長軸加熱器,呈棒狀,在所述本體的上下方向上隔著間距,并與所述本體的前后方向平行地設置在所述出入口外側(cè)的所述腔室部位。3.根據(jù)權利要求2所述的基板處理裝置,其特征在于,所述第二加熱器呈棒狀。4.根據(jù)權利要求3所述的基板處理裝置,其特征在于,所述內(nèi)側(cè)門的與所述出入口相對的表面呈開放狀態(tài),并且在所述內(nèi)側(cè)門的開放部位設置有所述第二加熱器。5.根據(jù)權利要求4所述的基板處理裝置,其特征在于,在所述外側(cè)門上結(jié)合有多個第一支承塊,在所述內(nèi)側(cè)門上結(jié)合有多個第二支承塊,該多個第二支承塊分別被第一支承塊接觸并支承,在所述第二支承塊上設置有與所述第一支撐塊接觸的滾輪,在所述第一支承塊上形成有凹陷的收容槽,所述滾輪插入于該收容槽內(nèi)并且被收容槽支承。6.根據(jù)權利要求5所述的基板處理裝置,其特征在于,所述出入口的左右方向長度大于上下方向高度,所述內(nèi)側(cè)門與所述出入口相對應地形成,所述第二加熱器沿上下隔著間距,并與所述本體的左右方向平行,所述第二加熱器的左端部側(cè)和右端部側(cè)分別被所述內(nèi)側(cè)門的左側(cè)面和右側(cè)面支承。7.根據(jù)權利要求5所述的基板處理裝置,其特征在于,所述出入口的左右方向長度大于上下方向高度,所述內(nèi)側(cè)門與所述出入口相對應地形成,所述第二加熱器形成為,沿上下隔著間距并與所述本體的左右方向平行、且位于同一虛擬直線上彼此相對的一對,在一對所述第二加熱器中,一個所述第二加熱器的左端部側(cè)被所述內(nèi)側(cè)門的左側(cè)面支承,另一個所述第二加熱器的右端部側(cè)被所述內(nèi)側(cè)門的右側(cè)面支承。8.根據(jù)權利要求5所述的基板處理裝置,其特征在于,所述出入口的左右方向長度大于上下方向高度,所述內(nèi)側(cè)門與所述出入口相對應地形成,所述第二加熱器沿左右隔著間距,并與所述本體的上下方向平行,所述第二加熱器的上端部側(cè)和下端部側(cè)分別被所述內(nèi)側(cè)門的上表面和下表面支承。
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