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一種旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板的制作方法

文檔序號:7163014閱讀:1471來源:國知局
專利名稱:一種旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板的制作方法
技術領域
本發(fā)明涉及對半導體涂膠晶片進行烘烤的設備,具體地說是一種旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板。
背景技術
目前,技術先進的TRACK(直線型)涂膠顯影設備主要由上下料組塊、工藝組塊一、工藝組塊二、接口組塊等三種組塊構成,其中上下料組塊主要是由上下料盒、盒站機器人(或稱CS-R)、架體等組成;工藝組塊一和工藝組塊二內(nèi)含工藝模塊有所不同,工藝模塊主要有覆涂單元(或稱C0T/BAC/TAC)和/或顯影單元(或稱DEV)、工藝機器人(或稱PS-R)、工藝熱處理塔(或稱OVEN RACK)、架體等組成,工藝熱處理塔內(nèi)裝載了冷盤(或稱CP)、熱盤(或稱HP及HHP)、增粘單元(或稱AD)、復合熱盤、其它功能單元等;接口組塊主要是由接口進出料載體(或稱IFS)、接口機器人(或稱IF-R)、邊部曝光裝置(或稱WEE)、進出料緩沖裝置(或稱IFB)、架體等組成。根據(jù)生產(chǎn)工藝需求及制造商技術不同,機臺內(nèi)各組塊、模塊、單元的配置與排布有所不同,其中上下料組塊、接口組塊區(qū)別不大,工藝組塊內(nèi)的模塊及單元的配置與排布各有不同的技術支持,基本出發(fā)點有四個,一是保證良好的高質(zhì)量的生產(chǎn)技術節(jié)點,二是滿足高生產(chǎn)產(chǎn)能的需求,三是具有良好的可維護性,四是性價比。晶片通過盒站機器人從晶片盒傳送到對中單元或中間載體,再由工藝機器人從對中單元或中間載體中取出后送到各工藝單元;經(jīng)工藝處理后的晶片由工藝機器人傳送到對中單元或中間載體,再由盒站機器人從對中單元或中間載體中取出后送回到晶片盒。隨著不同膠種、不同工藝的要求,晶片要做不同溫度的烘烤處理,為了能在同一設備實現(xiàn)HP (熱板)快速的物理參數(shù)改變,要求HP單元實現(xiàn)快速的升降溫度,升溫過程可以通過溫控設備實現(xiàn),自然冷卻HP降溫過程非常漫長,勢必加大整個設備處理過程的時間。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有熱板通過自然冷卻降溫過程漫長的問題,本發(fā)明的目的在于提供一種旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板。該降溫熱板采用伯努利原理,使熱板的盤面形成強的空氣對流,實現(xiàn)快速降低熱板盤體溫度,提高單臺設備的利用率。本發(fā)明的目的是通過以下技術方案來實現(xiàn)的:本發(fā)明包括盤體及外殼,其中外殼包圍在盤體的外部,盤體的底部邊緣與外殼的底部密封連接,所述盤體的側(cè)表面與外殼的內(nèi)壁之間留有間隙;所述外殼內(nèi)開有腔體,該腔體與所述間隙之間的盤體上均布有多個通孔;在盤體底部邊緣與外殼底部的密封處內(nèi)外設有兩組接頭,位于內(nèi)側(cè)的一組接頭為與所述間隙連通的排風接頭,各排風接頭分別接至排風負壓氣源,位于外側(cè)的另一組接頭為與所述腔體連通的輸送氣體的接頭;所述外殼頂部與盤體頂部之間的間隙體積縮小。