專利名稱：光學(xué)頭裝置和采用此光學(xué)頭裝置的光學(xué)再現(xiàn)設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于光盤(pán)設(shè)備的光學(xué)頭裝置，其可用于通過(guò)將光點(diǎn)照射在光盤(pán)(光學(xué)記錄媒體)的信息記錄面上來(lái)光學(xué)式地讀取和寫(xiě)入信息。
物鏡驅(qū)動(dòng)單元通常由包括有物鏡、聚焦線圈和尋跡線圈的可動(dòng)單元以及設(shè)有磁路的靜止單元構(gòu)成。可動(dòng)單元由靜止單元通過(guò)多個(gè)彈性支撐件來(lái)支撐。彈性支撐件至少部分地被減震材料包圍。
為符合近來(lái)光盤(pán)設(shè)備速度的提高，需要有非常靈敏的物鏡驅(qū)動(dòng)單元。在日本專利JP-A-2001-229555中公開(kāi)了一種物鏡驅(qū)動(dòng)單元以及采用這種物鏡驅(qū)動(dòng)單元的光學(xué)頭裝置，其中磁體、聚焦線圈和尋跡線圈的布置可提供非常靈敏的物鏡驅(qū)動(dòng)單元。
現(xiàn)在參考圖8和圖9，圖中顯示了背景技術(shù)的光學(xué)頭裝置。圖8是顯示了背景技術(shù)中的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的結(jié)構(gòu)的分解透視圖。圖8所示的物鏡驅(qū)動(dòng)單元具有這樣的結(jié)構(gòu)，即線圈和磁體沿光學(xué)記錄媒體的切向方向分別設(shè)置在物鏡210的兩側(cè)，從而能夠以很高的靈敏度來(lái)驅(qū)動(dòng)物鏡210。
如圖8所示，物鏡210由物鏡托架220夾持以便與未示出的光學(xué)記錄媒體的信息記錄面相面對(duì)，用于聚集光束并將所聚集的光束照射在光學(xué)記錄媒體的信息記錄面上以記錄或再現(xiàn)信息。
圖8所示的鏡頭托架220具有粘附在左側(cè)表面S1上的線圈單元260a以及粘附在右側(cè)表面S2上的線圈單元260b，左側(cè)表面S1與右側(cè)表面S2基本上平行地相對(duì)。鏡頭托架220相對(duì)于包括有物鏡210的光軸且與左側(cè)和右側(cè)表面S1和S2平行的平面基本上對(duì)稱地形成，并且還相對(duì)于包括有物鏡210的光軸且與左側(cè)和右側(cè)表面S1和S2相交的平面基本上對(duì)稱地形成。線圈單元260a和260b也相對(duì)于上述平面對(duì)稱地形成。因此，鏡頭托架220以及粘附在鏡頭托架220的兩個(gè)側(cè)表面上的線圈單元260a和260b形成一體，包括有物鏡210的可動(dòng)單元200的重心位于鏡頭托架220的物鏡210的光軸上。
線圈單元260a和260b具有聚焦線圈261a和261b，它們分別纏繞成矩形形狀且串聯(lián)相接。聚焦線圈261a和261b纏繞成在被激勵(lì)時(shí)可在聚焦方向上產(chǎn)生基本上相同的力。線圈單元260a包括兩個(gè)串聯(lián)的尋跡線圈262a和262b，它們?cè)O(shè)置在聚焦線圈261a的兩側(cè)。線圈單元260b包括兩個(gè)串聯(lián)的尋跡線圈263a和263b，它們?cè)O(shè)置在聚焦線圈261b的兩側(cè)。尋跡線圈262a和262b以及尋跡線圈263a和263b串聯(lián)相接。尋跡線圈262a，262b，263a和263b纏繞成在被激勵(lì)時(shí)可在尋跡方向上產(chǎn)生基本上相同的力。
鏡頭托架220包括四個(gè)繞組線圈連接部分265。這些繞組線圈連接部分265中的一個(gè)通過(guò)繞組線圈的一個(gè)引出部分(未示出)而與串聯(lián)相接的聚焦線圈261a和261b的一個(gè)端子相連，而另一個(gè)繞組線圈連接部分265通過(guò)繞組線圈的一個(gè)引出部分(未示出)而與聚焦線圈261a和261b的另一端子相連。
另外一個(gè)繞組線圈連接部分265通過(guò)一個(gè)繞組線圈引出部分(未示出)而與串聯(lián)相接的尋跡線圈262a，262b，263a和263b的一個(gè)端子相連，而還有一個(gè)繞組線圈連接部分265與尋跡線圈262a，262b，263a和263b的另一端子相連。各繞組線圈連接部分通過(guò)焊接等與四個(gè)導(dǎo)電彈性體270中的每一個(gè)的一端相連。由四個(gè)導(dǎo)電彈性體270支撐的鏡頭托架220和粘附在鏡頭托架220的兩個(gè)側(cè)表面上的線圈單元260a和260b形成一體，并構(gòu)成了包括有物鏡210的可動(dòng)單元200。
導(dǎo)電彈性體270的另一端固定地焊接在基底280。因此，可動(dòng)單元200懸伸出來(lái)，從而能夠相對(duì)于包括有磁軛基體230、兩個(gè)磁軛231a和231b、導(dǎo)線基體240、兩個(gè)磁體250a和250b以及基底280的靜止單元移動(dòng)。
線圈單元260a設(shè)置在由磁體250a形成的磁路內(nèi)，磁體250a粘附在磁軛基體230的磁軛231a上。線圈單元260b設(shè)置在由磁體250b形成的磁路內(nèi)，磁體250b粘附在磁軛基體230的磁軛231b上。
線圈單元260a的線圈表面設(shè)置成與磁體250a的磁化表面250as相面對(duì)?；旧蠟榫匦螌?shí)心體的磁體250a被雙極化；一極處于下凹區(qū)域內(nèi)，而另一極處于安裝于下凹區(qū)域上的矩形實(shí)心體區(qū)域內(nèi)，如表示了磁邊界的假想線251a所示。朝向線圈單元260a的下凹區(qū)域被磁化成南極，而矩形實(shí)心體區(qū)域被磁化成北極。
線圈單元260b的線圈表面設(shè)置成與磁體250b的一個(gè)磁化表面250bs相面對(duì)。基本上為矩形實(shí)心體的磁體250b被雙極化；一極處于下凹區(qū)域內(nèi)，而另一極處于安裝于下凹區(qū)域上的矩形實(shí)心體區(qū)域內(nèi)，如表示了磁邊界的假想線251b所示。朝向線圈單元260b的下凹區(qū)域被磁化成南極，而矩形實(shí)心體區(qū)域被磁化成北極。當(dāng)磁體250a圍繞在圖8所示的物鏡210的光軸方向上延伸的軸線旋轉(zhuǎn)180度時(shí)，就可實(shí)現(xiàn)與磁體250b相同的磁化狀態(tài)。
之后將參考圖9來(lái)介紹光學(xué)頭裝置中的磁體250a和250b的磁化區(qū)域以及聚焦線圈261a和261b、尋跡線圈262a，262b，263a和263b之間的位置關(guān)系。圖9A顯示了在從圖8中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架220時(shí)的磁體250a和線圈單元260a之間的位置關(guān)系。在圖9A中，磁體250a相對(duì)于線圈單元260a位于近側(cè)。如上所述，磁體250a的朝向線圈單元260a的下凹區(qū)域被磁化成南極，而矩形實(shí)心體區(qū)域被磁化成北極。如圖9A所示，聚焦線圈261a纏繞成矩形形狀。兩個(gè)尋跡線圈262a和262b設(shè)置在聚焦線圈261a的兩側(cè)。尋跡線圈262a和262b也纏繞成矩形形狀。
為方便起見(jiàn)，假定聚焦線圈261a的矩形的四個(gè)側(cè)面分成區(qū)域A，B，C和D，如圖9A所示，聚焦線圈261a的側(cè)面B處于朝向磁體250a的南極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D設(shè)置在朝向北極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。聚焦線圈261a的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在從磁體250a的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
對(duì)于聚焦線圈261a來(lái)說(shuō)，當(dāng)假定尋跡線圈262a和262b的四個(gè)側(cè)面如圖9A所示地分成區(qū)域A，B，C和D時(shí)，尋跡線圈262a的側(cè)面A處于朝向磁體250a的北極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面A相對(duì)的側(cè)面C設(shè)置在朝向南極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。尋跡線圈262a的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體250a的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
