專利名稱：：信息記錄介質(zhì)和母盤曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及例如藍(lán)光(Bhi-my)光盤等信息記錄介質(zhì)和用于制造該信息記錄介質(zhì)的母盤曝光裝置(masterexposingdevice)。
背景技術(shù)：
：在藍(lán)光光盤等信息記錄介質(zhì)中，記錄層形成在基板上，通過將激光會聚到記錄層上，從而可進(jìn)行數(shù)據(jù)的寫入或讀取。此外，在介質(zhì)上螺旋狀地形成軌道(track)，在主軸電動機(jī)等上載置信息記錄介質(zhì)并使其旋轉(zhuǎn)，同時沿軌道會聚激光，由此執(zhí)行數(shù)據(jù)的讀寫。軌道通過在基板上物理地刻設(shè)的槽或坑而實現(xiàn)。例如在記錄型藍(lán)光光盤中，軌道通過槽而實現(xiàn)。此外，例如在再現(xiàn)專用型藍(lán)光光盤中，軌道通過坑而實現(xiàn)。此處，所謂的槽是指在信息記錄介質(zhì)的周向上物理上連續(xù)形成的凹凸圖案。此外，所謂坑是指在信息記錄介質(zhì)的周向上斷續(xù)形成的凹凸圖案，通過在信息記錄介質(zhì)的周向上排列多個坑來構(gòu)成一個軌道。此外，根據(jù)信息記錄介質(zhì)的種類，也有漕和溝二者在同一信息記錄介質(zhì)上分別刻設(shè)在規(guī)定的區(qū)域內(nèi)的情況。即，存在以下等的情況例如將僅刻設(shè)有槽的區(qū)域用作可記錄的區(qū)域，將僅刻設(shè)有坑的區(qū)域用作再現(xiàn)專用區(qū)域。另一方面，在記錄型藍(lán)光光盤的情況下，信息記錄介質(zhì)的最佳記錄功率和介質(zhì)制造商信息等作為控制數(shù)據(jù)預(yù)先記錄在信息記錄介質(zhì)上(將記錄有控制數(shù)據(jù)的區(qū)域稱作"控制數(shù)據(jù)區(qū)域"。也有如后所述稱作"PIC區(qū)域"的情況。)。通過與用戶數(shù)據(jù)區(qū)域不同的調(diào)制方式來使槽蛇行，由此進(jìn)行控制數(shù)據(jù)的記錄。此處，所謂的蛇行是通過使槽以規(guī)定的振幅和圖案在信息記錄介質(zhì)的半徑方向上微小地移位來實現(xiàn)的。此外，調(diào)制方式是指用于將想預(yù)先記錄的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為規(guī)定的蛇行圖案的轉(zhuǎn)換方式。此外，在以下的記載中，為了簡便，將"用于槽的蛇行的調(diào)制方法"簡單地記述為"擺動(wobble)調(diào)制方式"。并且，在記錄型藍(lán)光光盤中，為了使驅(qū)動器進(jìn)行的控制數(shù)據(jù)的讀取更加可靠，控制數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距形成為比用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距要大。此處，所謂的軌道間距是指在半徑方向上觀察信息記錄介質(zhì)時的鄰接的兩個軌道的中心間距離。如上所述，在記錄型藍(lán)光光盤中，使槽在信息記錄介質(zhì)的半徑方向上微量蛇行，但是在討論軌道間距的值時，不考慮槽的蛇行。由此，軌道間距與半徑方向上觀察信息記錄介質(zhì)時的槽間的平均距離相等。另一方面，關(guān)于照射在信息記錄介質(zhì)上的激光，其一部分被反射，反射光例如由二分割光電探測器等接收。圖15(a)圖15(c)是分別表示標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅(檢測面在沿軌道的方向上被分割的二分割光電探測器的各個輸出的差除以各個輸出之和得到的信號的振幅)、軌道間距、槽深以及槽寬的相互關(guān)系的曲線圖。從圖15(a)圖15(c)的曲線圖可知，例如在記錄型藍(lán)光光盤的情況下，控制數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距比用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距寬，因此，在控制數(shù)據(jù)區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的槽形狀大致相同時，從控制數(shù)據(jù)區(qū)域得到的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅比從用戶數(shù)據(jù)區(qū)域得到的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅大。此外，可知標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的大小隨著槽寬和槽深的變化而變化。另一方面，安裝了用于會聚激光的物鏡的拾波器根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號來追隨軌道(以下，將追隨軌道而動作的行為稱作"循軌(tracking)",將執(zhí)行循軌的控制稱作"循軌伺服"。)。拾波器通常以標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅在規(guī)定的范圍內(nèi)為前提而設(shè)計。換言之，在標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅在規(guī)定的范圍內(nèi)時，才能實現(xiàn)穩(wěn)定的循軌伺服。例如，在標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅小于規(guī)定范圍內(nèi)的值的情況下，不能得到用于實現(xiàn)穩(wěn)定的循軌伺服的充分的信號振幅，會出現(xiàn)引起循軌伺服不良的不良影響。此外，例如，在標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅大于規(guī)定范圍內(nèi)的值的情況下，超過需要的信號振幅被輸入循軌伺服電路，其結(jié)果會出現(xiàn)伺服系統(tǒng)振蕩的不良影響。并且，在標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅相對過大的情況下，推挽信號(檢測面在沿軌道的方向上被分割的二分割光電探測器的各個輸出的差信號)作為噪聲疊加在進(jìn)行聚焦伺服而使用的聚焦誤差信號上，有可能會引起聚焦不準(zhǔn)等課題。此外，也可以考慮根據(jù)拾波器的種類而使用標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號以外的信號來執(zhí)行循軌的情況，但是只有用于執(zhí)行循軌的信號振幅在規(guī)定范圍內(nèi)時才能實現(xiàn)穩(wěn)定的循軌伺服這一點上是相同的。此外，即使在標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅在規(guī)定范圍內(nèi)時，伺服系統(tǒng)的增益控制電路也不能跟隨急劇的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變化，有可能會發(fā)生引起循軌伺服不良的情形。由此，盡可能減小標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變化會使引起有關(guān)循軌伺服的不良情況的可能性降低。如上所述，可知標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號的急劇變化會給循軌伺服或聚焦伺服帶來不良影像，所以公知也可以通過例如使控制數(shù)據(jù)區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的槽形狀不同，來減小控制數(shù)據(jù)區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的差。此外，根據(jù)一般的信息記錄介質(zhì)的制造方法，通過針對每個區(qū)域改變母盤曝光裝置的曝光功率，可以針對每個區(qū)域改變槽形狀。此外，為了針對上述軌道間距不同的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的循軌伺服，提出了把軌道間距不同的區(qū)域形成一個螺旋狀的軌道，且設(shè)置使軌道間距逐漸變化的變遷區(qū)間的方案(專利文獻(xiàn)l)。上述設(shè)置使軌道間距逐漸變化的變遷區(qū)間的技術(shù)例如在記錄型藍(lán)光光盤中被采用。根據(jù)該技術(shù)，控制數(shù)據(jù)區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域被設(shè)為連續(xù)的螺旋狀的軌道，兩個區(qū)域通過設(shè)置使軌道間距逐漸變化的軌道間距變遷區(qū)間Stp而連接。利用圖16對記錄型藍(lán)光光盤中的控制數(shù)據(jù)區(qū)域、用戶數(shù)據(jù)區(qū)域以及軌道間距變遷區(qū)間Stp的配置進(jìn)行說明。此外，圖16是用于說明一般的記錄型藍(lán)光光盤中的控制數(shù)據(jù)區(qū)域、用戶數(shù)據(jù)區(qū)域以及軌道間距變遷區(qū)間Stp的配置的圖。如圖16所示，在記錄型藍(lán)光光盤中，控制數(shù)據(jù)區(qū)域配置在用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的內(nèi)周偵'j，并將控制數(shù)據(jù)區(qū)域中的軌道間距設(shè)定為大約0.35ixm，將用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距設(shè)定為大約0.32txm。此外，在用戶數(shù)據(jù)區(qū)域和控制數(shù)據(jù)區(qū)域之間，設(shè)有保護(hù)區(qū)域(Protectionzone)，形成為軌道間距變遷區(qū)間Stp完全包含在保護(hù)區(qū)域中。存在于軌道間距變遷區(qū)間Stp的內(nèi)周側(cè)的保護(hù)區(qū)域(圖16中的內(nèi)周側(cè)保護(hù)區(qū)域)的軌道間距被設(shè)定為與控制數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距的值相同。另一方面，存在于軌道間距變遷區(qū)間Stp的外周側(cè)的保護(hù)區(qū)域(圖16中的外周側(cè)保護(hù)區(qū)域)的軌道間距被設(shè)定為與用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距的值相同。此外，擺動調(diào)制方式被設(shè)為與控制數(shù)據(jù)區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的方式不同的方式，保護(hù)區(qū)域的擺動調(diào)制方式被設(shè)為與用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的擺動調(diào)制方式相同的方式。即，擺動調(diào)制方式形成為在保護(hù)區(qū)域和控制數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界部處變化(專利文獻(xiàn)2)。艮口，保護(hù)區(qū)域是指設(shè)置在擺動調(diào)制方法及軌道間距不同的兩個區(qū)域之間的、為了連接形成為一個螺旋狀軌道的兩個區(qū)域而設(shè)置的區(qū)域。專利文獻(xiàn)1:日本特開2003—346384號公報專利文獻(xiàn)2:日本特開2006—12355號公報關(guān)于本發(fā)明要解決的課題，舉例對藍(lán)光光盤進(jìn)行說明。如上所述，在藍(lán)光光盤中，控制數(shù)據(jù)區(qū)域以相對較寬的軌道間距設(shè)置在用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的內(nèi)周側(cè)。兩者設(shè)置在連續(xù)的軌道上，在兩者之間設(shè)置有使軌道間距逐漸變化的軌道間距變遷區(qū)間Stp。此外，為了減小控制數(shù)據(jù)區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的差，通過使母盤曝光裝置中的兩個區(qū)域的曝光功率分別不同，而可以使兩個記錄區(qū)域的槽形狀互不相同。但是，當(dāng)使兩個記錄區(qū)域的槽形狀互不相同時，在不同的槽形狀的連接部分產(chǎn)生標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的不連續(xù)，會存在無法得到驅(qū)動器動作所需大小的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅、或者得到了會引起循軌伺服和聚焦伺服障礙的大小的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅等不良情況。此外，由于標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅不連續(xù)，也會有循軌伺服系統(tǒng)的增益控制電路不能完全隨動而引起循軌伺服不良的不利情況。在記錄層中含有有機(jī)色素材料的In-Groove型的Low-To-High記錄型藍(lán)光光盤中這種不良情況尤其顯著。此處，In-Graove型是指凹凸圖案中的將距記錄再現(xiàn)光入射側(cè)的記錄介質(zhì)表面較遠(yuǎn)一側(cè)的槽底部作為記錄軌道的類型的藍(lán)光光盤。此外，Low-To-High記錄型藍(lán)光光盤是指構(gòu)成為記錄標(biāo)記部分的反射率比未記錄部分的反射率高的藍(lán)光光盤。在In-Groove型的Low-To-High記錄型藍(lán)光光盤中，為了在用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中獲得實用上足夠的記錄再現(xiàn)特性，優(yōu)選一定程度地增大記錄前的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅。因此，考慮了在記錄前的狀態(tài)下，控制數(shù)據(jù)區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的差變大，容易出現(xiàn)兩個區(qū)域的連接部分中標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的不連續(xù)引起的循軌伺服不良等不良情況。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是為了解決上述課題而完成的。即，本發(fā)明的目的在于，提供一種能夠在具有軌道間距和槽形狀不同的多個記錄區(qū)域的信息記錄介質(zhì)中，實現(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服的信息記錄介質(zhì)和制造該信息記錄介質(zhì)的母盤曝光裝置。本發(fā)明的發(fā)明人對上述課題進(jìn)行深入研究，作為結(jié)果發(fā)現(xiàn)了在具有軌道間距和槽形狀不同的多個記錄區(qū)域的信息記錄介質(zhì)中，在這些記錄區(qū)域間，設(shè)置具有軌道間距變遷區(qū)間和槽形狀變遷區(qū)間的變遷區(qū)間，同時使這些區(qū)間至少共有一部分區(qū)域，由此能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服。此外，發(fā)現(xiàn)了一種母盤曝光裝置，其通過設(shè)置單調(diào)增加或單調(diào)減少地掃描記錄光的強度的機(jī)構(gòu)或以100msec以下的周期重復(fù)進(jìn)行插值并調(diào)節(jié)記錄光強度的動作的機(jī)構(gòu)，可以制造這種信息記錄介質(zhì)，從而完成了本發(fā)明。艮p，本發(fā)明具有以下的要旨。(1)一種信息記錄介質(zhì)，其具有由凹凸圖案形成的記錄軌道，其特征在于，該記錄軌道至少具有第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及配置在第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2之間的記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx，第一記錄區(qū)域R1中的軌道間距tpl、槽寬wl及槽深dl和第二記錄區(qū)域R2中的軌道間距tp2、槽寬w2及槽深d2滿足下述式(1)、下述式(2)和/或式(3)，0<Itpl-tp2I(1)0<Iwl-w2I(2)0<Idl畫d2I(3)記錄區(qū)域變遷區(qū)間SX具有軌道間距從tpl向tp2變遷的軌道間距變遷區(qū)間Stp，槽寬從wl向w2變遷和/或槽深從dl向d2變遷的槽形狀變遷區(qū)間Sg,軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg至少共有一部分的區(qū)域SL。(2)根據(jù)上述(1)所述的信息記錄介質(zhì)，第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx由物理上連續(xù)的槽形成。(3)根據(jù)上述(1)或(2)所述的信息記錄介質(zhì)，所述信息記錄介質(zhì)具有包含有機(jī)色素的記錄層。(4)根據(jù)上述(1)(3)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，記錄標(biāo)記部分中的反射率比未記錄部分的反射率高。(5)根據(jù)上述(1)(4)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，將凹凸圖案中的與記錄再現(xiàn)光入射側(cè)的信息記錄介質(zhì)的表面相距較遠(yuǎn)一側(cè)的槽底部設(shè)為記錄軌道。(6)根據(jù)上述(1)(5)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，記錄層的組成和膜厚至少在第一記錄區(qū)域Rl、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中是相同的。(7)根據(jù)上述(1)(6)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，在圓盤狀的信息記錄介質(zhì)中，沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg是圓盤狀的信息記錄介質(zhì)的軌道一周長以上。