其中:所述盤體為圓盤狀,外殼為圓形套筒,套設在盤體的外部、與盤體同心設置,在外殼的底部通過隔熱密封墊與盤體的底部邊緣密封連接;所述內(nèi)外設置的兩組接頭,分別安裝在隔熱密封墊上;所述外殼與盤體之間的間隙上窄下寬,外殼的頂部沿徑向向內(nèi)延伸,形成延伸部,該延伸部內(nèi)壁的軸向截面為錐臺,所述延伸部內(nèi)壁與盤體頂部之間的間隙小于外殼其他部位內(nèi)壁與盤體側(cè)表面之間的間隙;所述通孔的兩端分別連通于腔體及間隙,各通孔的中心軸線與盤體半徑之間的夾角為45° ;所述通孔為六個,由通孔噴出的氣體噴射到盤體的側(cè)表面上,形成一組逆時針或順時針的氣流;所述內(nèi)外設置的兩組接頭,每組各有六個,內(nèi)外兩側(cè)的接頭相間隔設置,位于外側(cè)的每一個輸送氣體的接頭的正上方對應一個通孔;所述腔體為圓環(huán)形腔體,與盤體同心。本發(fā)明的優(yōu)點與積極效果為:1.本發(fā)明的盤體降溫采用伯努利原理,突破了涂膠顯影設備傳統(tǒng)的熱板降溫方式,防止單個噴嘴或多個噴嘴直吹熱板表面,直吹點快速降溫而周邊溫度沒有降低,板面溫度不能有效快速降低,也減少熱板溫度均勻性恢復緩慢,提高設備的生產(chǎn)效率。2.本發(fā)明償氣流的方向得到有效的控制,調(diào)整氣流速度對工藝有很大幫助,降溫氣流還可以有效地將設備內(nèi)部產(chǎn)生的廢氣排出。3.本發(fā)明的結(jié)構設備不僅可以應用于涂膠顯影設備,而且可以廣泛的應用于其它要求快速降溫的機構上,有極強的通用性。


圖1為本發(fā)明的立體結(jié)構示意圖;圖2為本發(fā)明的主視剖視圖;圖3為本發(fā)明氣體運動原理示意圖;圖4為本發(fā)明的俯視圖;圖5為圖4中A處的局部放大圖;其中:I為盤體,2為外殼,3為排風接頭,4為腔體,5為間隙,6為通孔,7為延伸部,8為隔熱密封墊。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步詳述。如圖1、圖2、圖4、圖5所示,本發(fā)明包括盤體I及外殼2,其中盤體I為圓盤狀,夕卜殼2為圓形套筒,套設在盤體I的外部、與盤體I同心設置,盤體I的底部邊緣與外殼2的底部通過隔熱密封墊8密封連接;在盤體I的側(cè)表面與外殼2的內(nèi)壁之間留有間隙5,該間隙5上窄下寬,外殼2的頂部沿徑向向內(nèi)延伸,形成延伸部7,該延伸部7內(nèi)壁的軸向截面為錐臺,所述延伸部7內(nèi)壁與盤體I頂部之間的間隙5的體積要小于外殼2其他部位內(nèi)壁與盤體I側(cè)表面之間的間隙5的體積。在外殼2內(nèi)開有腔體4,該腔體4為圓環(huán)形腔體,與盤體I同心;腔體4與所述間隙5之間的盤體I上均布有多個通孔6 (本實施例的通孔為六個),每個通孔6的兩端分別連通于腔體4及間隙5,各通孔6的中心軸線與盤體I半徑之間的夾角為45°,由通孔6噴出的氣體噴射到盤體I的側(cè)表面上,形成一組逆時針或順時針的氣流。在盤體I底部邊緣與外殼2底部的隔熱密封墊8上、內(nèi)外設有兩組接頭,每組各有六個接頭,內(nèi)外兩側(cè)的接頭相間隔設置,位于外側(cè)的每一個輸送氣體的接頭的正上方對應一個通孔6 ;位于內(nèi)側(cè)的一組接頭為與所述間隙5連通的排風接頭3,各排風接頭3分別接至工廠排風負壓氣源,位于外側(cè)的另一組接頭為與所述腔體4連通的輸送氣體的接頭。本發(fā)明的工作原理為:如圖3所示,盤體I需要降溫時,由外側(cè)六個輸送氣體的接頭向腔體4內(nèi)噴出氣流,本實施例噴出的是氮氣氣流,腔體4內(nèi)的氮氣氣流再通過傾斜45°的通孔6排出至盤體I側(cè)表面的中上部;同時,在盤體I的上表面設有氣體補償噴口,向盤體噴射補償氣流,該補償氣流也為氮氣氣流。由于盤體I與外殼2頂部延伸部7之間的間隙要小于其他部位,在盤體I與外殼2頂部延伸部7之間的間隙處氣氣體流速要大于其他部分;而與間隙5連接的排風接頭3是與工廠排風負壓氣源連接的,因此補償氣流與由通孔6噴出的氣流混合后由排風接頭3排出,所以氣流方向為自上而下。根據(jù)伯努利原理,氣流速度變大壓力變小,排風接頭3處為負壓,盤體I下方的排風接頭3在高速氣流的控制下形成一組自上而下的氣流,在盤體I上方的補償氣流和工廠排風負壓氣流的共同作用下形成一組強對流,以此達到為盤體I快速降溫的目的。本發(fā)明不僅適于涂膠與顯影混合加工的工藝設備,還適于單一涂膠工藝的多軌道設備、單一顯影工藝的多軌道設備、清洗設備等等。