尋跡線圈262b的側(cè)面A處于朝向磁體250a的南極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面A相對(duì)的側(cè)面C設(shè)置在朝向北極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。尋跡線圈262b的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體250a的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
尋跡線圈262a和262b纏繞成使得沿一個(gè)尋跡線圈262a的側(cè)面A流動(dòng)的電流方向與沿另一尋跡線圈262b的側(cè)面A流動(dòng)的電流方向相反。
圖9B顯示了在從圖8中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架220時(shí)的磁體250b和線圈單元260b之間的位置關(guān)系。在圖9B中，磁體250b相對(duì)于線圈單元260b位于遠(yuǎn)側(cè)。如上所述，朝向線圈單元260b的下凹區(qū)域被磁化成南極，而矩形實(shí)心體區(qū)域被磁化成北極。如圖9B所示，聚焦線圈261b纏繞成矩形形狀。兩個(gè)尋跡線圈263a和263b設(shè)置在聚焦線圈261b的兩側(cè)。尋跡線圈263a和263b也分別纏繞成矩形形狀。
聚焦線圈261b的側(cè)面B處于朝向磁體250b的南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D設(shè)置在朝向北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。聚焦線圈261b的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在從磁體250b的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
尋跡線圈263a的側(cè)面A處于朝向磁體250b的北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面A相對(duì)的側(cè)面C設(shè)置在朝向南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。尋跡線圈263a的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體250b的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
尋跡線圈263b的側(cè)面A處于朝向磁體250b的南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面A相對(duì)的側(cè)面C設(shè)置在朝向北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。尋跡線圈263b的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體250b的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
尋跡線圈263a和263b纏繞成使得沿一個(gè)尋跡線圈263a的側(cè)面A流動(dòng)的電流方向與沿另一尋跡線圈263b的側(cè)面A流動(dòng)的電流方向相反。
在具有上述構(gòu)造的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的光學(xué)頭裝置的線圈表面設(shè)置成與光盤(pán)的徑向基本上平行并且線圈單元260a和260b中的聚焦線圈261a和261b以及尋跡線圈262a，262b，263a和263b被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了作用在線圈上的根據(jù)弗來(lái)明左手定則的力，因此鏡頭托架220可在所需的方向上運(yùn)動(dòng)。當(dāng)聚焦線圈261a和261b被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面B和側(cè)面D在聚焦方向(圖9中的垂直方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力，當(dāng)尋跡線圈262a，262b，263a和263b被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面A和側(cè)面C在尋跡方向(圖9中的水平方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力。
例如，當(dāng)電流在聚焦線圈261a和261b中沿圖9中箭頭if所示方向流動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生了沿圖中向上方向作用的力Ff。因此，物鏡210可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的波動(dòng)而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)聚焦線圈261a和261b使物鏡210在基本上垂直于光盤(pán)的信息記錄面的方向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)聚焦位置。
如圖9所示，當(dāng)電流在尋跡線圈262a，262b，263a和263b中沿箭頭it所示方向流動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生了沿圖中向右作用的力Ft。因此，物鏡210可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的偏心而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)尋跡線圈262a，262b，263a和263b使物鏡210在光盤(pán)的徑向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)尋跡位置。
下面將在具有上述結(jié)構(gòu)的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中介紹在尋跡線圈262a，262b，263a和263b的任一側(cè)面的一部分被包括于磁邊界251a和251b附近的中性區(qū)域n內(nèi)的情況下的驅(qū)動(dòng)作用。在中性區(qū)域n中不存在磁通量，或者是存在很低密度的磁通量。
如圖9A所示，尋跡線圈262a的側(cè)面B的右部和尋跡線圈262b的側(cè)面B的左部包括于磁體250的磁邊界251a附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，當(dāng)例如通過(guò)激勵(lì)尋跡線圈262a，262b，263a和263b來(lái)將可動(dòng)部分200朝向圖9中的右側(cè)移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生于尋跡線圈262a的側(cè)面B的右部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向下作用力小于產(chǎn)生于尋跡線圈262a的側(cè)面D的右部處的向上作用力。因此在圖9中，當(dāng)尋跡線圈262a被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向上作用力Fe1以及用于使鏡頭托架220向右移動(dòng)的力。
類似地，產(chǎn)生于尋跡線圈262b的側(cè)面B的左部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向上作用力小于產(chǎn)生于尋跡線圈262b的側(cè)面D的左部處的向下作用力。因此在圖9中，當(dāng)尋跡線圈262b被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向下作用力Fe2以及用于使鏡頭托架220向右移動(dòng)的力。因此，在線圈單元260a上產(chǎn)生了一個(gè)從圖8中箭頭V的方向看去時(shí)使鏡頭托架220順時(shí)針旋轉(zhuǎn)的力矩。
另一方面，如圖9B所示，尋跡線圈263a的側(cè)面B的右部和尋跡線圈263b的側(cè)面B的左部包括在磁體250b的磁邊界251b附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，當(dāng)例如通過(guò)激勵(lì)尋跡線圈262a，262b，263a和263b來(lái)使可動(dòng)部分200朝向圖9中的右側(cè)運(yùn)動(dòng)時(shí)，在尋跡線圈263a的側(cè)面B的右部(包括于中性區(qū)域n內(nèi))處產(chǎn)生的向下作用力小于在尋跡線圈263a的側(cè)面D的右部處產(chǎn)生的向上作用力。因此在圖9B中，當(dāng)尋跡線圈263a被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了向上作用力Fe3以及使鏡頭托架220向右運(yùn)動(dòng)的力。