(8)根據(jù)上述(1)(7)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，槽形狀變遷區(qū)間Sg中的槽寬及/或槽深沿軌道單調(diào)增加或單調(diào)減少地變化。(9)根據(jù)上述(1)(8)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度Ltp和沿軌道間距變遷區(qū)間Stp及槽形狀變遷區(qū)間Sg所共有的區(qū)域SL的軌道的長度LL滿足下述式(4)及式(5)0.2蕓Lg/Ltp蕓2.5(4)0,1^Lg/Ltp^1.0(5)。(10)根據(jù)上述(1)(9)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，在將第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2中的未記錄狀態(tài)下的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的最大值設(shè)為NPPmax，最小值設(shè)為NPPmm的情況下，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的全部區(qū)域內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP滿足下式NPPmin^NPPSNPP隱(6)。(11)根據(jù)上述(1)(10)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，在將第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2中的未記錄狀態(tài)下的槽部反射率的最大值設(shè)為RgVmax，最小值設(shè)為RgVmin的情況下，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的全部區(qū)域內(nèi)的未記錄狀態(tài)下的槽部反射率Rgv滿足下式Rgvmin蕓Rgv^Rgv隨(7)。(12)根據(jù)上述(1)(11)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，第一記錄區(qū)域R1配置在第二記錄區(qū)域R2的內(nèi)周側(cè)，且在第一記錄區(qū)域R1的內(nèi)周側(cè)配置有第三記錄區(qū)域R3，所述第三記錄區(qū)域R3具有比第一記錄區(qū)域Rl中的軌道間距tpl及第二記錄區(qū)域R2中的軌道間距tp2寬的軌道間距tp3。(13)根據(jù)上述(12)所述的信息記錄介質(zhì)，在第三記錄區(qū)域R3中未進(jìn)行通過槽的蛇行而進(jìn)行的信息記錄。(14)根據(jù)上述(12)或(13)所述的信息記錄介質(zhì)，在第三記錄區(qū)域R3和第一記錄區(qū)域Rl之間，配置有軌道間距從tp3向tpl變遷的軌道間距變遷區(qū)間Stp'。(15)根據(jù)上述(1)(14)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，第一記錄區(qū)域Rl包含存儲了規(guī)定的信息的讀取專用區(qū)域，第二記錄區(qū)域R2包含可寫入用戶數(shù)據(jù)的可讀寫區(qū)域。(16)根據(jù)上述(15)所述的信息記錄介質(zhì)，讀取專用區(qū)域中的軌道間距為0.35um，可讀寫區(qū)域中的軌道間距為0.32um。(17)根據(jù)上述(15)或(16)所述的信息記錄介質(zhì)，在將讀取專用區(qū)域中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為NPP1，將可讀寫區(qū)域中的未記錄狀態(tài)下的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為NPP2，將可讀寫區(qū)域中的記錄后的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為NPP2a，并將各個最大值中的最大值設(shè)為NPPALmax，各個最小值中的最小值設(shè)為NPPALmm時，NPPALmax/NPPALminS3。(18)根據(jù)上述(17)所述的信息記錄介質(zhì)，其中，NPPAL臓/NPPAL油S2。(19)根據(jù)上述(15)(18)的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，針對讀取專用區(qū)域應(yīng)用第一擺動調(diào)制方式，針對可讀寫區(qū)域應(yīng)用與第一擺動調(diào)制方式不同的第二擺動調(diào)制方式，且在記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中應(yīng)用與可讀寫區(qū)域相同的擺動調(diào)制方式。(20)—種母盤曝光裝置，其特征在于，該母盤曝光裝置具有.-記錄光源；偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)，其使得產(chǎn)生基于規(guī)定的格式的規(guī)定的偏轉(zhuǎn)信號；記錄光偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其根據(jù)上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)所生成的偏轉(zhuǎn)信號，使上述記錄光源產(chǎn)生的記錄光偏轉(zhuǎn)；聚光機(jī)構(gòu)，其使上述記錄光會聚到母盤上；旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其用于載置上述母盤并使其旋轉(zhuǎn)；半徑移動機(jī)構(gòu)，其使上述聚光機(jī)構(gòu)在上述母盤的半徑方向上相對地移動；控制機(jī)構(gòu)，其根據(jù)預(yù)先設(shè)定的值，控制上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)速度、上述半徑移動機(jī)構(gòu)的移動速度及上述聚光機(jī)構(gòu)的位置，以使能生成軌道間距不同的多個記錄區(qū)域；記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，其調(diào)節(jié)上述記錄光的強度；以及記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)，其根據(jù)預(yù)先設(shè)定的值，單調(diào)增加或單調(diào)減少地掃描上述記錄光的強度。(21)根據(jù)上述(20)所述的母盤曝光裝置，該母盤曝光裝置具有以下機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)檢測聚光機(jī)構(gòu)到達(dá)了預(yù)先設(shè)定的特定的半徑位置處的情況，開始及/或結(jié)束上述記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)進(jìn)行的記錄光強度的掃描。(22)根據(jù)上述(20)所述的母盤曝光裝置，該母盤曝光裝置具有以下機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)檢測上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)輸出了預(yù)先設(shè)定的特定的地址的情況，開始及/或結(jié)束上述記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)進(jìn)行的記錄光強度的掃描。(23)根據(jù)上述(20)所述的母盤曝光裝置，該母盤曝光裝置具有以下機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)檢測聚光機(jī)構(gòu)到達(dá)了預(yù)先設(shè)定的特定的半徑位置處的情況，開始上述記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)進(jìn)行的記錄光強度的掃描，并且在經(jīng)過了預(yù)先設(shè)定的規(guī)定的時間以后，結(jié)束上述掃描。(24)根據(jù)上述(20)所述的母盤曝光裝置，該母盤曝光裝置具有以下機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)檢測上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)輸出了預(yù)先設(shè)定的特定的地址的情況，開始上述記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)進(jìn)行的記錄光強度的掃描，并且在經(jīng)過了預(yù)先設(shè)定的規(guī)定的時間以后，結(jié)束上述掃描。(25)—種母盤曝光裝置，其特征在于，該母盤曝光裝置至少具有記錄光源；偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)，其使得產(chǎn)生基于規(guī)定的格式的規(guī)定的偏轉(zhuǎn)信號；記錄光偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其根據(jù)上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)所生成的偏轉(zhuǎn)信號，使上述記錄光源產(chǎn)生的記錄光偏轉(zhuǎn)；聚光機(jī)構(gòu)，其使上述記錄光會聚到母盤上；旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其用于載置上述母盤并使其旋轉(zhuǎn)；半徑移動機(jī)構(gòu)，其使上述聚光機(jī)構(gòu)在上述母盤的半徑方向上相對地控制機(jī)構(gòu)，其根據(jù)預(yù)先設(shè)定的值，控制上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)速度、上述半徑移動機(jī)構(gòu)的移動速度及上述聚光機(jī)構(gòu)的位置，以使得能生成軌道間距不同的多個記錄區(qū)域；記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，其根據(jù)上述聚光機(jī)構(gòu)的位置和預(yù)先設(shè)定的特定的半徑值中的記錄光強度設(shè)定值，來插值并調(diào)節(jié)記錄光強度；以及重復(fù)動作機(jī)構(gòu)，其重復(fù)進(jìn)行上述記錄光強度調(diào)節(jié)動作，上述重復(fù)動作機(jī)構(gòu)的1個周期所需要的動作時間在100msec以下。本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)具有軌道間距和槽形狀不同的多個記錄區(qū)域，同時能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服。此外，利用本發(fā)明的母盤曝光裝置，能夠高效地制造上述信息記錄介質(zhì)。圖1(a)和圖1(b)均是示出本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)所具有的層結(jié)構(gòu)的例子的示意性的局部剖面圖。圖2是示出本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)中的第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx的關(guān)系的圖。示意性地分別示出了第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中的鄰接的兩個槽的截面形狀的例子。圖3是示意性地示出本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的一例的記錄型藍(lán)光光盤中的記錄區(qū)域的配置的俯視圖。.圖4(a)圖4(i)是示出用于制造本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的壓模制造工序的一例的圖。圖5是示意性地示出本發(fā)明的一個實施方式的母盤曝光裝置的基本結(jié)構(gòu)的例子的功能框圖。圖6是表示在本發(fā)明的一個實施方式的母盤曝光裝置的第2形式中，通過連續(xù)的插值而得的理論曝光強度和聚光機(jī)構(gòu)的半徑值之間的關(guān)系的曲線圖。圖7是表示在本發(fā)明的一個實施方式的母盤曝光裝置的第2形式中，通過重復(fù)插值動作而得的實際的曝光強度和聚光機(jī)構(gòu)的半徑值之間的關(guān)系的曲線圖。圖8(a)是示出用于各實施例及各比較例的信息記錄介質(zhì)的評價的信息再現(xiàn)裝置(以下稱作"評價用信息再現(xiàn)裝置")的主要部分的結(jié)構(gòu)的功能框圖。圖8(b)是示出圖8(a)所示的評價用信息再現(xiàn)裝置所具有的四分割光電二極管的結(jié)構(gòu)的圖。圖9是示出實施例1的信息記錄介質(zhì)中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的信息記錄介質(zhì)的大約1/2周部分的波形的圖。圖10是示出實施例2的信息記錄介質(zhì)中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的信息記錄介質(zhì)的大約1/2周部分的波形的圖。圖11是示出實施例3的信息記錄介質(zhì)中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的信息記錄介質(zhì)的大約1/2周部分的波形的圖。圖12是示出比較例1的信息記錄介質(zhì)中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的信息記錄介質(zhì)的大約1/2周部分的波形的圖。圖13是示出比較例2的信息記錄介質(zhì)中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的信息記錄介質(zhì)的大約1/2周部分的波形的圖。圖14是繪出關(guān)于實施例17及比較例1、2的信息記錄介質(zhì)得到的Lg/Ltp和LL/Ltp的關(guān)系的圖。圖15(a)圖15(c)是分別表示標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅(檢測面在沿In-Groove型軌道的方向上被分割的二分割光電探測器的各個輸出的差信號)、軌道間距、槽深以及槽寬的相關(guān)關(guān)系的曲線圖。圖16是示出一般的記錄型藍(lán)光光盤中的控制數(shù)據(jù)區(qū)域、用戶數(shù)據(jù)區(qū)域以及軌道間距變遷區(qū)間Stp的配置的圖。標(biāo)號說明100、200信息記錄介質(zhì)；101、201基板；102反射層；103記錄層；104、207覆蓋層；105、208激光；202第一反射層；203第一記錄層；204中間層；205第二反射層；206第二記錄層；300記錄型藍(lán)光光盤；301BCA區(qū)域；302PIC區(qū)域；303用戶數(shù)據(jù)區(qū)域；501母盤用基板；502光致抗蝕劑；503母盤；503，凹凸母盤；504圖案；505導(dǎo)電層；506父版層(父版壓模、父版)；507剝離層；508母版層(母版壓模、母版)；600母盤曝光裝置；601格式器(偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu))；602激光光源(記錄光源)；603功率調(diào)節(jié)元件(記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))；604EOD元件(記錄光偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))；605物鏡(聚光機(jī)構(gòu))；606轉(zhuǎn)臺(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))；607滑塊(半徑移動機(jī)構(gòu))；608反射鏡；609控制器(控制機(jī)構(gòu))；900評價用信息再現(xiàn)裝置；901四分割光電二極管；902推挽信號生成電路；903和信號生成信號；904標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號生成電路；905合成電路；906評價對象的信息記錄介質(zhì)。具體實施例方式以下，參照用于實施本發(fā)明的最佳方式(以下稱作"發(fā)明的實施方式")。但是，本發(fā)明不限于以下的發(fā)明的實施方式，在本發(fā)明的主旨范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變形來實施。此外，本發(fā)明優(yōu)選應(yīng)用于In-Groove型的Low-To-High記錄型藍(lán)光光盤，因此，在以下的發(fā)明的實施方式說明中，作為信息記錄介質(zhì)以In-Groove型的Low-To-High記錄型藍(lán)光光盤為例進(jìn)行說明。但是，本發(fā)明不僅可以應(yīng)用于特定的信息記錄介質(zhì)，還可以應(yīng)用于各種信息記錄介質(zhì)(例如On-Groove型等記錄型藍(lán)光光盤和DVD(DigitalVersatileDisc:數(shù)字通用光盤)等藍(lán)光光盤以外的信息記錄介質(zhì)等)。[I.信息記錄介質(zhì)][1.1基本結(jié)構(gòu)]本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)是具有由凹凸圖案形成的記錄軌道的信息記錄介質(zhì)，其通常至少具有圓盤狀(disc狀)的基板和形成在基板上的記錄層?；蹇梢赃m當(dāng)使用以往公知的材料，但優(yōu)選其具有形狀穩(wěn)定性，以使信息記錄介質(zhì)具有一定程度的剛性?！熠?，優(yōu)選機(jī)械穩(wěn)定性高、剛性大的基板。作為這種材料，可以使用例如丙烯類樹脂、甲基丙烯酸類樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚烯烴類樹脂(特別是非晶聚烯烴)、聚酯類樹脂、聚苯乙烯類樹脂、環(huán)氧樹脂等樹脂和玻璃等?？梢詥为毷褂眠@些材料的任意一種，也可以以任意組合和比例并用兩種以上的這些材料。其中，從成形性等的高生產(chǎn)率、成本、低吸濕性、形狀穩(wěn)定性等方面出發(fā)，優(yōu)選聚碳酸酯作為基板的材料。