權利要求
1.一種旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板,其特征在于:包括盤體(I)及外殼(2),其中外殼(2)包圍在盤體(I)的外部,盤體(I)的底部邊緣與外殼(2)的底部密封連接,所述盤體(I)的側(cè)表面與外殼⑵的內(nèi)壁之間留有間隙(5);所述外殼(2)內(nèi)開有腔體(4),該腔體(4)與所述間隙(5)之間的盤體(I)上均布有多個通孔¢);在盤體(I)底部邊緣與外殼(2)底部的密封處內(nèi)外設有兩組接頭,位于內(nèi)側(cè)的一組接頭為與所述間隙(5)連通的排風接頭(3),各排風接頭(3)分別接至排風負壓氣源,位于外側(cè)的另一組接頭為與所述腔體(4)連通的輸送氣體的接頭;所述外殼(2)頂部與盤體(I)頂部之間的間隙(5)體積縮小。
2.按權利要求1所述的旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板,其特征在于:所述盤體(I)為圓盤狀,外殼(2)為圓形套筒,套設在盤體(I)的外部、與盤體(I)同心設置,在外殼(2)的底部通過隔熱密封墊(8)與盤體(I)的底部邊緣密封連接;所述內(nèi)外設置的兩組接頭,分別安裝在隔熱密封墊⑶上。
3.按權利要求1或2所述的旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板,其特征在于:所述外殼(2)與盤體(I)之間的間隙(5)上窄下寬,外殼(2)的頂部沿徑向向內(nèi)延伸,形成延伸部(7),該延伸部(7)內(nèi)壁的軸向截面為錐臺,所述延伸部⑵內(nèi)壁與盤體⑴頂部之間的間隙(5)小于外殼(2)其他部位內(nèi)壁與盤體(I)側(cè)表面之間的間隙。
4.按權利要求1所述的旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板,其特征在于:所述通孔¢)的兩端分別連通于腔體⑷及間隙(5),各通孔(6)的中心軸線與盤體⑴半徑之間的夾角為45°。
5.按權利要求4所述的旋轉(zhuǎn)氣 流降溫熱板,其特征在于:所述通孔(6)為六個,由通孔(6)噴出的氣體噴射到盤體(I)的側(cè)表面上,形成一組逆時針或順時針的氣流。
6.按權利要求1所述的旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板,其特征在于:所述內(nèi)外設置的兩組接頭,每組各有六個,內(nèi)外兩側(cè)的接頭相間隔設置,位于外側(cè)的每一個輸送氣體的接頭的正上方對應一個通孔(6)。
7.按權利要求1所述的旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板,其特征在于:所述腔體(4)為圓環(huán)形腔體,與盤體⑴同心。
全文摘要
本發(fā)明涉及對半導體涂膠晶片進行烘烤的設備,具體地說是一種旋轉(zhuǎn)氣流降溫熱板,包括盤體及外殼,外殼包圍在盤體的外部,盤體的底部邊緣與外殼的底部密封連接,盤體的側(cè)表面與外殼的內(nèi)壁之間留有間隙;外殼內(nèi)開有腔體,該腔體與間隙之間的盤體上均布有多個通孔;在盤體底部邊緣與外殼底部的密封處內(nèi)外設有兩組接頭,位于內(nèi)側(cè)的一組接頭為與間隙連通的排風接頭,各排風接頭分別接至排風負壓氣源,位于外側(cè)的另一組接頭為與所述腔體連通的輸送氣體的接頭;外殼頂部與盤體頂部之間的間隙體積縮小。本發(fā)明的盤體降溫采用伯努利原理,使得盤體能夠快速降溫,提高設備的生產(chǎn)效率。
文檔編號H01L21/67GK103094147SQ20111033209
公開日2013年5月8日 申請日期2011年10月27日 優(yōu)先權日2011年10月27日
發(fā)明者魏猛 申請人:沈陽芯源微電子設備有限公司
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