類似地，在尋跡線圈263b的側(cè)面B的左部(包括于中性區(qū)域n內(nèi))處產(chǎn)生的向上作用力小于在尋跡線圈263b的側(cè)面D的左部處產(chǎn)生的向下作用力。因此在圖9B中，當(dāng)尋跡線圈263b被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了向下作用力Fe4以及使鏡頭托架220向右運(yùn)動(dòng)的力。因此，在線圈單元260b中產(chǎn)生了在從圖8中箭頭V所示方向看去時(shí)使鏡頭托架220順時(shí)針旋轉(zhuǎn)的力矩。
為了提高尋跡方向上的靈敏性，最好盡可能地固定尋跡線圈262a，262b，263a和263b的側(cè)面A和側(cè)面C的長(zhǎng)度。然而，在上述公開(kāi)文獻(xiàn)的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中，當(dāng)尋跡線圈262a，262b，263a和263b的側(cè)面A和側(cè)面C的長(zhǎng)度增大時(shí)，側(cè)面B沿磁邊界251a和251b部分地重疊在中性區(qū)域上。當(dāng)在這種狀態(tài)下對(duì)其進(jìn)行激勵(lì)以使鏡頭托架220在箭頭Ft所示方向上運(yùn)動(dòng)時(shí)，多余的力Fe1到Fe4就產(chǎn)生了力矩。因此就存在著一個(gè)問(wèn)題，即繞切向方向產(chǎn)生了滾動(dòng)，因此，當(dāng)試圖只在尋跡方向上使可動(dòng)部分220以預(yù)定的程度運(yùn)動(dòng)時(shí)，安裝在鏡頭托架220上的物鏡210的光軸傾斜于光學(xué)記錄媒體的徑向。
另外還存在著一個(gè)問(wèn)題，即當(dāng)增大磁體250a和250b在聚焦方向上的寬度以避免尋跡線圈262a，262b，263a和263b的側(cè)面B與中性區(qū)域n沿磁邊界251a和251b發(fā)生重疊時(shí)，可動(dòng)部分200的厚度也必須增大，因而妨礙了設(shè)備尺寸和重量的減小。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種光學(xué)頭裝置以及一種采用了此光學(xué)頭裝置的光學(xué)再現(xiàn)設(shè)備，其中即使當(dāng)一部分驅(qū)動(dòng)線圈包括在磁邊界附近的中性區(qū)域n內(nèi)時(shí)，物鏡也能移動(dòng)到預(yù)定的位置，因此可以減小尺寸和重量。
上述目的可通過(guò)這樣一種光學(xué)頭裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)，其包括具有安裝在其上的物鏡的鏡頭托架；第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在鏡頭托架的一個(gè)側(cè)面上的第一驅(qū)動(dòng)線圈的第一線圈單元和朝向第一線圈單元的第一磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力，以及與所需驅(qū)動(dòng)力不同的另一驅(qū)動(dòng)力或者是基于此不同驅(qū)動(dòng)力的力矩；以及第二驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在鏡頭托架的與所述側(cè)面相對(duì)的另一側(cè)面上的第二驅(qū)動(dòng)線圈的第二線圈單元和朝向第二線圈單元的第二磁體，其可產(chǎn)生所需的力，以及用于抵消產(chǎn)生于第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元處的所述不同驅(qū)動(dòng)力或力矩的驅(qū)動(dòng)力或力矩。
在根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)頭裝置中，第一和第二驅(qū)動(dòng)線圈為尋跡線圈，所述不同驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生在聚焦方向上。
在根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)頭裝置中，第一和第二驅(qū)動(dòng)線圈為聚焦線圈，所述不同驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生在尋跡方向上。
上述目的也可通過(guò)這樣一種光學(xué)頭裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)，其包括具有安裝在其上的物鏡的鏡頭托架；第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在鏡頭托架的一個(gè)側(cè)面上的第一驅(qū)動(dòng)線圈的第一線圈單元和朝向第一線圈單元的第一磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力，以及因第一驅(qū)動(dòng)線圈的驅(qū)動(dòng)力分布不同而引起的力矩；以及第二驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在鏡頭托架的與所述側(cè)面相對(duì)的另一側(cè)面上的第二驅(qū)動(dòng)線圈的第二線圈單元和朝向第二線圈單元的第二磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力，以及用于抵消產(chǎn)生于第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元處的所述不同驅(qū)動(dòng)力或力矩的驅(qū)動(dòng)力或力矩。第一和第二驅(qū)動(dòng)線圈最好是聚焦線圈或?qū)ほE線圈中的任一種。
在本發(fā)明的光學(xué)頭裝置中，第一驅(qū)動(dòng)線圈部分地位于第一磁體的相對(duì)表面上的磁邊界的附近，第二驅(qū)動(dòng)線圈部分地位于第二磁體的相對(duì)表面上的磁邊界的附近。
在本發(fā)明的光學(xué)頭裝置中，第一磁體上與第一驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第一磁極的下凹區(qū)域以及磁化成第二磁極并安裝于下凹區(qū)域中的突出區(qū)域，第二磁體上與第二驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第二磁極并處于與第一磁體的下凹區(qū)域相反方向上的下凹區(qū)域以及磁化成第一磁極并安裝于上述下凹區(qū)域中的突出區(qū)域。
在本發(fā)明的光學(xué)頭裝置中，第一磁體上與第一驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第一磁極的L形區(qū)域以及磁化成第二磁極的倒L形區(qū)域，第二磁體上與第二驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第一和第二磁極中的一個(gè)磁極的L形區(qū)域以及磁化成另一磁極的倒L形區(qū)域。
上述目的可通過(guò)一種包括有根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)頭裝置的光學(xué)再現(xiàn)設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)。
圖7是顯示了包括有根據(jù)本發(fā)明第一到第三實(shí)施例的任一光學(xué)頭裝置的光學(xué)再現(xiàn)設(shè)備的大致結(jié)構(gòu)的圖；圖8是背景技術(shù)中的物理驅(qū)動(dòng)單元的分解透視圖；和圖9A和9B是顯示了背景技術(shù)中的光學(xué)頭裝置的磁體的磁化以及聚焦線圈和尋跡線圈的布局的圖。
如

圖1所示，物鏡10朝向光學(xué)記錄媒體(未示出)的信息記錄面，以用于通過(guò)聚集光束并將其照射在光學(xué)記錄媒體的信息記錄面上來(lái)記錄或再現(xiàn)信息，物鏡10由鏡頭托架20夾持。鏡頭托架20例如由樹(shù)脂材料形成，如液晶聚合物等。也可采用各種工程塑料來(lái)作為形成鏡頭托架20的材料，只要能保證所需的模制性能和剛性。