作為基板的厚度，通常優(yōu)選在0.5mm以上且1.2mm以下。記錄層可適當(dāng)使用以下這樣的現(xiàn)有公知的材料即通過激光的照射其物理特性或形狀等變化，通過反射率等光學(xué)特性的變化可進(jìn)行信息的記錄再現(xiàn)。作為這種材料，可以列舉有機(jī)色素材料和以相變材料為代表的無機(jī)材料等。作為有機(jī)色素材料，例如可以列舉以下材料等大環(huán)氮雜輪烯系色素(酞菁色素、萘酞菁色素、卟啉色素等)、吡咯甲川系色素、聚甲炔系色素(菁色素、部花青色素、方酸菁(squalirium)色素等)、蒽醌(anthoraquinone)系色素、奧鐵(azulenium)系色素、金屬絡(luò)合物偶氮類色素、金屬絡(luò)合物靛苯胺類色素等。作為無機(jī)材料，例如可以使用GeTe、GeSbTe等硫族類合金膜；Si/Ge、Al/Sb等雙層膜；BiGeN、SnNbN等(部分)氮化膜；TeOx、BiFOx等(部分)氧化膜等。可以單獨使用這些材料的任意一種，也可以以任意組合和比例并用兩種以上。記錄層的膜厚通常在lnm以上且100nm以下，優(yōu)選10nm90nm。此處，記錄層的組成和膜厚優(yōu)選至少在第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中是相同的。但是，并不禁止制造工序和槽形狀引起的不可避免的記錄層的組成和膜厚的分布不均。即，作為記錄層，在例如使用一般的旋涂法涂布有機(jī)色素材料的情況下，在槽形狀不同的區(qū)域或圓盤的內(nèi)外周產(chǎn)生記錄層膜厚少許不同的情況，但是只要在可以實現(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服的范圍內(nèi)，則是容許的。此外，本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)優(yōu)選應(yīng)用于In-Groove型的Low-To-High記錄型藍(lán)光光盤。即，記錄層的組成和膜厚優(yōu)選為記錄標(biāo)記部分中的反射率比未記錄部分的反射率高的結(jié)構(gòu)。之所以這樣，是因為如上所述，In-Groove型的Low-To-High記錄型藍(lán)光光盤容易出現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的不連續(xù)引起的循軌伺服不良等的不良情況。但是，本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)也可以應(yīng)用于High-To-Low記錄型藍(lán)光光盤等，可以任意選擇記錄層的組成和膜厚。此外，本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)使用公知的記錄和/或再現(xiàn)裝置，對記錄層照射用于記錄或再現(xiàn)的激光，由此可以在記錄層中記錄數(shù)據(jù)或再現(xiàn)在記錄層中所記錄的數(shù)據(jù)。此外，本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)也可以具有其他的層。作為其他的層的例子，可以列舉反射層、覆蓋層、中間層、界面層等。反射層需要是針對記錄再現(xiàn)所使用的激光具有一定數(shù)值以上的反射率的反射層，可以適當(dāng)使用以往公知的材料。作為這類的材料，可以使用例如Al、Ag、Au等金屬或者這些金屬的合金。可以單獨使用這些材料中的任意一種，也可以以任意組合和比例并用兩種以上。反射層的膜厚通常在3nm以上且400誰以下，優(yōu)選50nm300nm。對覆蓋層選擇相對于記錄再現(xiàn)中所使用的激光透明且雙折射少的材料。通常用粘結(jié)劑貼合塑料板(稱作薄板)，在涂布覆蓋層的溶液后，利用光、放射線、或熱等進(jìn)行固化而形成。可以單獨使用這些材料中的任意一種，也可以以任意組合和比例并用兩種以上。覆蓋層的膜厚通常在10nm以上且300"m以下，優(yōu)選50um150um。在藍(lán)光光盤中，通常覆蓋層的膜厚是100um左右，優(yōu)選97txm103um。中間層主要用于具有多個記錄層的層疊型信息記錄介質(zhì)中。除了需要針對記錄再現(xiàn)中所使用的激光具有一定的透光性之外，還需要能夠形成凹凸的槽和坑。作為中間層的材料，例如可以列舉熱塑性樹脂、熱固化性樹脂、電子射線固化性樹脂、紫外線固化性樹脂(包括延遲固化型)等樹脂材料。可以單獨使用這些材料中的任意一種，也可以以任意組合和比例并用兩種以上。中間層的膜厚通常在5ym以上且100tim以下，優(yōu)選10um70]im。界面層設(shè)置在記錄層和覆蓋層的界面、記錄層和反射層的界面等處，具有防止相互的層的擴(kuò)散和調(diào)節(jié)光學(xué)特性等功能。界面層的膜厚通常在lnm以上且50nm以下，優(yōu)選3nm15nm。本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)中的這些層的數(shù)量和組合、層疊順序等沒有限制，是任意的。使用圖l(a)、圖l(b)對本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)所具有的具體的層結(jié)構(gòu)的例子進(jìn)行說明。此處，圖1(a)和圖1(b)均是示出本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)所具有的層結(jié)構(gòu)的例子的示意性局部剖面圖。具體地說，圖l(a)所示的信息記錄介質(zhì)100是單層型的信息記錄介質(zhì)的一例，依序?qū)盈B了基板101、反射層102、記錄層103及覆蓋層104。此外，通過從覆蓋層104側(cè)向記錄層103照射用于記錄或再現(xiàn)的激光105，可以在記錄層103中記錄數(shù)據(jù)或再現(xiàn)在記錄層103中所記錄的數(shù)據(jù)。此外，圖l(b)所示的信息記錄介質(zhì)200是雙層型的信息記錄介質(zhì)，依序?qū)盈B了基板201、第一反射層202、第一記錄層203、中間層204、第二反射層205、第二記錄層206以及覆蓋層207。此外，通過從覆蓋層207側(cè)向第一記錄層203或第二記錄層206照射用于記錄或再現(xiàn)的激光208，可以在第一記錄層203或第二記錄層206中記錄數(shù)據(jù)或再現(xiàn)在第一記錄層203或第二記錄層206中所記錄的數(shù)據(jù)。以下，有以圖l(a)、圖l(b)中示出的層結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行說明的情況，但是這些圖1(a)、圖l(b)所示的層結(jié)構(gòu)僅是本發(fā)明的信息記錄媒體的層結(jié)構(gòu)的一例。本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)不限于這些層結(jié)構(gòu)，也可以有其他的層結(jié)構(gòu)。例如，可以去除圖l(a)、圖l(b)中示出的層結(jié)構(gòu)中的一部分的層、追加其他的層、將兩個以上的層形成為一層、變更層疊順序、設(shè)置三層以上的記錄層或者加以其他任意的變更。通過凹凸圖案而實現(xiàn)的螺旋狀的軌道。以該軌道為基準(zhǔn)，向記錄層照射用于記錄的激光，由此沿軌道記錄數(shù)據(jù)。此外，以該軌道為基準(zhǔn)，向記錄層照射用于再現(xiàn)的激光，由此能夠沿軌道再現(xiàn)所記錄的數(shù)據(jù)。具體地說，在圖l(a)中示出的單層型信息記錄介質(zhì)中，在基板101上形成軌道(凹槽軌道)GH，反射層102、記錄層103、覆蓋層104層疊形成在該軌道GT1上。此外，在圖l(b)中示出的雙層型信息記錄介質(zhì)中，在基板201上形成軌道(凹槽軌道)GT21，第一反射層202、第一記錄層203及中間層204層疊在該軌道GT21上。此外，在中間層204的與第一記錄層203相反側(cè)的面上形成軌道(凹槽軌道)GT22，第二反射層205、第二記錄層206及覆蓋層207層疊在該軌道GT22上。在以下的記載中，如圖1(a)、圖1(b)所示，作為原則，以在基板或中間層上形成軌道的情況為例進(jìn)行說明。但是，本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)中形成軌道的層不限于基板或中間層。此外，軌道可以由在從信息記錄介質(zhì)的激光入射側(cè)觀察時的凹凸圖案的凹部形成，也可以由凸部形成，或者還可以由凸部和凹部兩者形成。但是，尤其在作為記錄層具有有機(jī)色素材料的膜面入射方式的信息記錄介質(zhì)中，優(yōu)選由從激光入射側(cè)觀察時的凹凸圖案的凹部形成軌道。在以下的記載中，將這種由從激光入射側(cè)觀察時的凹凸圖案的凹部形成的軌道稱作"凹槽軌道(groovetrack)"。圖1(a)、圖1(b)中示出的軌道GT1、GT21和GT22都是凹槽軌道的例子。在以下的記載中，只要沒有特別的限制性記載，如圖1(a)、圖1(b)所示，以由基板和中間層等槽(凹部)形成的凹槽軌道為前提進(jìn)行說明，但是本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)所具有的軌道并不限于凹槽軌道。此外，在軌道由槽形成的情況下，該槽的截面形狀(在信息記錄介質(zhì)的厚度方向上的截面形狀)不受限制，是任意的。作為例子，可以列舉矩形、梯形、半圓形及半橢圓形等。此外，在本發(fā)明中，將形成軌道的槽的寬度定義為"槽寬"。此外，在形成軌道的槽的寬度隨著信息記錄介質(zhì)的厚度方向的位置而不同的情況下，例如在軌道的截面形狀是梯形等情況下，可以將槽的最大深度的二分之一位置處所具有的寬度作為"槽寬"。此外，在本發(fā)明中，將形成軌道的槽的深度定義為"槽深"。此外，在形成軌道的槽的深度隨著信息記錄介質(zhì)的半徑方向的位置而不同的情況(例如軌道的截面形狀是半圓的情況等)下，可以把該深度的最大值設(shè)為"槽深"。此外，形成軌道的槽的形狀主要由這些"槽寬"和"槽深"決定。在以下的記載中，有時將信息記錄介質(zhì)的槽寬和域槽深總稱為"槽形狀"。[I-2.記錄區(qū)域及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx]接下來，參照圖2對本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的記錄軌道具有的第一記錄區(qū)域Rl、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx的關(guān)系進(jìn)行說明。此外，圖2是用于說明本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx的關(guān)系的圖，示意性地分別示出了第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中的鄰接的兩個槽的截面形狀的例子。如圖2所示，本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的記錄軌道至少具有第一記錄區(qū)域Rl和第二記錄區(qū)域R2。本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的記錄軌道的第一記錄區(qū)域Rl中的軌道間距tpl、槽寬wl及槽深dl和第二記錄區(qū)域R2中的軌道間距tp2、槽寬w2及槽深d2滿足下述式(1)、下述的式(2)和/或式(3)，0<Itpl-tp2I(1)0<Iwl-w2I(2)0<Idl-d2I(3)式(1)表示第一記錄區(qū)域R1中的軌道間距tpl和第二記錄區(qū)域R2中的軌道間距tp2具有互不相同的值。此外，式(2)表示第一記錄區(qū)域R1中的槽寬wl和第二記錄區(qū)域R2中的槽寬w2具有互不相同的值。此外，式(3)表示第一記錄區(qū)域Rl中的槽深dl和第二記錄區(qū)域R2中的槽深d2具有互不相同的值。23此外，可以僅滿足式(2)及式(3)中的任意一方，也可以兩者都滿足o艮口，也可以是第一記錄區(qū)域Rl的槽寬wl和第二記錄區(qū)域R2的槽寬w2不同的同時，第一記錄區(qū)域R1的槽深dl和第二記錄區(qū)域R2的槽深d2也不同。此外，也可以是第一記錄區(qū)域Rl的槽寬wl和第二記錄區(qū)域R2的槽寬w2不同，另一方面，第一記錄區(qū)域R1的槽深dl和第二記錄區(qū)域R2的槽深d2相同。此外，也可以是第一記錄區(qū)域Rl的槽寬wi和第二記錄區(qū)域R2的槽寬w2相同，另一方面，第一記錄區(qū)域R1的槽深dl和第二記錄區(qū)域R2的槽深d2不同。在圖2中，示出了第一記錄區(qū)域R1的槽寬wl和第二記錄區(qū)域R2的槽寬w2不同的同時，第一記錄區(qū)域R1的槽深dl和第二記錄區(qū)域R2的槽深d2也不同的情況，但是本發(fā)明不限于此。此外，第一記錄區(qū)域R1中的軌道間距tpl、槽寬wl及槽深dl和第二記錄區(qū)域R2中的軌道間距tp2、槽寬w2及槽深d2都通常在各記錄區(qū)域R1、R2的整體范圍內(nèi)大致相同。此外，如圖2所示，本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)具有配置在上述第一記錄區(qū)域Rl和第二記錄區(qū)域R2之間的記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx。即，第一記錄區(qū)域Rl和第二記錄區(qū)域R2物理上分離，在這些第一記錄區(qū)域Rl和第二記錄區(qū)域R2之間配置有記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx。該記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx具有軌道間距從tpl向tp2變遷的軌道間距變遷區(qū)間Stp，槽寬從wl向w2變遷和/或槽深從dl向d2變遷的槽形狀變遷區(qū)間Sg。此處，軌道間距變遷區(qū)間Stp是指存在于記錄區(qū)域Rl和R2之間，在沿軌道觀察信息記錄介質(zhì)的情況下，軌道間距從tpl向tp2逐漸變化的區(qū)域。此外，與軌道間距變遷區(qū)間Stp同樣，槽形狀變遷區(qū)間Sg是指存在于記錄區(qū)域Rl和R2之間，在沿軌道觀察信息記錄介質(zhì)的情況下，槽寬從wl向w2逐漸變化和/或槽深從dl向d2逐漸變化的區(qū)域。艮卩，在第一記錄區(qū)域Rl的槽寬wl和第二記錄區(qū)域R2的槽寬w2相同的情況下，槽形狀變遷區(qū)間Sg的槽寬不變化，wl禾卩w2相同，僅槽深從dl向d2逐漸變化。此外，在第一記錄區(qū)域R1的槽深dl和第二記錄區(qū)域R2的槽深d2相同的情況下，槽形狀變遷區(qū)間Sg的槽深不變化，dl和d2相同，僅槽寬從wl向w2逐漸變化。此外，這些軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg至少共有一部分的區(qū)域SL。此處，關(guān)于記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx和軌道間距變遷區(qū)間Stp、槽形狀變遷區(qū)間Sg的關(guān)系，例如可以考慮以下(1)(3)的形式。(1)在軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg完全一致，并彼此共有全部區(qū)域SL的情況下，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx也與兩者一致。(2)在軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg共有一部分區(qū)域SL，且具有分別單獨存在的區(qū)域的情況下，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx是指所述共有區(qū)域SL及各自的單獨區(qū)域合起來的區(qū)域。(3)在軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg中的任意一方的(較寬一方)記錄區(qū)域完全包含另一方(較窄一方)的記錄區(qū)域的情況下，作為較窄一方的全部記錄區(qū)域的SL被共有，另一方面，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx與兩個區(qū)域中的較寬一方的區(qū)域一致。此處，重要的一點是軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg至少共有一部分區(qū)域SL。即，兩個區(qū)域完全分離的方式不包括在本發(fā)明的對象中。此外，在圖2中，為了明確化，作為記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx的槽截面形狀，示出了軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg所共有的區(qū)域SL的槽截面形狀。即，示意性示出了軌道間距在tpl和tp2之間，槽寬在wl和w2之間，槽深在dl和d2之間的情況。如上所述，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx的槽截面形狀不限于此。此處，所謂槽形狀是指槽寬和槽形狀所代表的與記錄介質(zhì)垂直的截面上的各個槽的幾何學(xué)形狀，而不是根據(jù)擺動調(diào)制方法變化的向槽自身的半徑方向的蛇行。由此，所謂槽形狀的變遷不是向槽自身的半徑方向的蛇行量的變遷，兩者可以獨立控制。但是，不禁止槽形狀變遷區(qū)間Sg內(nèi)的擺動調(diào)制方法的變化和向槽自身的半徑方向的蛇行量的變化。如果介質(zhì)的特性上沒有問題，則即使例如在槽形狀變遷區(qū)間Sg內(nèi)擺動調(diào)制方法變化也不會造成障礙。此外，為了抑制槽形狀的急劇的變化，沿槽形狀變遷區(qū)間Sg軌道的長度Lg優(yōu)選在圓盤狀的信息記錄介質(zhì)的軌道一周長以上。此外，在抑制標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的急劇變動方面，優(yōu)選軌道間距變遷區(qū)間Stp中的軌道間距的變化的狀態(tài)沿軌道單調(diào)增加或單調(diào)減少。此外，在軌道間距變遷區(qū)間Stp中，優(yōu)選軌道間距連續(xù)變化。但是，如果標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變動被抑制到實用上不造成障礙的程度，則軌道間距變化也可以不連續(xù)。此外，在抑制標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的急劇變動方面，優(yōu)選槽形狀變遷區(qū)間Sg中的槽形狀的變化的狀態(tài)是槽寬和/或槽深沿軌道單調(diào)增加或單調(diào)減少。此外，在槽形狀變遷區(qū)間Sg中，優(yōu)選槽形狀連續(xù)變化。