圖1中的鏡頭托架20設(shè)有通過(guò)粘合劑等粘附在其左側(cè)面S1上的線圈單元60a和粘附在右側(cè)面S2上的線圈單元60b，右側(cè)面S2與左側(cè)面S1相對(duì)并基本上平行。鏡頭托架20關(guān)于包括有物鏡10的光軸且平行于左、右側(cè)面S1和S2的平面基本上對(duì)稱地形成，并且還關(guān)于包括有物鏡10的光軸且與左、右側(cè)面S1和S2相交的平面基本上對(duì)稱地形成。線圈單元60a和60b也關(guān)于上述平面基本上對(duì)稱地形成。因此，鏡頭托架20以及粘附在鏡頭托架20的兩個(gè)側(cè)面上的線圈單元60a和60b形成一體，包括物鏡10的可動(dòng)單元100的重心位于鏡頭托架20的物鏡10的光軸上。
線圈單元60a和60b具有聚焦線圈61a和61b，其例如分別纏繞成矩形形狀并串聯(lián)相接。聚焦線圈61a和61b纏繞成在被激勵(lì)時(shí)可在聚焦方向上產(chǎn)生基本上相同的力。線圈單元60a設(shè)有兩個(gè)尋跡線圈62a和62b，其沿聚焦線圈61a的長(zhǎng)邊平行地設(shè)置并在聚焦線圈61a的內(nèi)部串聯(lián)相接。線圈單元61b設(shè)有兩個(gè)尋跡線圈63a和63b，其沿聚焦線圈61b的長(zhǎng)邊平行地設(shè)置并在聚焦線圈61b的內(nèi)部串聯(lián)相接。尋跡線圈62a和62b以及尋跡線圈63a和63b串聯(lián)相接。尋跡線圈62a，62b，63a和63b纏繞成在被激勵(lì)時(shí)可在尋跡方向上產(chǎn)生基本上相同的力。
鏡頭托架20包括四個(gè)繞組線圈連接部分65。這些繞組線圈連接部分65中的一個(gè)通過(guò)繞組線圈的引出部分(未示出)與串聯(lián)相接的聚焦線圈61a和61b的一個(gè)端子相連，另一繞組線圈連接部分65通過(guò)繞組線圈的引出部分(未示出)與聚焦線圈61a和61b的另一端子相連。
另外一個(gè)繞組線圈連接部分65通過(guò)繞組線圈的引出部分(未示出)與串聯(lián)相接的尋跡線圈62a，62b，63a和63b的一個(gè)端子相連，還有一個(gè)繞組線圈連接部分65通過(guò)繞組線圈的引出部分(未示出)與尋跡線圈62a，62b，63a和63b的另一端子相連。各繞組線圈連接部分65通過(guò)焊接等與四個(gè)導(dǎo)電彈性體70中的各彈性體的一端相連。由四個(gè)導(dǎo)電彈性體70支撐的鏡頭托架20以及粘附在鏡頭托架20的兩個(gè)側(cè)面上的線圈單元60a和60b形成一體，并構(gòu)成了包括物鏡10的可動(dòng)部分100。
通過(guò)在鏡頭托架20的兩個(gè)側(cè)面S1和S2上分別設(shè)置用于聚焦線圈61a和61b以及尋跡線圈62a，62b，63a和63b的繞組架并在各個(gè)繞組架上進(jìn)行纏繞，就可以形成聚焦線圈61a和61b以及尋跡線圈62a，62b，63a和63b。線圈單元60a和60b可不必如上所述地進(jìn)行繞組，而是由包括一個(gè)聚焦線圈和兩個(gè)尋跡線圈的大致矩形扁平基底構(gòu)成，這些線圈實(shí)際上是例如粘附在鏡頭托架20的兩個(gè)側(cè)面上的形成了圖案的導(dǎo)電體。粘附在鏡頭托架20的兩個(gè)側(cè)面上的線圈單元可具有各種結(jié)構(gòu)，例如為圖1所示的線圈單元和具有上述繞組架的線圈單元的組合，或者是具有扁平基底的線圈單元的組合。
導(dǎo)電彈性體70的另一端固定地焊接在基底80上。因此，可動(dòng)部分100懸伸出來(lái)，以便能相對(duì)于包括有磁軛基體30、兩個(gè)磁軛31a和31b、繞組基體40、兩個(gè)磁體50a和50b和基底80的靜止部分運(yùn)動(dòng)。
線圈單元60a設(shè)置在由粘附在磁軛基體30的磁軛31a上的磁體50a所形成的磁路中。線圈單元60b設(shè)置在由粘附在磁軛基體30的磁軛31b上的磁體50b所形成的磁路中。
線圈單元60a的線圈表面設(shè)置成面對(duì)著磁體50a的一個(gè)磁化表面50as?；旧蠟榫匦螌?shí)心體的磁體50a被雙極化；一極處于底部中的下凹區(qū)域內(nèi)，而另一極處于安裝于下凹區(qū)域上的向上突出的突出區(qū)域內(nèi)，如表示了磁邊界的假想線51a所示。在此示例中，朝向線圈單元60a的下凹區(qū)域被磁化成北極，突出區(qū)域被磁化成南極。
線圈單元60b的線圈表面設(shè)置成面對(duì)著磁體50b的一個(gè)磁化表面50bs?；旧蠟榫匦螌?shí)心體的磁體50b被雙極化；一極處于上表面中的下凹區(qū)域內(nèi)，而另一極處于安裝于下凹區(qū)域上的向下突出的突出區(qū)域內(nèi)，如表示了磁邊界的假想線51b所示。在此示例中，朝向線圈單元60b的下凹區(qū)域被磁化成南極，突出區(qū)域被磁化成北極。
磁體50a和磁體50b可以是以相同工藝流程制出的相同規(guī)格的磁體。當(dāng)磁體50a圍繞圖1中箭頭V所示的方向旋轉(zhuǎn)180度時(shí)，磁體50a就與磁體50b處于相同的磁化狀態(tài)?？赏ㄟ^(guò)將兩個(gè)磁化后的磁體組合在一起并采用如上所述的雙極化一個(gè)磁體的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)雙極化。
之后將參考圖2A和2B來(lái)介紹此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置中的磁體50a和50b的磁化區(qū)域以及聚焦線圈61a和61b與尋跡線圈62a，62b，63a和63b之間的位置關(guān)系。圖2A顯示了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架20時(shí)的磁體50a和線圈單元60a之間的位置關(guān)系。在圖2A中，磁體50a相對(duì)于線圈單元60a位于近側(cè)。如上所述，磁體50a的朝向線圈單元60a的下凹區(qū)域被磁化成北極，突出區(qū)域被磁化成南極。如圖2A所示，聚焦線圈61a纏繞成矩形形狀。兩個(gè)尋跡線圈62a和62b設(shè)置在聚焦線圈61a的內(nèi)部。尋跡線圈62a和62b纏繞成矩形形狀。
聚焦線圈61a的一個(gè)長(zhǎng)側(cè)面只面對(duì)磁體50a的相對(duì)表面的一個(gè)磁化區(qū)域，與此長(zhǎng)側(cè)面相對(duì)的另一長(zhǎng)側(cè)面只朝向另一磁化區(qū)域。為方便起見(jiàn)，當(dāng)如圖2A所示將矩形聚焦線圈61a的四個(gè)側(cè)面分成區(qū)域A，B，C和D時(shí)，聚焦線圈61a的側(cè)面B處于朝向磁體50a的南極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向北極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。聚焦線圈61a的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在不朝向磁體50a的位置。
與聚焦線圈61a的情況一樣，矩形尋跡線圈62a和62b的四個(gè)側(cè)面也假想地分成區(qū)域A，B，C和D，如圖2A所示。尋跡線圈62a的一個(gè)短側(cè)面即側(cè)面A設(shè)置在朝向磁體50a的南極的位置處，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面A相對(duì)的另一短側(cè)面即側(cè)面C設(shè)置在朝向北極的位置處，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。尋跡線圈62a的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體50a的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
另一方面，尋跡線圈62b的一個(gè)短側(cè)面即側(cè)面A設(shè)置在朝向磁體50a的北極的位置處，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面A相對(duì)的另一短側(cè)面即側(cè)面C設(shè)置在朝向南極的位置處，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。尋跡線圈62b的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體50a的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
尋跡線圈62a和62b纏繞成使得沿一個(gè)尋跡線圈62a的側(cè)面A流動(dòng)的電流方向與沿另一尋跡線圈62b的側(cè)面A流動(dòng)的電流方向相反。
圖2B顯示了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架20時(shí)的磁體50b和線圈單元60b之間的位置關(guān)系。在圖2B中，磁體50b相對(duì)于線圈單元60b位于遠(yuǎn)側(cè)。如上所述，朝向線圈單元60b的下凹區(qū)域被磁化成南極，突出區(qū)域被磁化成北極。如圖2B所示，聚焦線圈61b纏繞成矩形形狀。兩個(gè)尋跡線圈63a和63b設(shè)置在聚焦線圈61b的內(nèi)部。尋跡線圈63a和63b纏繞成矩形形狀。
聚焦線圈61b的一個(gè)長(zhǎng)側(cè)面只面對(duì)磁體50b的相對(duì)表面的一個(gè)磁化區(qū)域，與此長(zhǎng)側(cè)面相對(duì)的另一長(zhǎng)側(cè)面只朝向另一磁化區(qū)域。如圖2B所示，矩形聚焦線圈61b的四個(gè)側(cè)面假想地分成區(qū)域A，B，C和D，聚焦線圈61b的側(cè)面B處于朝向磁體50b的南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。聚焦線圈61b的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在不朝向磁體50b的位置。
與聚焦線圈61b的情況一樣，矩形尋跡線圈63a和63b的四個(gè)側(cè)面也假想地分成區(qū)域A，B，C和D，如圖2B所示。尋跡線圈63a的一個(gè)短側(cè)面即側(cè)面A設(shè)置在朝向磁體50b的北極的位置處，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面A相對(duì)的另一短側(cè)面即側(cè)面C設(shè)置在朝向南極的位置處，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。尋跡線圈63a的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體50b的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
另一方面，尋跡線圈63b的一個(gè)短側(cè)面即側(cè)面A設(shè)置在朝向磁體50b的南極的位置處，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面A相對(duì)的另一短側(cè)面即側(cè)面C設(shè)置在朝向北極的位置處，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。尋跡線圈63b的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體50b的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
尋跡線圈63a和63b纏繞成使得沿一個(gè)尋跡線圈63a的側(cè)面A流動(dòng)的電流方向與沿另一尋跡線圈63b的側(cè)面A流動(dòng)的電流方向相反。雖然這些驅(qū)動(dòng)線圈61a，61b，62a，62b，63a和63b在此示例中纏繞成矩形形狀，然而它們當(dāng)然也可纏繞成圓形、橢圓形或多邊形的形狀。
在具有上述結(jié)構(gòu)的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的光學(xué)頭裝置的線圈表面設(shè)置成與光盤(pán)的徑向基本上平行并且線圈單元60a和60b中的聚焦線圈61a和61b以及尋跡線圈62a，62b，63a和63b被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了作用在線圈上的根據(jù)弗來(lái)明左手定則的力，因此鏡頭托架20可在所需方向上運(yùn)動(dòng)。當(dāng)聚焦線圈61a和61b被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面B和側(cè)面D在聚焦方向(圖2A和2B中的垂直方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力，當(dāng)尋跡線圈62a，62b，63a和63b被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面A和側(cè)面C在尋跡方向(圖2A和2B中的水平方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力。
例如如圖2A和2B所示，當(dāng)電流沿箭頭if所示的方向流經(jīng)聚焦線圈61a和61b時(shí)，產(chǎn)生了在圖中指向上方的力Ff。因此，物鏡10可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的波動(dòng)而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)聚焦線圈61a和61b使物鏡10在基本上垂直于光盤(pán)的信息記錄面的方向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)聚焦位置。
如圖2A和2B所示，當(dāng)電流在尋跡線圈62a，62b，63a和63b中沿箭頭it所示的方向流動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生了在圖中向右作用的力Ft。因此，物鏡10可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的偏心而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)尋跡線圈62a，62b，63a和63b使物鏡10在光盤(pán)的徑向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)尋跡位置。
下面將在具有根據(jù)此實(shí)施例所述的結(jié)構(gòu)的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中來(lái)介紹在尋跡線圈62a，62b，63a和63b的任一側(cè)面的一部分包括于中性區(qū)域n內(nèi)的情況下的驅(qū)動(dòng)作用，其中中性區(qū)域n形成于磁邊界51a和51b的附近。在圖2A和2B中，點(diǎn)G表示可動(dòng)部分100的重心。可動(dòng)部分100的重心位于線圈單元60a和60b的大致中心位置處。
如圖2A所示，尋跡線圈62a的側(cè)面B的左部和側(cè)面D的右部以及尋跡線圈62b的側(cè)面B的右部和側(cè)面D的左部包括于磁體50a的磁邊界51a附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，當(dāng)例如通過(guò)激勵(lì)尋跡線圈62a，62b，63a和63b來(lái)將可動(dòng)部分100朝向圖2中的右側(cè)移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面B的左部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向上作用力小于產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面D的左部處的向下作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向下的作用力Fe1。類似地，產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面B的右部處的向下作用力大于產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面D的右部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向上作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向下的作用力Fe2。因此在圖2A中，當(dāng)尋跡線圈62a被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向下作用力以及用于使鏡頭托架20向右移動(dòng)的力。
同樣，產(chǎn)生于尋跡線圈62b的側(cè)面B的右部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向下作用力小于產(chǎn)生于尋跡線圈62b的側(cè)面D的右部處的向上作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向上的作用力Fe3。類似地，產(chǎn)生于尋跡線圈62b的側(cè)面B的左部處的向上作用力大于產(chǎn)生于尋跡線圈62b的側(cè)面D的左部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向下作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向上的作用力Fe4。因此在圖2A中，當(dāng)尋跡線圈62b被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向上作用力以及用于使鏡頭托架20向右移動(dòng)的力。