但是，如果標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變動被抑制到實用上不造成障礙的程度，則槽形狀變化也可以不連續(xù)。艮口，如上所述，沿著軌道使槽形狀的變化單調(diào)增加或單調(diào)減少，由此，在將記錄區(qū)域R1和記錄區(qū)域R2中的未記錄狀態(tài)下的槽部反射率的最大值設(shè)為RgVn^，最小值設(shè)為Rgv^的情況下，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的全部區(qū)域內(nèi)的未記錄狀態(tài)下的槽部反射率Rgv滿足下式的可能性增大。RgVmin蕓RgV^RgVmax(7)如果記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的全部區(qū)域中的未記錄狀態(tài)下的槽部反射率Rgv滿足上式，則能夠更可靠地抑制標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變動。此外，優(yōu)選設(shè)定沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度Ltp和沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg的值，以使兩者的比值Lg/Ltp滿足通常在0.2以上，也可以在0.4以上，更優(yōu)選在0.6以上且通常在2.5以下的關(guān)系。此外，在將沿軌道間距變遷區(qū)間Stp及槽形狀變遷區(qū)間Sg所共有的區(qū)域SL的軌道的長度設(shè)為LL時，優(yōu)選設(shè)定LL及Ltp的值，以使LL和Ltp的比值丄L/Ltp滿足通常在0.1以上，也可以在0.2以上，且通常在1.0以下的關(guān)系。通過將Lg、Ltp、LL的值設(shè)定在上述范圍內(nèi)，能夠抑制急劇的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變化。并且，在存在于記錄區(qū)域R1、R2之間的記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx的全部區(qū)域中，能夠?qū)?biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅收斂于規(guī)定的范圍內(nèi)，能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)。此處，規(guī)定的范圍是指根據(jù)需要僅對聚焦伺服電路和循軌伺服電路加以微調(diào)，就能夠?qū)崿F(xiàn)充分良好的聚焦伺服特性和循軌伺服特性的范圍。艮P，通過將Lg、Ltp、LL的值設(shè)定在上述范圍內(nèi)，在將記錄區(qū)域R1和記錄區(qū)域R2中的未記錄狀態(tài)下的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的最大值設(shè)為NPP皿，標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的最小值設(shè)為NPP^的情況下，在記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的全部區(qū)域中，標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP始終滿足下式(6)的可能性增大。NPPmi,證^NPP腿(6)艮口，能夠?qū)⒂涗泤^(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅始終收斂于記錄區(qū)域R1和記錄區(qū)域R2中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的范圍內(nèi)。由此，不用特別調(diào)節(jié)聚焦伺服電路和循軌伺服電路，就能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)，非常適宜。本發(fā)明人如下這樣推斷根據(jù)本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)，能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)的理由。即，通過在軌道間距不同的兩個記錄區(qū)域R1和記錄區(qū)域R2的邊界部，使軌道間距逐漸變化，即，通過設(shè)置軌道間距變遷區(qū)間Stp，能夠抑制由于軌道間距的不同而引起的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的急劇變化。此外，通過適當(dāng)變更軌道間距不同的兩個記錄區(qū)域Rl和記錄區(qū)域R2中的槽形狀，能夠減小兩個記錄區(qū)域R1和記錄區(qū)域R2中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的差，從而能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)。但是，在槽形狀不同的兩個記錄區(qū)域R1和記錄區(qū)域R2的邊界部，槽形狀急劇變化時，標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅也急劇變化，給聚焦伺服和循軌伺服帶來不良影響。因此，在本發(fā)明中，通過設(shè)置成槽形狀變遷區(qū)間Sg至少與軌道間距變遷區(qū)間Stp共有一部分區(qū)域，能夠抑制伴隨上述槽形狀的變化而來的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的急劇變化。本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)至少具有一組上述的第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間SX的組合即可，但是也可以有兩組以上。這樣，在存在兩組以上第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx的組合的情況下，一個組合中的第一記錄區(qū)域Rl與其他的組合中的第二記錄區(qū)域R2也可以是相同的區(qū)域。此外，在本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)中，優(yōu)選第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx全部都通過物理上連續(xù)的槽形成。物理上連續(xù)的槽是指在從內(nèi)周到外周沿軌道觀察槽的情況下，任意一處都沒有槽斷裂的情況。但是，只要是不會給標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅和記錄再現(xiàn)特性帶來影響的程度，則不排除槽斷續(xù)的情況，可以任意選擇其結(jié)構(gòu)。此外，在本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)是盤狀的情況下，第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2可以任意一個存在于盤的內(nèi)周側(cè)，任意一個存在于盤的外周側(cè)。通常，在滿足上述的第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2的關(guān)系的兩個記錄區(qū)域中，將存在于盤的內(nèi)周側(cè)的記錄區(qū)域設(shè)為第一記錄區(qū)域R1、將存在于盤的外周側(cè)的記錄區(qū)域設(shè)為第二記錄區(qū)域R2。此處，也可以是在第一記錄區(qū)域的內(nèi)周側(cè)配置有第三記錄區(qū)域R3的方式，該第三記錄區(qū)域R3具有比第一記錄區(qū)域Rl中的軌道間距tpl及第二記錄區(qū)域R2中的軌道間距tp2的任意一個都寬的軌道間距tp3。在第三記錄區(qū)域R3中可以不通過槽的蛇行進(jìn)行信息的記錄。此外，也可以在第三記錄區(qū)域R3和第一記錄區(qū)域R1之間，配置軌道間距從tp3向tpl變遷的軌道間距變遷區(qū)間Stp'。在以下詳細(xì)描述將這些方式應(yīng)用于記錄型藍(lán)光光盤的情況的例子。接下來，使用圖3對將本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)應(yīng)用于記錄型藍(lán)光光盤的情況的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。圖3是示意性示出本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的一例的記錄型藍(lán)光光盤中的記錄區(qū)域的配置的俯視圖。圖3中示出的記錄型藍(lán)光光盤300具有軌道間距不同的三個記錄區(qū)域。首先，在光盤的最內(nèi)周，形成了BCA(BurstCuttingArea:燒錄區(qū))區(qū)域301。BCA區(qū)域301的軌道間距為大致2.0um，形成在距離光盤中心的半徑值從大約21mm到大約22.2mm的區(qū)間內(nèi)。在BCA區(qū)域301中進(jìn)行條形碼狀的低密度的記錄，存儲信息記錄介質(zhì)的各種屬性信息。在BCA區(qū)域中，通常不通過槽的蛇行進(jìn)行信息的記錄。在BCA區(qū)域301的外側(cè)，形成PIC(PermanentInformationandControldata:持久信息和控制數(shù)據(jù))區(qū)域(有時將其稱作"控制數(shù)據(jù)區(qū)域")302。PIC區(qū)域302的軌道間距為大致0.35um，形成在距離光盤中心的半徑值從大約22.2mm到大約23.2mm的區(qū)間范圍內(nèi)。在PIC區(qū)域302中，存儲例如最佳記錄功率和介質(zhì)制造商信息等，設(shè)為讀取專用。在PIC區(qū)域302的外側(cè)，形成用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303。用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303的軌道間距為大致m，形成在距離盤中心的半徑值從大約23.2mm到大約58.5mm的區(qū)間范圍內(nèi)。在用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303中，能夠進(jìn)行數(shù)據(jù)的寫入，能夠讀取所寫入的數(shù)據(jù)。此外，調(diào)節(jié)PIC區(qū)域302和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303的槽形狀以使其分別得到規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅。PIC區(qū)域302中的槽寬優(yōu)選在0.01um以上，更優(yōu)選在0.07iim以上，優(yōu)選在0.25iim以下，更優(yōu)選在0.13um以下。PIC區(qū)域302中的槽深優(yōu)選在10nm以上，更優(yōu)選在20nm以上，優(yōu)選在50nm以下，更優(yōu)選在40nm以下。用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303中的槽寬優(yōu)選在0.10iim以上，更優(yōu)選在0.17iim以上，優(yōu)選在0.28um以下，更優(yōu)選在0.21ym以下。用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303中的槽深優(yōu)選在20nm以上，更優(yōu)選在30nm以上，優(yōu)選在70nm以下，更優(yōu)選在60nm以下。此外，為了連接PIC區(qū)域302和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303，優(yōu)選在兩個區(qū)域302、303之間設(shè)置保護(hù)區(qū)域(未圖示)。此處，優(yōu)選為第一記錄區(qū)域R1包括存儲了規(guī)定的信息的讀取專用區(qū)域即PIC區(qū)域，第二記錄區(qū)域R2包括可寫入用戶數(shù)據(jù)的可讀寫區(qū)域即用戶數(shù)據(jù)區(qū)域。在該方式中，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx完全包含在保護(hù)區(qū)域中。即，PIC區(qū)域的軌道間距和槽形狀是指，在保護(hù)區(qū)域內(nèi)，向用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距和槽形狀變遷。第一記錄區(qū)域Rl和第二記錄區(qū)域R2的槽形狀，即槽寬wl和w2、槽深dl和d2通過信息記錄介質(zhì)所要求的記錄再現(xiàn)特性和信息記錄介質(zhì)的制造工序等，如上所述分別選擇適當(dāng)?shù)闹?。此處，例如在藍(lán)光光盤中，在PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的軌道間距被設(shè)為不同的值，在兩個區(qū)域間減小由于兩個區(qū)域的軌道間距的差引起的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的差的情況下，在制造工序上優(yōu)選，不僅槽寬設(shè)為不同的值，而且槽深也設(shè)為不同的值。之所以會這樣，是因為為了例如將PIC區(qū)域中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為相同程度，PIC區(qū)域的槽寬必須比用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的槽寬設(shè)定得窄。但是，在想僅將PIC區(qū)域的槽寬變窄來進(jìn)行應(yīng)對時，根據(jù)情況不同PIC區(qū)域的槽寬變得過窄從而超過母盤曝光裝置的分辨率時，有可能發(fā)生槽無法正確形成的情況。在該情況下，與槽寬的變更同時，將PIC區(qū)域的槽深設(shè)定得比用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的槽深淺的對策是有效的。由此，比起僅將第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2的槽寬設(shè)為不同的值來制造介質(zhì)，與槽寬同時將槽深也設(shè)為不同的值的工序，在信息記錄介質(zhì)的制造上更適合。此外，優(yōu)選第三記錄區(qū)域R3是包括BCA區(qū)域的區(qū)域。優(yōu)選為在將PIC區(qū)域中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為NPP1，將用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的未記錄狀態(tài)下的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為NPP2，將用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的記錄后的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為NPP2a，并將各個最大值中的最大值設(shè)為NPPALmax，將各個最小值中的最小值設(shè)為NPPAL^時，調(diào)節(jié)槽形狀和記錄層等的組成和膜厚，以滿足NPPALmax/NPPALmin^3。即，無論在記錄前后，都可以將PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域這兩個區(qū)域中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的值收斂在恒定范圍內(nèi)，所以能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)。其中，更優(yōu)選調(diào)節(jié)槽形狀和記錄層等的組成和膜厚，以滿足NPPALmax/NPPALmin^2。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)更穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)。此外，在記錄性藍(lán)光光盤300中，形成為BCA區(qū)域30、PIC區(qū)域302、用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303全部的軌道連續(xù)的軌道，同時在BCA區(qū)域301和PIC區(qū)域302的邊界部以及PIC區(qū)域302和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303的邊界部，分別設(shè)置了軌道間距變遷區(qū)間Stp(在圖3中省略了圖示。)。在這些軌道間距變遷區(qū)間Stp中，如上所述，軌道間距連續(xù)地變化。在將上述的記錄性藍(lán)光光盤300構(gòu)成作為本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的情況下，在BCA區(qū)域301和PIC區(qū)域302的邊界部，及/或PIC區(qū)域302和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303的邊界部，形成為使上述的槽形狀變遷區(qū)間Sg和上述的軌道間距變遷區(qū)間Stp至少共有一部分的區(qū)域(g卩，設(shè)置上述記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx)。由此，能夠抑制急劇的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變化，能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)。此外，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx和槽形狀變遷區(qū)間Sg可以僅設(shè)置在BCA區(qū)域301和PIC區(qū)域302的邊界部及PIC區(qū)域302和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303的邊界部中的任意一處，也可以設(shè)置在兩處。