因此，在線圈單元60a上產(chǎn)生了一個(gè)從圖1中箭頭V的方向看去時(shí)使鏡頭托架20逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)的力矩。
另一方面，如圖2B所示，尋跡線圈63a的側(cè)面B的右部和側(cè)面D的左部以及尋跡線圈63b的側(cè)面B的左部和側(cè)面D的右部包括于磁體50b的磁邊界51b附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，例如當(dāng)通過(guò)激勵(lì)尋跡線圈62a，62b，63a和63b來(lái)將可動(dòng)部分100朝向圖2中的右側(cè)移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面B的右部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向下作用力小于產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面D的右部處的向上作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向上的作用力Fe5。類似地，產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面B的左部處的向上作用力大于產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面D的左部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向下作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向上的作用力Fe6。因此在圖2B中，當(dāng)尋跡線圈63a被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向上作用力以及用于使鏡頭托架20向右移動(dòng)的力。
同樣，產(chǎn)生于尋跡線圈63b的側(cè)面B的左部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向上作用力小于產(chǎn)生于尋跡線圈63b的側(cè)面D的左部處的向下作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向下的作用力Fe7。類似地，產(chǎn)生于尋跡線圈63b的側(cè)面B的右部處的向下作用力大于產(chǎn)生于尋跡線圈63b的側(cè)面D的右部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向上作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向下的作用力Fe8。因此，當(dāng)尋跡線圈63b被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向下作用力以及用于使鏡頭托架20移動(dòng)的力。
因此，在線圈單元60b上產(chǎn)生了一個(gè)從圖1中箭頭V的方向看去時(shí)使鏡頭托架20順時(shí)針旋轉(zhuǎn)的力矩。
在此實(shí)施例中，由于磁體50a的和線圈單元60a相對(duì)的表面上的磁化圖案與磁體50b的和線圈單元60b相對(duì)的表面上的磁化圖案處于相反的方向，因此，尋跡線圈62a和62b的側(cè)面B和側(cè)面D的包括于中性區(qū)域n內(nèi)的部分(或者是鄰近中性區(qū)域n的部分)以及尋跡線圈63a和63b的側(cè)面B和側(cè)面D的包括于中性區(qū)域n內(nèi)的部分(或者是鄰近中性區(qū)域n的部分)在水平方向上鏡像地相對(duì)。
尋跡線圈62a，62b，63a和63b相互間產(chǎn)生幾乎相同的驅(qū)動(dòng)力，線圈單元60a所產(chǎn)生的力矩的方向與線圈單元60b所產(chǎn)生的力矩的方向相反，但大小基本上相同。因此，可動(dòng)部分100能夠只在尋跡方向上以預(yù)定的程度運(yùn)動(dòng)，而不會(huì)在聚焦方向上旋轉(zhuǎn)、傾斜或移動(dòng)，這是因?yàn)閮蓚€(gè)力矩相互抵消。包括在中性區(qū)域n內(nèi)的部分的百分率隨著在尋跡方向上的運(yùn)動(dòng)而變化，力矩的大小也相應(yīng)變化。然而，由于線圈單元60a和60b的力矩的變化量相等，因此兩個(gè)力矩相互抵消為零，可動(dòng)部分100可以只在尋跡方向上運(yùn)動(dòng)。
如上所述，根據(jù)此實(shí)施例，即使當(dāng)尋跡線圈的任一側(cè)面部分地包括在磁邊界51a和51b附近的中性區(qū)域n內(nèi)時(shí)，在聚焦方向上也不會(huì)產(chǎn)生多余的力，并且防止了可相對(duì)于可動(dòng)部分100的重心旋轉(zhuǎn)的力矩的產(chǎn)生。
對(duì)于聚焦線圈61a和61b來(lái)說(shuō)，雖然側(cè)面B和側(cè)面D中的任一側(cè)面均部分地包括于中性區(qū)域n內(nèi)，由于就方向和大小而言與產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面B上任意點(diǎn)處的力幾乎相同的力產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面D的對(duì)應(yīng)點(diǎn)處，并且就方向和大小而言與產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面D上任意點(diǎn)處的力幾乎相同的力產(chǎn)生于側(cè)面B的對(duì)應(yīng)點(diǎn)處，因此不會(huì)產(chǎn)生多余的力矩。
這樣，根據(jù)此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的特征在于，設(shè)置了兩個(gè)驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，它們包括設(shè)置在光盤(pán)切向上的分別位于物鏡10的相對(duì)側(cè)的兩個(gè)磁體50a和50b，以及用于產(chǎn)生作用在位于鏡頭托架20上的磁體50a和50b上的驅(qū)動(dòng)力的線圈單元60a和60b，其特征還在于，磁體50a和50b以及線圈單元60a和60b設(shè)置成使得兩個(gè)驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元中的除用于尋跡運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力以外的驅(qū)動(dòng)力及其力矩相互間抵消。
根據(jù)此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的特征在于，設(shè)置了兩個(gè)驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，它們包括設(shè)置在光盤(pán)切向上的分別位于物鏡10的相對(duì)側(cè)的兩個(gè)磁體50a和50b，以及用于產(chǎn)生作用在位于鏡頭托架20上的磁體50a和50b上的驅(qū)動(dòng)力的線圈單元60a和60b，其特征還在于，磁體50a和50b以及線圈單元60a和60b設(shè)置成使得兩個(gè)驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元中的除用于聚焦運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力以外的驅(qū)動(dòng)力及其力矩相互間抵消。因此可以實(shí)現(xiàn)能減小可動(dòng)部分100在聚焦方向上的厚度的此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置。
之后再參考圖3和圖4來(lái)介紹用于根據(jù)此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的改進(jìn)。圖3是圖1和圖2所示的磁體50a和50b以及線圈單元60a和60b從橫向到縱向旋轉(zhuǎn)了90度的示例。在此示例中，外側(cè)的矩形線圈用作尋跡線圈62a和63a，內(nèi)側(cè)的兩個(gè)矩形線圈用作聚焦線圈61a和61b。
圖4顯示了在此改進(jìn)中的光學(xué)頭裝置中的磁體50a和50b的磁化區(qū)域以及聚焦線圈61a，61a’和61b，61b’與尋跡線圈62a和63a之間的位置關(guān)系。圖4A顯示了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架20時(shí)的磁體50a和線圈單元60a之間的位置關(guān)系。在圖4A中，磁體50a相對(duì)于線圈單元60a位于近側(cè)。磁體50a的朝向線圈單元60a的下凹區(qū)域被磁化成北極，突出區(qū)域被磁化成南極。如圖4A所示，分別纏繞成矩形形狀的兩個(gè)聚焦線圈61a和61a’一個(gè)設(shè)置在另一個(gè)之上。尋跡線圈62a設(shè)置成圍繞著兩個(gè)兩個(gè)聚焦線圈61a和61a’。尋跡線圈62a也纏繞成矩形形狀。