但是，通過至少在PIC區(qū)域302和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域303的邊界部設(shè)置記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx和槽形狀變遷區(qū)間Sg，可以顯著地得到上述效果，因此是優(yōu)選的。此外，.擺動調(diào)制方法是在控制數(shù)據(jù)區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中與通常不同的方法。此處，優(yōu)選在保護(hù)區(qū)域內(nèi)部，擺動調(diào)制方法相同，并且應(yīng)用與用戶數(shù)據(jù)區(qū)域相同的擺動調(diào)制方式。另一方面，如上所述，在本發(fā)明的記錄型藍(lán)光光盤中，優(yōu)選記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx完全包含在保護(hù)區(qū)域中。艮口，優(yōu)選在記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的全部區(qū)域中，擺動調(diào)制方法相同。信息記錄介質(zhì)具有的槽形狀(槽寬和槽深)可以通過以下的步驟來測定。例如，在記錄型藍(lán)光光盤等的形成有相當(dāng)于凹槽軌道的凹凸圖案的基板上層疊記錄層，并在其上形成有由紫外線固化樹脂等構(gòu)成的覆蓋層的信息記錄介質(zhì)的情況下，利用AFM(AtomicForceMicroscope:原子力顯微鏡)測定層疊記錄層之前的基板，由此能夠直接測定槽深和槽寬。此外，在記錄層上形成有覆蓋層的信息記錄介質(zhì)的情況下，例如，用割刀等剝離覆蓋層，使相當(dāng)于凹槽軌道的基板上的凹凸圖案從表面露出，由此能夠使用AFM測定槽形狀。此外，沿信息記錄介質(zhì)所具有的槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg也可以使用AFM通過以下的步驟來求出。具體地說，首先，測定槽形狀變遷區(qū)間Sg內(nèi)及其附近的多處槽形狀，并且，測定該測定處的信息記錄介質(zhì)上的半徑值，由此求解槽形狀變遷區(qū)間Sg的內(nèi)周端半徑值和外周端半徑值。接著，對存在于槽形狀變遷區(qū)間Sg內(nèi)的軌道的個數(shù)迸行計數(shù)，取其和槽形狀變遷區(qū)間Sg所存在的半徑值的圓周長的乘積，由此能夠求出沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg。但是，為了用上述方法求出沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg，要求對多處的槽形狀進(jìn)行精度良好的測定，并且要求該測定處的半徑值的測定等，有時比較繁雜。在該情況下，也可以通過用適當(dāng)?shù)脑佻F(xiàn)裝置對信息記錄介質(zhì)進(jìn)行再現(xiàn)，并調(diào)查槽形狀變遷區(qū)間Sg中的反射光的光量變化的情況，來求出沿槽形狀變遷區(qū)間Sg信息的軌道的長度Lg。艮P，通過在主軸電動機(jī)上載置該信息記錄介質(zhì)并使其旋轉(zhuǎn)，同時用物鏡使激光會聚到軌道上，則可以得到與槽形狀相對應(yīng)的光量的反射光。在槽形狀變遷區(qū)間Sg中槽形狀變化，因此通過調(diào)査激光會聚處的信息記錄介質(zhì)上的半徑值和與反射光的光量變化對應(yīng)的情況，能夠獲知沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg。此外，關(guān)于信息記錄介質(zhì)所具有的軌道間距和軌道間距變遷區(qū)間Stp的長度Ltp，可以通過以下的步驟來測定?；蛘撸材軌蛞怨鈱W(xué)方式測定第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2的軌道間距。在本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)所具有的第一記錄區(qū)域Rl和第二記錄區(qū)域R2中，等間隔地排列有多個凹槽軌道。在該情況下，一般公知通過向這些記錄區(qū)域Rl和記錄區(qū)域R2照射激光燈等相干光，多個排列的凹槽軌道發(fā)揮衍射光柵的作用，在與軌道間距相對應(yīng)的角度上出現(xiàn)衍射光。此外，也設(shè)計有應(yīng)用該原理的形狀測定裝置(參照日本特開昭57-187604公報等)。利用該原理，通過測定衍射光的出現(xiàn)角度，即能夠獲知軌道間距。此外，利用該原理，也可以求出沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度。例如，在信息記錄介質(zhì)的半徑方向掃描激光，與照射激光的半徑值一起預(yù)先記錄衍射光的出現(xiàn)位置，由此能夠獲知軌道間距變遷區(qū)間Stp的半徑方向上的大小。此外，根據(jù)基于軌道間距變遷區(qū)間Stp的半徑方向的大小和軌道間距變遷區(qū)間Stp的前后的軌道間距而求出的平均軌道間距，能夠估計沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度。此外，一般還公知有上述衍射光的強度根據(jù)槽形狀而變化的情況。此外，在信息記錄介質(zhì)的半徑方向上掃描激光，同時測定衍射光的出現(xiàn)位置和強度，由此還能夠同時測定槽形狀變遷區(qū)間Sg和軌道間距變遷區(qū)間Stp的存在情況。此外，除了AFM以外，還能夠用例如SEM(ScanningElectronMicroscope:掃描型電子顯微鏡)等進(jìn)行上述各測定。本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)沒有特別限制，但是可以通過例如以下說明的方法來制造。在信息記錄介質(zhì)的一般的制造步驟中，準(zhǔn)備具有凹凸圖案的壓模，其中，該凹凸圖案的形狀與形成在基板和中間層上的軌道的凹凸圖案的形狀互補，使用該壓模在基板和中間層上形成凹凸圖案的軌道。由此，為了制造上述具有槽形狀變遷區(qū)間Sg的本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)，將該壓模所具有的凹凸圖案的形狀形成為所期望的形狀即可。壓模所具有的凹凸圖案的形狀通常在壓模的制造步驟中的母盤曝光時確定。為了形成本發(fā)明規(guī)定的特定形狀的凹凸圖案，使用特定的母盤曝光裝置是有效的。在以下的記載中，首先對壓模的制造步驟進(jìn)行說明，接著對使用該壓模的信息記錄介質(zhì)的制造步驟進(jìn)行說明。然后，對用于獲得具有所期望形狀的凹凸圖案的壓模的母盤曝光裝置(本發(fā)明的母盤曝光裝置)進(jìn)行說明。使用圖4對用于制造本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的壓模的制造步驟的一例進(jìn)行詳細(xì)說明。此外，圖4(a)圖4(i)是示出用于制造本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的壓模的制造步驟的一例的圖。但是，以下的制造步驟只不過是一個例子，用于制造本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)的壓模的制造步驟并不限于以下的例子。首先，準(zhǔn)備在母盤用基板501上涂布光致抗蝕劑502而構(gòu)成的母盤503(參照圖4(a))。母盤用基板501的材質(zhì)沒有限制，通常使用玻璃板。作為光致抗蝕劑502，可以使用所謂的酚醛清漆'重氮萘醌類抗蝕劑和化學(xué)增幅型抗蝕劑等一般的光致抗蝕劑。此外，既可以使用正型抗蝕劑，也可以使用負(fù)型抗蝕劑。此外，可以使用這些材料中的任意一種，也可以以任意組合和比例并用兩種以上。此外，關(guān)于正型抗蝕劑和負(fù)型抗蝕劑的定義將在后面敘述。光致抗蝕劑502通常利用旋涂法涂布在母盤用基板501上，其膜厚在母盤用基板501的面內(nèi)大致均勻。具體的光致抗蝕劑502的膜厚根據(jù)作為目的的壓模的凹凸圖案的形狀來進(jìn)行設(shè)定即可，但是通常在10nm以上且100nm以下的范圍。接下來，使用母盤曝光裝置對母盤503進(jìn)行曝光處理，在母盤用基板501上的光致抗蝕劑502上，把目的在于形成與相當(dāng)于軌道的凹凸圖案對應(yīng)的規(guī)定的圖案504作為潛像形成(參照圖4(b))。在[III.母盤曝光裝置]中對本工序中使用的母盤曝光裝置的結(jié)構(gòu)和動作進(jìn)行詳細(xì)說明。然后，對母盤503實施顯像處理，使作為潛像而形成的圖案504作為物理的凹凸圖案明顯出現(xiàn)(參照圖4(c))。一般來說，采取在顯像機(jī)的轉(zhuǎn)臺上載置母盤503，在旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)臺的同時滴下顯像液的方法，但是例如也可以使用在使玻璃板靜止的狀態(tài)下盛放顯像液的方法(所謂的水坑(puddle)顯像法)等。此時，通過選擇光致抗蝕劑502的種類，可以使作為潛像而形成的圖案504側(cè)凹陷，反過來也可以使作為潛像而形成的圖案504側(cè)凸出。一般地多使用使圖案504側(cè)凹陷的光致抗蝕齊[J(將其稱作"正型抗蝕劑")。在本發(fā)明書中，包括圖4，主要對使用了正型抗蝕劑的情況進(jìn)行說明，但是也可以使用使圖案504側(cè)凸出的光致抗蝕劑(將其稱作"負(fù)型抗蝕劑")，這種選擇是任意的。根據(jù)上述步驟，可以獲得具有物理的凹凸圖案的母盤(將其稱作"凹凸母盤")503'。使用該凹凸母盤503'，通過以下的步驟制作壓模。首先，在上述的凹凸母盤503，上，使用濺射法或無電解電鍍法等，成膜壓模的材料，形成導(dǎo)電層505(參照圖4(d))。作為壓模的材料，通常使用金屬材料。作為金屬材料，例如列舉鎳。壓模的材料可以單獨使用任意一種，也可以以任意組合和比例并用兩種以上。導(dǎo)電層505的厚度沒有特別限制，只要是在后述的電鍍中不造成障礙的厚度，則可以任意選擇。接下來，在電鑄裝置上安裝形成有導(dǎo)電層505的凹凸母盤503'，通過電鍍法等，在導(dǎo)電層505上進(jìn)一步層疊壓模的材料，由此形成父版層506(參照圖4(e))。父版層506與導(dǎo)電層505—體地形成，其厚度沒有特別限制，但是通常在100"m以上且500um以下。接下來，從凹凸母盤503'剝離父版層506，根據(jù)需要，使用光致抗蝕劑去除液等去除附著在父版層506上的光致抗蝕劑(參照圖4(f))。光致抗蝕劑去除液根據(jù)光致抗蝕劑502的種類適當(dāng)選擇即可。例如，可以使用丙酮和NagaseChemtex(于力'七少厶f'少夕^)公司生產(chǎn)的N_303C?？梢詥为毷褂眠@些材料中的任意一種，也可以以任意組合和比例并用兩種以上。將獲得的父版層506稱作父版壓模(以下稱作"父版506")。在父版506上仿形凹凸圖案，該凹凸圖案成為凹凸母盤503，上的凹凸圖案倒轉(zhuǎn)后的圖案。接下來，通過氧化處理等手法對該父版層506的凹凸圖案表面進(jìn)行處理，由此形成剝離層507(參照圖4(g))。剝離層507的厚度沒有特別限制，但是通常在O,lnm以上100nm以下。此外，在該剝離層507上，通過電鍍法等層疊壓模的材料，形成母版層508(參照圖4(h))。母版層508的厚度沒有特別限制，但是通常在100um以上500ym以下。接下來，剝離該母版層508(參照圖4(i))。將獲得的母版層508稱作母版壓模(以下稱作"母版508")。在母版508上也仿形凹凸圖案，該凹凸圖案成為與凹凸母盤503，上的凹凸圖案相同的圖案。通過上述的步驟獲得的父版506或母版508的任意一個都可以作為壓模使用。此外，將這些父版壓模506和母版壓模508作為模子，在其他材料上仿形凹凸圖案，由此可以制作新的壓模。例如，可以從父版壓模506仿形多個母版壓模508，并且也可以從母版壓模508再進(jìn)一步仿形子版壓模(未圖示)。這樣獲得的子版壓模上的凹凸圖案成為與父版壓模506上的凹凸圖案相同的圖案(以下，有時將子版壓模簡稱為"子版")。此外，在制造由樹脂材料形成的壓模(樹脂制壓模)的情況下，以下的手法是有效的通過上述步驟制作由金屬材料形成的壓模(金屬制壓模)，把該金屬制壓模作為模子將樹脂材料注射模塑成形，由此獲得仿形了金屬制壓模的凹凸圖案的樹脂制壓模。將通過上述步驟制作的壓模作為模子，在基板和中間層等上形成凹凸圖案，來制造本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)。在制造圖l(a)中示出的單層型的信息記錄介質(zhì)100的情況下，首先，使用上述的壓模，制作形成有相當(dāng)于軌道的凹凸圖案的基板IOI。具體而言，例如，將上述的壓模作為模子，將基板101的材料注射模塑成形，由此形成仿形了壓模的凹凸圖案的基板101，從壓模剝離所獲得的基板101進(jìn)行使用即可?；?01的材料和厚度等如上所述。此外，作為壓模，通常使用由金屬材料形成的壓模(金屬壓模)。此外，從壓模仿形到基板101上的凹凸圖案成為壓模的凹凸圖案倒轉(zhuǎn)后的圖案。例如，在制造In-Groove型的記錄型藍(lán)光光盤時，從激光入射側(cè)觀察記錄軌道為凹側(cè)，因此將父版壓?；蜃影鎵耗Ｗ鳛槟Ｗ邮褂眉纯?。另一方面，在制造將從激光入射側(cè)觀察到的凸側(cè)作為記錄軌道使用的On-Groove型的記錄型藍(lán)光光盤時，從激光入射側(cè)觀察記錄軌道為凸側(cè)，因此將母版壓模作為模子使用即可。此外，在記錄層中使用有機(jī)色素的信息記錄介質(zhì)中，從制造方法和記錄特性方面優(yōu)選采用In-Groove型。接下來，在基板101的凹凸圖案上，形成反射層102。反射層102的材料和厚度等如上所述。作為反射層102的形成方法，可以列舉例如濺射法等。此后，在反射層102上，形成記錄層103。記錄層103的材料和厚度等如上所述。作為記錄層103的形成方法，例如在記錄層103是有機(jī)色素材料的情況下可以列舉旋涂等涂布法等，在記錄層103是無機(jī)材料的情況下可以列舉濺射法等。此后，在記錄層103上，形成覆蓋層104。覆蓋層104的材料和厚度等如上所述。作為覆蓋層104的形成方法，可以列舉例如旋涂法等。此外，也可以通過粘接層等將另外準(zhǔn)備的覆蓋層104粘接到記錄層103上。此外，在制造圖l(b)中示出的雙層型的信息記錄介質(zhì)200的情況下，首先，使用壓模制作形成有軌道的凹凸圖案的基板201。其形成步驟與圖1(a)的基板101的情況相同。接下來，在基板201的凹凸圖案上依次層疊形成第一反射層202和第一記錄層203。這些層的材料和厚度、形成步驟等與圖1(a)的反射層102及記錄層103的情況相同。接下來，在第一記錄層203上，形成中間層204。中間層204的材料和厚度等如上所述。作為中間層204的形成方法，可以列舉例如涂布法等。在該中間層204的形成時，使用壓模形成凹凸圖案。凹凸圖案的形成步驟沒有特別限制，通過將壓模的凹凸圖案抵接在中間層204上，從而在中間層204上仿形壓模的凹凸圖案即可。作為其中的優(yōu)選手法，使用紫外線固化性樹脂和可見光固化性樹脂等光固化性樹脂作為中間層204的材料，在第一記錄層203上將該光固化性樹脂成膜規(guī)定厚度。其后，在其上迸一步載置了壓模的狀態(tài)下，將可以使光固化性樹脂固化的紫外線和可見光等光通過壓模照射向光固化性樹脂，使光固化性樹脂固化。由此，可以形成仿形了壓模的凹凸圖案的中間層204。此外，作為壓模，使用可以使光固化性樹脂固化的紫外線和可見光等能夠使光透過的材料形成的壓模(通常是樹脂制壓模)。此外，從壓模仿形到中間層204上的凹凸圖案成為與壓模的凹凸圖案顛倒的圖案，因此如上所述，根據(jù)所期望的信息記錄介質(zhì)的形式選擇母版壓模、父版壓?；蜃影鎵耗＜纯?。接下來，在中間層204的凹凸圖案上，依次層疊形成第二反射層205和第二記錄層206。這些層的材料和厚度、形成步驟等與圖1(a)的反射層102及記錄層103的情況相同。此后，在第二記錄層206上，形成覆蓋層207。覆蓋層207的材料和厚度、形成步驟等與圖l(a)的覆蓋層104的情況相同。在圖1(b)中示出的雙層型的信息記錄介質(zhì)200的情況下，基板201所具有的軌道的凹凸圖案的形狀和中間層204所具有的軌道的凹凸圖案的形狀可以相同，也可以互不相同。在基板201和中間層204的凹凸圖案的形狀互不相同的情況下，基板201和中間層204中的至少一方滿足本發(fā)明的規(guī)定即可。即，具有本發(fā)明所規(guī)定的第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx即可。此外，也可以是基板201和中間層204的雙方滿足本發(fā)明的規(guī)定。此外，在存在三層以上軌道的信息記錄介質(zhì)(即，具有三層以上的記錄層的信息記錄介質(zhì))的情況下，這些層的至少任意一層滿足本發(fā)明的規(guī)定即可，但是也可以是這些層全部滿足本發(fā)明的規(guī)定。根據(jù)以上的步驟，制造本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)。此外，上述的說明以記錄型藍(lán)光光盤為例，但是關(guān)于其他的信息記錄介質(zhì)，也能夠通過對上述步驟上加以適當(dāng)變更來制造。例如，在制造DVD(DigitalVersatileDisc:數(shù)字化通用光盤)的情況下，構(gòu)成為貼合厚度為0.6mm的基板即可。本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)，如上所述，是在軌道間距及槽形狀不同的兩個記錄區(qū)域間，除了軌道間距變遷區(qū)間Stp之外，還具有槽形狀變遷區(qū)間Sg的信息記錄介質(zhì)。該槽形狀變遷區(qū)間Sg根據(jù)在信息記錄介質(zhì)的制造時所使用的壓模的凹凸圖案形狀而形成。壓模的凹凸圖案形狀在壓模的制造步驟中的母盤的曝光工序(參照上述的圖4(b))中，通過母盤曝光裝置來實現(xiàn)。以下，關(guān)于用于制造本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)所使用的母盤曝光裝置(本發(fā)明的母盤曝光裝置)，列舉實施方式進(jìn)行說明。參照圖5對本發(fā)明的一個實施方式所涉及的母盤曝光裝置的基本結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。此外，圖5是示意性示出本發(fā)明的一個實施方式的母盤曝光裝置的基本結(jié)構(gòu)例的功能框圖。圖5中示出的母盤曝光裝置600具有產(chǎn)生規(guī)定的偏轉(zhuǎn)信號的格式器(formatter)(偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu))601;用于產(chǎn)生記錄光的激光光源(記錄光源)602;將記錄光設(shè)定為規(guī)定的輸出的功率調(diào)節(jié)元件(記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu))603;用于根據(jù)格式器601的輸出信號使激光偏轉(zhuǎn)的EOD(ElectroOpticalDeflector:電光偏轉(zhuǎn)器)元件(記錄光偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))604;用于使激光會聚到母盤503上的物鏡(聚光機(jī)構(gòu))605;用于載置母盤503并使其旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)臺(旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))606;用于使物鏡605在母盤503的半徑方向上相對移動的滑塊(半徑移動機(jī)構(gòu))607;以及用于控制激光的方向的一個或多個反射鏡608。此外，母盤曝光裝置600具有用于協(xié)調(diào)控制這些結(jié)構(gòu)要素601608中的一部分或全部的控制器(控制機(jī)構(gòu))609。特別地，控制器609具有根據(jù)預(yù)先設(shè)定的值控制轉(zhuǎn)臺606的旋轉(zhuǎn)速度、滑塊607的移動速度及物鏡605的位置的功能。從激光光源602出射的記錄光首先通過功率調(diào)節(jié)元件603。功率調(diào)節(jié)元件603能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)定的值使記錄光強度改變。經(jīng)功率調(diào)節(jié)元件603調(diào)節(jié)強度后的記錄光接下來為了使記錄光偏轉(zhuǎn)而被導(dǎo)向EOD元件604。在本實施方式中，使用EOD元件604，但是只要是具有使記錄光偏轉(zhuǎn)的功能的元件，則EOD元件604沒有特別限定，例如也可以使用AOD(AcousticOpticalDeflector:聲光偏轉(zhuǎn)器)元件。在EOD元件604上連接有格式器601，能夠根據(jù)格式器601產(chǎn)生的信號使記錄光在角度方向上偏轉(zhuǎn)。此外，也可以根據(jù)制造的信息記錄介質(zhì)的種類，設(shè)置用于調(diào)制記錄光的AOM(AcousticOpticalModulator:聲光調(diào)制器)元件或EOM(ElectroOpticalModulator:電光調(diào)制器)元件(在圖5中省略圖示)。此外，也可以使一個元件集中具有調(diào)制記錄光和偏轉(zhuǎn)記錄光的功能，該結(jié)構(gòu)可以根據(jù)所制造的信息記錄介質(zhì)的種類進(jìn)行任意變更。接下來，從EOD元件604出射的記錄光被導(dǎo)向用于使記錄光會聚到母盤503上的物鏡605。此外，也可以在使記錄光入射到物鏡605之前，通過用于對光束形狀進(jìn)行整形的光束擴(kuò)展器(在圖5中省略圖示)。此外，物鏡605安裝在聚焦致動器上(在圖5中省略圖示)，施加聚焦伺服以使母盤503面和物鏡605之間的距離始終保持恒定。通過施加聚焦伺服，能夠?qū)⒛副P503面和物鏡605之間的距離保持恒定，因此會聚到母盤503面上的記錄光的光斑大小始終相同，能夠曝光寬度均勻的圖案。此外，為了在母盤503上形成與螺旋狀的軌道相當(dāng)?shù)膱D案，使載置了母盤503的轉(zhuǎn)臺606以規(guī)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，同時以規(guī)定的進(jìn)給速度進(jìn)給滑塊607即可。接下來，對具有上述結(jié)構(gòu)的母盤曝光裝置600的動作進(jìn)行說明。根據(jù)預(yù)先設(shè)定的線速度和軌道間距，使轉(zhuǎn)臺606旋轉(zhuǎn)，并且使滑塊607以規(guī)定的速度移動。即，形成與具有第一軌道間距的第一記錄區(qū)域Rl的軌道相當(dāng)?shù)膱D案。此外，轉(zhuǎn)臺606的旋轉(zhuǎn)方向和轉(zhuǎn)速、滑塊607的移動速度和移動方向等條件，可以根據(jù)要制作的壓模和信息記錄介質(zhì)的格式任意地選擇，選擇適當(dāng)?shù)膭幼鳁l件即可。此外，記錄光的強度也可以通過各個制造程序和要形成的槽形狀，來任意地設(shè)定。在本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)是記錄型藍(lán)光光盤的情況下，形成為它的槽以規(guī)定的振幅在介質(zhì)的半徑方向上蛇行。采取了以下方法作為蛇行圖案預(yù)先規(guī)定了幾種種類，通過多個種類的蛇行圖案的組合，記錄地址信息和光盤制造商信息等信息?；谏咝袌D案的信息記錄是指通過變更蛇行的振幅和周期等、光盤面內(nèi)的槽的蛇行形狀自身來記錄信息，而不是變更槽深、槽寬、平均的軌道間距。在母盤曝光裝置600中，這種槽的蛇行可以通過在母盤503的半徑方向上每次以規(guī)定的分量使記錄光偏轉(zhuǎn)來形成。用于使記錄光偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)信號通過格式器601產(chǎn)生，記錄光的偏轉(zhuǎn)通過EOD元件604進(jìn)行。此外，通過變更格式器601的內(nèi)部結(jié)構(gòu)可以任意形成蛇行圖案。由此，在作為本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)制作記錄型藍(lán)光光盤以外的信息記錄介質(zhì)的情況下，變更格式器的內(nèi)部結(jié)構(gòu)以每次形成合適的蛇行圖案即可。在通過上述的步驟完成與第一記錄區(qū)域Rl的軌道相當(dāng)?shù)膱D案的形成時，接下來轉(zhuǎn)移到與具有第二軌道間距的第二記錄區(qū)域R2的軌道相當(dāng)?shù)膱D案的形成。在該階段，進(jìn)行軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg的形成，因此對軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg的形成方法進(jìn)行敘述。軌道間距變遷區(qū)間Stp可以通過改變滑塊607的移動速度而形成。例如，預(yù)先在母盤曝光裝置600內(nèi)部存儲要開始軌道間距變遷區(qū)間Stp的形成的半徑值等，檢測滑塊607通過了該半徑值的情況而改變滑塊607的移動速度即可。作為改變移動速度的方法，例如具有改變用于驅(qū)動滑塊607的脈沖列的頻率等。此時，例如通過改變用于驅(qū)動滑塊607的脈沖列的頻率的掃描(sweep)時間，可以設(shè)為任意長度的軌道間距變遷區(qū)間Stp。在想設(shè)為較長的軌道間距變遷區(qū)間Stp的情況下，增長頻率的掃描時間即可，在想設(shè)為較短的軌道間距變遷區(qū)間Stp的情況下，縮短頻率的掃描時間即可。也可以階段性地改變滑塊607的移動速度，但為了使軌道間距的變化的方式平滑，優(yōu)選連續(xù)地改變滑塊607的移動速度。另一方面，作為槽形狀變遷區(qū)間Sg的形成方法，可以考慮兩種方式，與之對應(yīng)，母盤曝光裝置600的結(jié)構(gòu)也不同。以下，對這兩種方式進(jìn)行說明。在第1方式中，在上述的母盤曝光裝置600中，根據(jù)預(yù)先設(shè)定的值，設(shè)置單調(diào)增加或單調(diào)減少地掃描記錄光的強度的機(jī)構(gòu)(記錄光強度掃描機(jī)構(gòu))。即，通過在與槽形狀變遷區(qū)間Sg相當(dāng)?shù)陌纪箞D案形成時，單調(diào)增加或單調(diào)減少地掃描記錄光的強度，能夠形成槽寬從wl向w2逐漸變化和/或槽深從dl向d2逐漸變化的圖案(即，與槽形狀變遷區(qū)間Sg相當(dāng)?shù)陌纪箞D案)。在第1方式中，能夠抑制急劇的記錄光強度的變化引起的急劇的槽形狀變化，因此能夠抑制最終獲得的信息記錄介質(zhì)中的急劇的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變化。即，通過第1方式，能夠獲得可以實現(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)的信息記錄介質(zhì)。優(yōu)選為記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)具有檢測聚光機(jī)構(gòu)到達(dá)了預(yù)先設(shè)定的特定的半徑位置的情況，從而開始和/或結(jié)束記錄光強度的掃描的功能。此外，優(yōu)選為記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)具有檢測上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)輸出了預(yù)先設(shè)定的特定的地址，從而開始和/或結(jié)束記錄光強度的掃描的功能。記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)通過具有上述的功能，能夠始終制作將記錄光強度的變化開始點保持在恒定值的母盤，因此能夠始終將最終獲得的信息記錄介質(zhì)中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變化方式維持恒定。即，能夠獲得可以實現(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)的信息記錄介質(zhì)。此外，還優(yōu)選為記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)具有檢測聚光機(jī)構(gòu)到達(dá)了預(yù)先設(shè)定的特定的半徑位置的情況從而開始記錄光強度的掃描，且在經(jīng)過預(yù)先設(shè)定的規(guī)定的時間后，結(jié)束上述掃描的功能。此外，還優(yōu)選為記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)具有檢測上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)輸出了預(yù)先設(shè)定的特定的地址的情況，從而開始記錄光強度的掃描，且在經(jīng)過預(yù)先設(shè)定的規(guī)定的時間后，結(jié)束上述掃描的功能。在記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)具有這些功能的情況下，記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)只進(jìn)行掃描開始觸發(fā)的監(jiān)視和掃描時間的管理即可，因此能夠使母盤曝光裝置的結(jié)構(gòu)簡單。此外，上述說明的記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)的各種功能，例如通過使用軟件等使控制器609進(jìn)行所期望的動作，由此可以實現(xiàn)作為控制器609的功能。在本發(fā)明中，意在抑制軌道間距不同的兩個記錄區(qū)域的邊界部處的急劇的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的變動。特別是只要標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅變動能夠被抑制到在實用上沒有問題的程度，則槽形狀沒有必要一定連續(xù)地變化，也可以是斷續(xù)的變化。立足于這種著眼點，還可以考慮比上述的第1方式結(jié)構(gòu)更簡單且保養(yǎng)容易的方式的母盤曝光裝置。在第2方式中，在上述母盤曝光裝置600中，設(shè)置根據(jù)物鏡(聚光機(jī)構(gòu))605的位置和預(yù)先設(shè)定的特定的半徑值處的記錄光強度的設(shè)定值，對記錄光強度進(jìn)行插值和調(diào)節(jié)的記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)和重復(fù)進(jìn)行上述記錄光強度調(diào)節(jié)動作的重復(fù)動作機(jī)構(gòu)，并且，在第2方式中，上述重復(fù)動作機(jī)抅的1個周期所需要的動作時間在100msec以下。以下參照圖6和圖7對本發(fā)明的母盤曝光裝置的基本動作進(jìn)行說明。圖6是表示在本方式的母盤曝光裝置中，通過連續(xù)的插值而獲得的理論上的曝光強度和聚光機(jī)構(gòu)的半徑值之間的關(guān)系的曲線圖。圖7是表示在本方式的母盤曝光裝置中，通過重復(fù)插值動作而獲得的實際的曝光強度和聚光機(jī)構(gòu)的半徑值之間的關(guān)系的曲線圖。此外，基于下述的條件進(jìn)行以下的記載。(1)在對與第一記錄區(qū)域R1存在于第二記錄區(qū)域R2的內(nèi)周側(cè)的信息記錄介質(zhì)的軌道相當(dāng)?shù)膱D案進(jìn)行曝光的情況下，(2)與第一記錄區(qū)域R1的軌道對應(yīng)的圖案以曝光強度P1進(jìn)行曝光，(3)與第二記錄區(qū)域R2的軌道對應(yīng)的圖案以曝光強度P2進(jìn)行曝光，(4)與槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道對應(yīng)的圖案貫穿半徑值Ri到Ro范圍而形成，(5)半徑值Ri處的曝光功率等于Pl，(6)半徑值Ro處的曝光功率等于P2，(7)從內(nèi)周向外周進(jìn)行曝光動作。但是，關(guān)于曝光功率和半徑值的設(shè)定等的詳細(xì)情況，可以考慮各種情形，因此并不限定在上述(1)(7)的條件下，而在其主旨的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變形而實施。此外，在本方式的母盤曝光裝置中，例如，預(yù)先在母盤曝光裝置內(nèi)部存儲形成與第一記錄區(qū)域Rl的軌道對應(yīng)的圖案時的曝光強度Pl、形成與第二記錄區(qū)域R2的軌道對應(yīng)的圖案時的曝光強度P2、槽形狀變遷區(qū)間Sg的內(nèi)側(cè)半徑值Ri和外側(cè)半徑值Ro等參數(shù)。根據(jù)本方式，根據(jù)預(yù)先設(shè)定的線速度和軌道間距，使轉(zhuǎn)臺606旋轉(zhuǎn)，并且使滑塊607以規(guī)定的速度移動，記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)讀取物鏡605在母盤上的半徑位置，首先判斷物鏡605使哪個區(qū)域處于曝光中。接下來，以該判斷結(jié)果為基準(zhǔn)，將曝光強度設(shè)定為適當(dāng)?shù)闹?。另一方面，滑塊607始終以規(guī)定的速度移動，因此在將曝光光強度設(shè)定為適當(dāng)?shù)闹档乃查g，物鏡605移動到與當(dāng)初讀取的半徑位置不同的半徑位置處。因此再次讀取物鏡605的半徑位置，再次判斷物鏡605使哪個區(qū)域處于曝光中，根據(jù)該判斷結(jié)果，使曝光強度向適當(dāng)?shù)闹底兓?。由此，把從讀取半徑位置到曝光強度設(shè)定設(shè)為1個周期，通過依次重復(fù)進(jìn)行該周期動作直到所期望的半徑位置，能夠在母盤整個面上進(jìn)行所期望的曝光強度的曝光。以下更具體地對該插值動作進(jìn)行說明。此外，為了簡便，將從讀取半徑位置到曝光強度設(shè)定的1個周期所需要的動作時間記為Tu。在此，TU是受母盤曝光裝置的性能影響的值。艮口，如果物鏡605使第一記錄區(qū)域R1處于曝光中，則記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)動作以將曝光強度設(shè)為Pl，.如果使第二記錄區(qū)域R2處于曝^r中，則記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)動作以將曝光強度設(shè)為P2。在判斷為物鏡605使槽形狀變遷區(qū)間Sg處于曝光中的情況下，例如如圖6所示，記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)動作以使曝光強度成為以適當(dāng)形式的函數(shù)對Ri和Ro之間進(jìn)行插值那樣的曝光強度。即，第一記錄區(qū)域Rl位于第二記錄區(qū)域R2的內(nèi)周側(cè)，在進(jìn)一步以一次函數(shù)對Ri和Ro之間進(jìn)行插值的情況下，物鏡605位于半徑位置Rc(此處，設(shè)為Ri蕓Rc^Ro)情況下的曝光功率Pc通過下式計算。Pc=(P2-P1)x(Rc-Ri)/(Ro-Ri)+P1此外，在上述說明中利用一次函數(shù)來插值曝光強度，但是函數(shù)的形式不限于一次函數(shù)，例如也可以使曝光強度以二次函數(shù)的形式來增減。即，通過計算進(jìn)行插值來設(shè)定曝光強度這一點是重要的。另--方面，如上所述，對母盤曝光裝置而言重復(fù)動作時間Tu是必要的，因此槽形狀變遷區(qū)間Sg內(nèi)的實際曝光強度不是如圖6所示那樣的平滑，而是如圖7所示的階梯狀。此處，與階梯的1個臺階相當(dāng)?shù)能壍篱L度Su相當(dāng)于曝光時的線速度LV乘以Tu所得的值，以下式表示。Su=LVxTu本方式的母盤曝光裝置的基本動作如上所述。郎，在完成了第一記錄區(qū)域Rl的形成后，在形成槽形狀變遷區(qū)間Sg時，依次讀入物鏡605的半徑位置使記錄光強度變?yōu)殡A梯狀、即臺階的形狀，因此能夠階段地改變槽形狀變遷區(qū)間Sg中的槽形狀。此外，優(yōu)選將標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅變動抑制到某種程度，因此希望將與階段性變化的槽形狀的1個臺階相當(dāng)?shù)能壍篱L度Su縮短到某種程度。為了縮短Su，Su是曝光時的線速度LV和Tu的乘積，因此為了減小Su，只要減小LV或Tu即可。但是，如果減小LV，則產(chǎn)生曝光所需要的時間變長的問題。如果曝光需要的時間變長，則生產(chǎn)量降低，不僅如此，還產(chǎn)生難以確保長時間的母盤曝光裝置的穩(wěn)定性的問題。為了減小Su，減小Tll的方法更適合，為了確?，F(xiàn)實的LV，期望將Tu至少設(shè)為100msec以下。在Tu過長的情況下，以5見實速度的曝光線速度進(jìn)行曝光時，槽形狀變遷區(qū)間Sg內(nèi)的槽形狀變化成為非常粗略的狀態(tài)，有時會不能徹底抑制標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的急劇變化。[實施例]以下，使用實施例更詳細(xì)地對本發(fā)明進(jìn)行說明，但是本發(fā)明在不超出其主旨的范圍內(nèi)不通過以下的實施例進(jìn)行限定和解釋。在以下的各實施例和各比較例中，作為信息記錄介質(zhì)，制作改變了槽形狀變遷區(qū)間Sg和軌道間距變遷區(qū)間Stp的形成條件的藍(lán)光光盤，通過由信息再現(xiàn)裝置對所獲得的信息記錄介質(zhì)進(jìn)行再現(xiàn)來進(jìn)行評價。