當(dāng)如圖4A所示將兩個(gè)矩形聚焦線圈61a和61a’的四個(gè)側(cè)面假想地分成區(qū)域A，B，C和D時(shí)，聚焦線圈61a的側(cè)面B處于朝向磁體50a的南極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向北極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。聚焦線圈61a的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在從磁體50a的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
另一方面，聚焦線圈61a’的側(cè)面B處于朝向磁體50a的北極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向南極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。聚焦線圈61a’的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在從磁體50a的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
當(dāng)如圖4A所示以與聚焦線圈61a和61a’相同的方式將矩形尋跡線圈62a的四個(gè)側(cè)面假想地分成區(qū)域A，B，C和D時(shí)，尋跡線圈62a的一個(gè)長(zhǎng)側(cè)面即側(cè)面C設(shè)置在朝向磁體50a的南極的位置處，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面C相對(duì)的另一長(zhǎng)側(cè)面即側(cè)面A設(shè)置在朝向北極的位置處，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。尋跡線圈62a的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在不朝向磁體50a的位置處。
各個(gè)聚焦線圈61a和61a’纏繞成使得流經(jīng)一側(cè)上聚焦線圈61a的側(cè)面A的電流方向與流經(jīng)另一側(cè)上聚焦線圈61a’的側(cè)面A的電流方向相反。
圖4B顯示了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架20時(shí)的磁體50b和線圈單元60b之間的位置關(guān)系。在圖4B中，磁體50b相對(duì)于線圈單元60b位于遠(yuǎn)側(cè)。朝向線圈單元60b的下凹區(qū)域被磁化成南極，突出區(qū)域被磁化成北極。如圖4B所示，兩個(gè)聚焦線圈61b和61b’纏繞成矩形形狀并且一個(gè)設(shè)置在另一個(gè)之上。尋跡線圈63a設(shè)置成圍繞著兩個(gè)聚焦線圈61b和61b’。尋跡線圈63a也纏繞成矩形形狀。
當(dāng)在圖4B中將兩個(gè)矩形聚焦線圈61b和61b’的四個(gè)側(cè)面假想地分成區(qū)域A，B，C和D時(shí)，聚焦線圈61b的側(cè)面B處于朝向磁體50b的北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。聚焦線圈61b的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在從磁體50b的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
另一方面，聚焦線圈61b’的側(cè)面B處于朝向磁體50b的南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。聚焦線圈61b’的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在從磁體50b的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
當(dāng)如圖4B所示以與聚焦線圈61b和61b’相同的方式也將矩形尋跡線圈63a的四個(gè)側(cè)面假想地分成區(qū)域A，B，C和D時(shí)，尋跡線圈63a的一個(gè)長(zhǎng)側(cè)面即側(cè)面C設(shè)置在朝向磁體50b的南極的位置處，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面C相對(duì)的另一長(zhǎng)側(cè)面即側(cè)面A設(shè)置在朝向北極的位置處，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。尋跡線圈63a的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在不朝向磁體50b的位置處。
聚焦線圈61b和61b’纏繞成使得流經(jīng)聚焦線圈61b的側(cè)面A的電流方向與流經(jīng)聚焦線圈61b’的側(cè)面A的電流方向相反。
在具有上述結(jié)構(gòu)的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的光學(xué)頭裝置的線圈表面設(shè)置成與光盤(pán)的徑向基本上平行并且線圈單元60a和60b中的聚焦線圈61a，61a’和61b，61b’以及尋跡線圈62a和63a被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了作用在線圈上的根據(jù)弗來(lái)明左手定則的力，因此鏡頭托架20可在所需方向上運(yùn)動(dòng)。當(dāng)聚焦線圈61a，61a’和61b，61b’被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面B和側(cè)面D在聚焦方向(圖4A和4B中的垂直方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力，當(dāng)尋跡線圈62a和63a被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面A和側(cè)面C在尋跡方向(圖4A和4B中的水平方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力。
例如如圖4A和4B所示，當(dāng)電流沿箭頭if所示的方向流經(jīng)聚焦線圈61a，61a’和61b，61b’時(shí)，產(chǎn)生了在圖中指向下方的力Ff。因此，物鏡10可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的波動(dòng)而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)聚焦線圈61a，61a’和61b，61b’使物鏡10在基本上垂直于光盤(pán)的信息記錄面的方向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)聚焦位置。
如圖4A和4B所示，當(dāng)電流在尋跡線圈62a和63a中沿箭頭it所示的方向流動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生了在圖中向右作用的力Ft。因此，物鏡10可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的偏心而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)尋跡線圈62a和63a使物鏡10在光盤(pán)的徑向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)尋跡位置。
下面將在具有根據(jù)此實(shí)施例所述的結(jié)構(gòu)的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中來(lái)介紹在聚焦線圈61a，61a’和61b，61b’的任一側(cè)面的一部分包括于中性區(qū)域n內(nèi)的情況下的驅(qū)動(dòng)作用，其中中性區(qū)域n形成于磁邊界51a和51b的附近。在圖4A和4B中，點(diǎn)G表示可動(dòng)部分100的重心?？蓜?dòng)部分100的重心位于各線圈單元60a和60b的大致中心位置處。