[壓模的制造]為了制造具有所期望的槽形狀變遷區(qū)間Sg和軌道間距變遷區(qū)間Stp的、各實施例和各比較例的信息記錄介質(zhì)，首先制造具有凹凸圖案的壓模(父版)，其中，該凹凸圖案與作為目的的槽形狀變遷區(qū)間Sg和軌道間距變遷區(qū)間Stp相當(dāng)。壓模的制造通過上述的[II-1.壓模的制造]一欄所說明的方法進(jìn)行。具體來說，將厚度6mm的玻璃板作為母盤用基板501，在其上涂布光致抗蝕劑502使厚度成為60nm,使用以上這樣的母盤503，根據(jù)下述的條件進(jìn)行曝光后，進(jìn)行顯像，獲得凹凸母盤503'。在該凹凸母盤503，上，使用濺射法成膜為使鎳的厚度為20nm(導(dǎo)電層505)，進(jìn)一步通過電鍍法層疊鎳，由此形成了厚度為、90"m的父版層506。剝離該父版層506，成為父版壓模506。此外，通過以下的條件進(jìn)行母盤的曝光。在記錄型藍(lán)光光盤中，PIC區(qū)域與光盤的內(nèi)周側(cè)相當(dāng)，用戶數(shù)據(jù)區(qū)域與光盤的外周側(cè)相當(dāng)。軌道是從PIC區(qū)域向用戶數(shù)據(jù)區(qū)域前進(jìn)的方向，母盤曝光也在從PIC區(qū)域向用戶數(shù)據(jù)區(qū)域前進(jìn)的方向上進(jìn)行。此外，在任一實施例和比較例中，也將第一記錄區(qū)域Rl設(shè)為PIC區(qū)域，將第二記錄區(qū)域R2設(shè)為用戶數(shù)據(jù)區(qū)域，將第一記錄區(qū)域R1中的軌道間距tpl設(shè)為0.35iim，將第二記錄區(qū)域R2的軌道間距tp2設(shè)為0.32um。調(diào)節(jié)了PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的槽形狀，以使標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP滿足下述的管理范圍。作為具體的數(shù)值，將PIC區(qū)域的槽深設(shè)為30nm，將槽寬設(shè)為0.10um，將用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的槽深設(shè)為60nm，將槽寬設(shè)為0.19pm。母盤曝光時的曝光光強度的調(diào)節(jié)僅實施例3使用上述的第2方式的母盤曝光裝置(具有記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)和重復(fù)動作機(jī)構(gòu)的母盤曝光裝置)進(jìn)行。關(guān)于除此以外的實施例和比較例，使用上述的第1方式的母盤曝光裝置(具有記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)的母盤曝光裝置)進(jìn)行制造。各實施例和各比較例的信息記錄介質(zhì)使用上述的壓模制作基板，通過在該基板上依次層疊形成反射層、記錄層、界面層及覆蓋層而進(jìn)行制造。具體地說，首先，作為基板的材料使用聚碳酸酯，以上述的壓模作為模子進(jìn)行射出成形，從而形成仿形了壓模的凹凸圖案的基板。此外，基板的厚度設(shè)為l.lmm。接下來，在該基板上，通過濺射法將由AgNdCu合金構(gòu)成的反射層形成為70nm的厚度。接下來，在該反射層上，使用八氟戊醇(OFP)稀釋金屬絡(luò)合物偶氮系色素后，使用旋涂法成膜，由此形成了記錄層。旋涂法的條件如下。即，將以1.0重量％的濃度使金屬絡(luò)合物偶氮系色素溶解于OFP的溶液涂布于基板的中央附近成1.5g環(huán)狀，以1200rpm的速度旋轉(zhuǎn)基板7秒來延展色素。其后，以9200rpm的速度旋轉(zhuǎn)3秒來甩開色素，由此進(jìn)行涂布。此外，涂布后在IO(TC的環(huán)境下保持介質(zhì)1小時，由此，蒸發(fā)去除溶劑即OFP。記錄層的厚度以30nm左右為目標(biāo)。接下來，在該記錄層上，通過濺射法，將由ZnS:Si02構(gòu)成的界面層形成為16nm的厚度。接下來，在該界面層上，貼合由厚度75pm的聚碳酸酯樹脂的薄板和厚度25pm的壓敏粘結(jié)劑層構(gòu)成的，合計厚度為1004m的透明的覆蓋層。在各實施例和各比較例的信息記錄介質(zhì)的評價中，使用了圖8所示結(jié)構(gòu)的信息再現(xiàn)裝置(以下稱作"評價用信息再現(xiàn)裝置"。)。此外，圖8(a)是示出用于各實施例及各比較例的信息記錄介質(zhì)的評價的評價用信息再現(xiàn)裝置的主要部分結(jié)構(gòu)的功能框圖。圖8(b)是示出圖8(a)所示的評價用信息再現(xiàn)裝置具有的四分割光電二極管的結(jié)構(gòu)的圖。圖8(a)所示的評價用信息再現(xiàn)裝置具有四分割光電二極管901、推挽信號生成電路902、和信號生成電路903、標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號生成電路904、合成電路905、主軸電動機(jī)(圖示省略)、半導(dǎo)體激光器等光源(圖示省略)、物鏡(圖示省略)以及放大電路(圖示省略)等。此外，在主軸電動機(jī)上可以安裝作為評價對象的信息記錄介質(zhì)906。從半導(dǎo)體激光器等出射的激光由物鏡會聚到固定在主軸電動機(jī)上的信息記錄介質(zhì)906上。在信息記錄介質(zhì)906上被反射的激光被導(dǎo)向四分割光電二極管901。如圖8(b)所示，四分割光電二極管901由分割成四個的探測器構(gòu)成，從各個探測器輸出與向各探測器入射的激光的強度對應(yīng)的電信號。通過各個探測器輸出的電信號根據(jù)需要通過放大電路(未圖示)等之后，被導(dǎo)向推挽信號生成電路902及和信號生成電路卯3。推挽信號生成電路902計算(A+B)-(C+D)生成推挽信號PP。此外，和信號生成電路903計算(A+B)+(€+0)生成和信號SUM。并且，標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號生成電路904基于推挽信號PP及和信號SUM計算PP/SUM，生成標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號。此后，根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號，伺服單元(未圖示)執(zhí)行循軌控制。此處，A是相對于軌道方向的右前方的光電二極管，B是相對于軌道方向的右后方的光電二極管，C是相對于軌道方向的左前方的光電二極管，D是相對于軌道方向的右后方的光電二極管。各實施例及各比較例的信息記錄介質(zhì)的評價使用上述的評價用信息再現(xiàn)裝置900通過以下的步驟進(jìn)行。在未進(jìn)行循軌伺服的狀態(tài)下使用示波器測定pic區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界附近的未記錄狀態(tài)下的推挽信號PP及和信號SUM，計算NPP。接下來，調(diào)查PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界附近處的NPP的變動情況，由此評價NPP的特性。此外，關(guān)于下述的實施例13和比較例1、2，圖9圖14示出了通過上述的步驟所測定的由示波器示出的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的波形。這些波形都示出了信息記錄介質(zhì)的軌道的約二分之一周的波形。即，這些圖的橫軸都相當(dāng)于軌道的約二分之一周。此外，在任意一個實施例和比較例中，都將PIC區(qū)域中的NPP的管理范圍設(shè)為0.260.52。如果PIC區(qū)域中的NPP在該范圍內(nèi)，則在PIC區(qū)域中能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)。此外，在任意一個實施例和比較例中，作為用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的未記錄狀態(tài)下的NPP以0.6左右為目標(biāo)，將用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的未記錄狀態(tài)下的NPP的上限設(shè)定為0.8。此外，將用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的未記錄狀態(tài)下的NPP的下限設(shè)定為0.21。如果用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的未記錄狀態(tài)下的NPP在該范圍內(nèi)，則在用戶數(shù)據(jù)區(qū)域能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)。此外，在任意一個實施例和比較例中，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中的未記錄狀態(tài)下的NPP的管理范圍與上述PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的管理范圍中范圍更寬的用戶數(shù)據(jù)區(qū)域是相同的范圍。即，將記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中的未記錄狀態(tài)下的NPP的管理范圍設(shè)為0.210.8。此外，上述NPP的管理范圍是受伺服系統(tǒng)的性能影響的流動的數(shù)值，由所使用的伺服系統(tǒng)適當(dāng)確定。.將此次設(shè)定的值設(shè)為被認(rèn)為是在比通常的伺服裝置的性能稍低的裝置中也能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)的范圍。艮P，可以考慮為如果能夠提供信息記錄介質(zhì)整面中的NPP在上述的范圍內(nèi)的信息記錄介質(zhì)，則在各種記錄再現(xiàn)裝置中都能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)。此外，以下的實施例和比較例中的NPP是指所有未記錄狀態(tài)下的NPP。在母盤曝光時，將沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度Ltp設(shè)為3.2m，將沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg設(shè)為4.5m。軌道間距變遷區(qū)間Stp的開始點比槽形狀變遷區(qū)間Sg的開始點在時間上要早，將沿Stp和Sg的重合部分的軌道的長度LL設(shè)為2.9m。此處，Lg/Ltp的值是1.41，LL/Ltp的值是0.91。在以上的條件下制作出信息記錄介質(zhì)。將其作為實施例1的信息記錄介質(zhì)。關(guān)于實施例1的信息記錄介質(zhì)，通過上述的步驟進(jìn)行評價。圖9示出作為其結(jié)果而獲得的，PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界附近的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的情況。在實施例1的信息記錄介質(zhì)中，PIC區(qū)域中的NPP是0.3，用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的NPP是0.63。此外，在PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界附近，NPP平滑地變化，即使在記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中也沒有超出NPP的管理范圍的下限及上限。此外，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的NPP始終比PIC區(qū)域的NPP大，始終比用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的NPP小。通過以上的結(jié)果可知，在本實施例中可以獲得能夠?qū)崿F(xiàn)充分穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)的信息記錄介質(zhì)。在母盤曝光時，將沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度Ltp設(shè)為3.2m，將沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg設(shè)為2.5m。將軌道間距變迀區(qū)間Stp的開始點和槽形狀變遷區(qū)間Sg的開始點設(shè)為大致同一處，將沿Stp和Sg的重合部分的軌道的長度LL設(shè)為2.5m。此處，Lg/Ltp的值是0.78，LL/Ltp的值是0.78。在以上的條件下制作出信息記錄介質(zhì)。將其作為實施例2的信息記錄介質(zhì)。關(guān)于實施例2的信息記錄介質(zhì)，通過上述的步驟進(jìn)行評價。圖IO示出作為其結(jié)果而獲得的，PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界附近的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的情況。在實施例2的信息記錄介質(zhì)中，PIC區(qū)域中的NPP是0.39，用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的NPP是0.63。此處，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中的NPP在一部分區(qū)域中稍稍增大，但是增大部分中的NPP的最大值是0.77，沒有超過規(guī)定的NPP的管理范圍的上限。通過以上的結(jié)果可知，在本實施例中可以獲得能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)的信息記錄介質(zhì)。[實施例3]在母盤曝光時，將沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度Ltp設(shè)為1.6m，將沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg設(shè)為3.9m。軌道間距變遷區(qū)間Stp的開始點比槽形狀變遷區(qū)間Sg的開始點在時間上要早，將沿Stp和Sg的重合部分的軌道的長度LL設(shè)為0.4m。此處，Lg/Ltp的值是2.44，LL/Ltp的值是0.25。此外，在母盤曝光時，使用上述的第2方式的母盤曝光裝置((具有記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)和重復(fù)動作機(jī)構(gòu)的母盤曝光裝置)，在PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的變遷部中不進(jìn)行曝光光強度的掃描，在記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中，每90msec重復(fù)進(jìn)行通過記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)記錄光強度的動作。在以上的條件下制作出信息記錄介質(zhì)。將其作為實施例3的信息記錄介質(zhì)。關(guān)于實施例3的信息記錄介質(zhì)，通過上述的步驟進(jìn)行評價。圖11示出作為其結(jié)果而獲得的，PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界附近的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的情況。在實施例3的信息記錄介質(zhì)中，PIC區(qū)域中的NPP是0.34，用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的NPP是0.66。此外，在PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界附近，存在一部分NPP較小之處，該處的NPP是0.26，沒有低于規(guī)定的NPP的管理范圍的下限值。艮口，在該結(jié)構(gòu)的信息記錄介質(zhì)中，上述母盤曝光裝置的重復(fù)動作在100msec以下，因此在記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中沒有看到NPP急劇變化的情形。此外，不存在NPP極端大之處或極端小之處，沒有超出規(guī)定的NPP的管理范圍的下限和上限。通過以上的結(jié)果可知，在本實施例中。通過聚焦伺服電路和循軌伺服電路的微調(diào)可以獲得能夠?qū)崿F(xiàn)充分穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)的信息記錄介質(zhì)。Ltp、Lg、LL的各個值除了設(shè)為以下的表1示出的值以外，還通過與實施例1同樣的步驟來制作出信息記錄介質(zhì)。將這些設(shè)為實施例47的信息記錄介質(zhì)。關(guān)于實施例47，與實施例13同樣地測定NPP,任意一個NPP的值都收斂于規(guī)定范圍的數(shù)值內(nèi)，可以提供能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)的信息記錄介質(zhì)。在母盤曝光時，將沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度Ltp設(shè)為3.2m，將沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg設(shè)為0.5m。軌道間距變遷區(qū)間Stp的終點與槽形狀變遷區(qū)間Sg的開始點設(shè)為大致同一處，將沿Stp和Sg的重合部分的軌道的長度LL設(shè)為Om(即，沒有Stp和Sg的重合部分的狀態(tài))。此處，Lg/Ltp的值是0.16，LL/Ltp的值是0。在以上的條件下制作出信息記錄介質(zhì)。將其作為比較例1的信息記錄介質(zhì)。在比較例1的信息記錄介質(zhì)中，圖12示出PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界附近的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的情況。在比較例1的信息記錄介質(zhì)中，PIC區(qū)域中的NPP是0.41，用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的NPP是0.67。此夕卜，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中的NPP的最大值是0.9，最小值是0.07。即，NPP在一部分區(qū)域中高于管理范圍的上限，并在其他區(qū)域中低于下限。NPP超過管理范圍到這個程度時，則難以穩(wěn)定地執(zhí)行循軌伺服。此外，NPP的變化比較急劇，呈不連續(xù)地變化。這樣的信息記錄介質(zhì)在該處有可能對循軌伺服產(chǎn)生障礙。在母盤曝光時，將沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度Ltp設(shè)為3.2m，將沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg設(shè)為0m，即，設(shè)為以Stp的開始點作為分界沒有過渡地一下子變更槽形狀，完全沒有設(shè)置槽形狀變遷區(qū)間Sg的狀態(tài)。在以上的條件下制作出信息記錄介質(zhì)。將其作為比較例2的信息記錄介質(zhì)。，圖13示出在比較例2的信息記錄介質(zhì)中PIC區(qū)域和用戶數(shù)據(jù)區(qū)域的邊界附近的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP及和信號SUM的情況。在比較例2的信息記錄介質(zhì)中，PIC區(qū)域中的NPP是0.3，用戶數(shù)據(jù)區(qū)域中的NPP是0.61。此外，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中的NPP的最大值是1.2，最小值是0.2。艮口，存在NPP超過管理范圍上限之處和低于下限之處。NPP超過管理范圍到這個程度時，則難以穩(wěn)定地執(zhí)行循軌伺服。此外，NPP的變化比較急劇，呈不連續(xù)地變化。這樣的信息記錄介質(zhì)在該處有可能對循軌伺服產(chǎn)生障礙。以下的表1中示出，在各實施例和各比較例中，沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度Ltp、沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg、沿軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg的重合部分的軌道的長度LL、Lg/Ltp和LL/Ltp的各數(shù)值。<table>tableseeoriginaldocumentpage53</column></row><table>圖14是繪出關(guān)于實施例17及比較例1、2的信息記錄介質(zhì)而得到的Lg/Ltp和LL/Ltp之間的關(guān)系的圖。圖中的粗線框示出本發(fā)明中的合適的Lg/Ltp和LL/Ltp的值的范圍(0.2^Lg/Ltp^2.5、0.1SLL/Ltp^1.0)。根據(jù)以上的結(jié)果可知，在本發(fā)明中，從實現(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服狀態(tài)出發(fā)，優(yōu)選設(shè)定在Lg/Ltp和LL/Ltp的上述合適的范圍內(nèi)。產(chǎn)業(yè)上的可利用性本發(fā)明的信息記錄介M和母盤曝光裝置適合用于例如藍(lán)光光盤等信息記錄介質(zhì)的領(lǐng)域中。此外，在此引用了2006年11月30日提出申請的日本專利申請2006-324452號和2007年3月20日提出申請的日本專利申請2007-073272號說明書、權(quán)利要求書、附圖和摘要的全部內(nèi)容，作為本發(fā)明的說明書的公開引入。權(quán)利要求1.一種信息記錄介質(zhì)，其具有由凹凸圖案形成的記錄軌道，其特征在于，該記錄軌道至少具有第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及配置在第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2之間的記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx，第一記錄區(qū)域R1中的軌道間距tp1、槽寬w1及槽深d1和第二記錄區(qū)域R2中的軌道間距tp2、槽寬w2及槽深d2滿足下述式(1)、下述式(2)和/或式(3)，0<|tp1-tp2|(1)0<|w1-w2|(2)0<|d1-d2|(3)記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx具有軌道間距從tp1向tp2變遷的軌道間距變遷區(qū)間Stp，槽寬從w1向w2變遷和/或槽深從d1向d2變遷的槽形狀變遷區(qū)間Sg，軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg至少共有一部分的區(qū)域SL。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx由物理上連續(xù)的槽形成。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，所述信息記錄介質(zhì)具有包含有機(jī)色素的記錄層。4.根據(jù)權(quán)利要求13的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，記錄標(biāo)記部分中的反射率比未記錄部分的反射率高。5.根據(jù)權(quán)利要求14的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，將凹凸圖案中的與從記錄再現(xiàn)光入射側(cè)的信息記錄介質(zhì)的表面相距較遠(yuǎn)一側(cè)的槽底部設(shè)為記錄軌道。6.根據(jù)權(quán)利要求15的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，記錄層的組成和膜厚至少在第一記錄區(qū)域R1、第二記錄區(qū)域R2及記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中是相同的。7.根據(jù)權(quán)利要求16的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，在圓盤狀的信息記錄介質(zhì)中，沿槽形狀變遷區(qū)間Sg的軌道的長度Lg是圓盤狀的信息記錄介質(zhì)的軌道一周長以上。8.根據(jù)權(quán)利要求17的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，槽形狀變遷區(qū)間Sg中的槽寬及/或槽深沿軌道單調(diào)增加或單調(diào)減少地變化。'9.根據(jù)權(quán)利要求18的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，沿軌道間距變遷區(qū)間Stp的軌道的長度Ltp和沿軌道間距變遷區(qū)間Stp及槽形狀變遷區(qū)間Sg所共有的區(qū)域SL的軌道的長度LL滿足下述式(4)及式(5)0.2^Lg/Ltp^2.5(4)0.1^Lg/Ltp至1.0(5)。10.根據(jù)權(quán)利要求19的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，在將第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2中的未記錄狀態(tài)下的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅的最大值設(shè)為NPPmax，最小值設(shè)為NPP,的情況下，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的全部區(qū)域內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅NPP滿足下式NPP醒蕓NPPSNPP醒(6)。11.根據(jù)權(quán)利要求110的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，在將第一記錄區(qū)域R1和第二記錄區(qū)域R2中的未記錄狀態(tài)下的槽部反射率的最大值設(shè)為Rgvmax,最小值設(shè)為Rgv皿n的情況下，記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx內(nèi)的全部區(qū)域內(nèi)的未記錄狀態(tài)下的槽部反射率Rgv滿足下式RgVmin纟RgV^RgVmax(7)。12.根據(jù)權(quán)利要求111的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，第一記錄區(qū)域R1配置在第二記錄區(qū)域R2的內(nèi)周側(cè)，且在第一記錄區(qū)域Rl的內(nèi)周側(cè)配置有第三記錄區(qū)域R3，所述第三記錄區(qū)域R3具有比第一記錄區(qū)域R1中的軌道間距tpl及第二記錄區(qū)域R2中的軌道間距tp2寬的軌道間距tp3。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，在第三記錄區(qū)域R3中未進(jìn)行通過槽的蛇行而進(jìn)行的信息記錄。14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，在第三記錄區(qū)域R3和第一記錄區(qū)域R1之間，配置有軌道間距從tp3向tpl變遷的軌道間距變遷區(qū)間Stp'。15.根據(jù)權(quán)利要求114的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，第一記錄區(qū)域R1包含存儲了規(guī)定的信息的讀取專用區(qū)域，第二記錄區(qū)域R2包含能寫入用戶數(shù)據(jù)的可讀寫區(qū)域。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，讀取專用區(qū)域中的軌道間距為0.35iim，可讀寫區(qū)域中的軌道間距為0.32um。17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的信息記錄介質(zhì)，其特征在于，在將讀取專用區(qū)域中的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為NPP1，將可讀寫區(qū)域中的未記錄狀態(tài)下的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為NPP2，將可讀寫區(qū)域中的記錄后的標(biāo)準(zhǔn)化推挽信號振幅設(shè)為NPP2a，并將各個最大值中的最大值設(shè)為NPPAL,，各個最小值中的最小值設(shè)為NPPAL她時，NPPALmax/NPPALmn^3。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的信息記錄介質(zhì)，其中，NPPAL隨/NPPAL她S2。19.根據(jù)權(quán)利要求1518的任意一項所述的信息記錄介質(zhì)，針對讀取專用區(qū)域應(yīng)用第一擺動調(diào)制方式，針對可讀寫區(qū)域應(yīng)用與第一擺動調(diào)制方式不同的第二擺動調(diào)制方式，且在記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx中應(yīng)用與可讀寫區(qū)域相同的擺動調(diào)制方式。20.—種母盤曝光裝置，其特征在于，該母盤曝光裝置具有記錄光源；偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)，其使得產(chǎn)生基于規(guī)定的格式的規(guī)定的偏轉(zhuǎn)信號；記錄光偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其根據(jù)上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)所生成的偏轉(zhuǎn)信號，使上述記錄光源產(chǎn)生的記錄光偏轉(zhuǎn)；聚光機(jī)構(gòu)，其使上述記錄光會聚到母盤上；旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其用于載置上述母盤并使其旋轉(zhuǎn)；半徑移動機(jī)構(gòu)，其使上述聚光機(jī)構(gòu)在上述母盤的半徑方向上相對地移動；控制機(jī)構(gòu)，其根據(jù)預(yù)先設(shè)定的值，控制上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)速度、上述半徑移動機(jī)構(gòu)的移動速度及上述聚光機(jī)構(gòu)的位置，以使能生成軌道間距不同的多個記錄區(qū)域；記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，其調(diào)節(jié)上述記錄光的強度；以及記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)，其根據(jù)預(yù)先設(shè)定的值，單調(diào)增加或單調(diào)減少地掃描上述記錄光的強度。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的母盤曝光裝置，其特征在于，該母盤曝光裝置具有以下機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)檢測聚光機(jī)構(gòu)到達(dá)了預(yù)先設(shè)定的特定的半徑位置處的情況，而開始及/或結(jié)束上述記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)進(jìn)行的記錄光強度的掃描。22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的母盤曝光裝置，其特征在于，該母盤曝光裝置具有以下機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)檢測上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)輸出了預(yù)先設(shè)定的特定的地址的情況，而開始及/或結(jié)束上述記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)進(jìn)行的記錄光強度的掃描。23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的母盤曝光裝置，其特征在于，該母盤曝光裝置具有以下機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)檢測聚光機(jī)構(gòu)到達(dá)了預(yù)先設(shè)定的特定的半徑位置處的情況，而開始上述記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)進(jìn)行的記錄光強度的掃描，并且在經(jīng)過了預(yù)先設(shè)定的規(guī)定的時間以后，結(jié)束上述掃描。24.根據(jù)權(quán)利要求20所述的母盤曝光裝置，其特征在于，該母盤曝光裝置具有以下機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)檢測上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)輸出了預(yù)先設(shè)定的特定的地址的情況，而開始上述記錄光強度掃描機(jī)構(gòu)進(jìn)行的記錄光強度的掃描，并且在經(jīng)過了預(yù)先設(shè)定的規(guī)定的時間以后，結(jié)束上述掃描。25.—種母盤曝光裝置，其特征在于，該母盤曝光裝置至少具有記錄光源；偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)，其使得產(chǎn)生基于規(guī)定的格式的規(guī)定的偏轉(zhuǎn)信號；記錄光偏轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其根據(jù)上述偏轉(zhuǎn)信號生成機(jī)構(gòu)所生成的偏轉(zhuǎn)信號，使上述記錄光源產(chǎn)生的記錄光偏轉(zhuǎn)；聚光機(jī)構(gòu)，其使上述記錄光會聚到母盤上；旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其用于載置上述母盤并使其旋轉(zhuǎn)；半徑移動機(jī)構(gòu)，其使上述聚光機(jī)構(gòu)在上述母盤的半徑方向上相對地移動；控制機(jī)構(gòu)，其根據(jù)預(yù)先設(shè)定的值，控制上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)速度、上述半徑移動機(jī)構(gòu)的移動速度及上述聚光機(jī)構(gòu)的位置，以使得能生成軌道間距不同的多個記錄區(qū)域；記錄光強度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，其根據(jù)上述聚光機(jī)構(gòu)的位置和預(yù)先設(shè)定的特定的半徑值中的記錄光強度設(shè)定值，來插值并調(diào)節(jié)記錄光強度；以及重復(fù)動作機(jī)構(gòu)，其重復(fù)進(jìn)行上述記錄光強度調(diào)節(jié)動作，上述重復(fù)動作機(jī)構(gòu)的1個周期所需要的動作時間在100msec以下。全文摘要在具有軌道間距和槽形狀不同的多個記錄區(qū)域的信息記錄介質(zhì)中，實現(xiàn)穩(wěn)定的聚焦伺服和循軌伺服。由凹凸圖案形成的記錄軌道具有第一及第二記錄區(qū)域(R1、R2)和配置在第一及第二記錄區(qū)域(R1、R2)之間的記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx，第一記錄區(qū)域(R1)中的軌道間距tp1、槽寬w1及槽深d1和第二記錄區(qū)域(R2)中的軌道間距tp2、槽寬w2及槽深d2滿足式(1)、式(2)和/或式(3)，0＜|tp1-tp2|(1)；0＜|w1-w2|(2)；0＜|d1-d2|(3)。記錄區(qū)域變遷區(qū)間Sx具有軌道間距從tp1向tp2變遷的軌道間距變遷區(qū)間Stp，槽寬從w1向w2和/或槽深從d1向d2變遷的槽形狀變遷區(qū)間Sg，軌道間距變遷區(qū)間Stp和槽形狀變遷區(qū)間Sg至少共有一部分的區(qū)域SL。文檔編號G11B7/24GK101449323SQ20078001876公開日2009年6月3日申請日期2007年11月28日優(yōu)先權(quán)日2006年11月30日發(fā)明者久保正枝,佐佐木英博,清野賢二郎申請人:三菱化學(xué)媒體股份有限公司