如圖4A所示，聚焦線圈61a的側(cè)面A的下部和側(cè)面C的上部以及聚焦線圈61a’的側(cè)面A的上部和側(cè)面C的下部包括于磁體50a的磁邊界51a附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，當(dāng)例如通過(guò)激勵(lì)聚焦線圈61a，61a’和61b，61b’來(lái)將可動(dòng)部分100朝向圖4中的下方移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面A的上部處的向左作用力大于產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面C的上部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向右作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向左的作用力Fe1。類似地，產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面A的下部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向右作用力小于產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面C的下部處的向左作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向左的作用力Fe2。因此在圖4A中，當(dāng)聚焦線圈61a被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向左作用力以及用于使鏡頭托架20向下移動(dòng)的力。
同樣，產(chǎn)生于聚焦線圈61a’的側(cè)面C的下部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向左作用力小于產(chǎn)生于聚焦線圈61a’的側(cè)面A的下部處的向右作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向右的作用力Fe3。類似地，產(chǎn)生于聚焦線圈61a’的側(cè)面C的上部處的向右作用力大于產(chǎn)生于聚焦線圈61a’的側(cè)面A的上部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向左作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向右的作用力Fe4。因此在圖4A中，當(dāng)聚焦線圈61a’被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向左作用力以及用于使鏡頭托架20向下移動(dòng)的力。
因此，在線圈單元60a上產(chǎn)生了一個(gè)從圖1中箭頭V的方向看去時(shí)使鏡頭托架20逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)的力矩。
另一方面，如圖4B所示，聚焦線圈61b的側(cè)面A的上部和側(cè)面C的下部以及聚焦線圈61b’的側(cè)面A的下部和側(cè)面C的上部包括于磁體50b的磁邊界51b附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，例如當(dāng)通過(guò)激勵(lì)聚焦線圈61a，61a’和61b，61b’來(lái)將可動(dòng)部分100朝向圖4B中的下方移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面C的下部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向左作用力小于產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面A的下部處的向右作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向右的作用力Fe5。類似地，產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面C的上部處的向右作用力大于產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面A的上部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向左作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向右的作用力Fe6。因此在圖4B中，當(dāng)聚焦線圈61b被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向右作用力以及用于使鏡頭托架20向下移動(dòng)的力。
同樣，產(chǎn)生于聚焦線圈61b’的側(cè)面C的上部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向右作用力小于產(chǎn)生于聚焦線圈61b’的側(cè)面A的上部處的向左作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向左的作用力Fe7。類似地，產(chǎn)生于聚焦線圈61b’的側(cè)面C的下部處的向左作用力大于產(chǎn)生于聚焦線圈61b’的側(cè)面A的下部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向右作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向左的作用力Fe8。因此在圖4B中，當(dāng)聚焦線圈61b’被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向左作用力以及用于使鏡頭托架20向下移動(dòng)的力。
因此，在線圈單元60b上產(chǎn)生了一個(gè)從圖1中箭頭V的方向看去時(shí)使鏡頭托架順時(shí)針旋轉(zhuǎn)的力矩。
由于聚焦線圈61a，61a’和61b，61b’產(chǎn)生基本上相同的驅(qū)動(dòng)力，線圈單元60a處所產(chǎn)生的力矩的方向與線圈單元60b處所產(chǎn)生的力矩的方向相反，但大小基本上相同。因此，可動(dòng)部分100能夠只在聚焦方向上預(yù)定的程度運(yùn)動(dòng)，而不會(huì)在尋跡方向上旋轉(zhuǎn)、傾斜或移動(dòng)，這是因?yàn)閮蓚€(gè)力矩相互間抵消。包括在中性區(qū)域n內(nèi)的部分的百分率隨著在聚焦方向上的運(yùn)動(dòng)而變化，力矩的大小也相應(yīng)變化。然而，由于線圈單元60a和60b的力矩的變化量相等，因此兩個(gè)力矩相互抵消為零，可動(dòng)部分100可以只在聚焦方向上運(yùn)動(dòng)。
如上所述，根據(jù)此改進(jìn)的結(jié)構(gòu)，即使當(dāng)聚焦線圈的任一側(cè)面部分地包括在磁邊界51a和51b附近的中性區(qū)域n內(nèi)時(shí)，在尋跡方向上也不會(huì)產(chǎn)生多余的力，并且防止了可相對(duì)于可動(dòng)部分100的重心旋轉(zhuǎn)的力矩的產(chǎn)生。
對(duì)于聚焦線圈62a和62b來(lái)說(shuō)，雖然側(cè)面A和側(cè)面C中的任一側(cè)面均部分地包括于中性區(qū)域n內(nèi)，由于就方向和大小而言與產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面A上任意點(diǎn)處的力幾乎相同的力產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面C的對(duì)應(yīng)點(diǎn)處，并且就方向和大小而言與產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面C上任意點(diǎn)處的力幾乎相同的力產(chǎn)生于側(cè)面A的對(duì)應(yīng)點(diǎn)處，因此不會(huì)產(chǎn)生多余的力矩。因此，根據(jù)這種改進(jìn)，可以實(shí)現(xiàn)能減小可動(dòng)部分100在尋跡方向上的厚度的光學(xué)頭裝置。[第二實(shí)施例]下面將參考圖5來(lái)介紹根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的光學(xué)頭裝置。根據(jù)此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元具有與第一實(shí)施例的如圖1所示的類似結(jié)構(gòu)，然而線圈單元60a和60b以及磁體50a和50b的結(jié)構(gòu)不同。圖5顯示了根據(jù)此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置的磁體50a和50b的磁化區(qū)域、聚焦線圈61a，61b以及尋跡線圈62a和63a之間的位置關(guān)系。
線圈單元60a和60b例如具有聚焦線圈61a和61b，其分別纏繞成矩形形狀并串聯(lián)相接。聚焦線圈61a和61b纏繞成在被激勵(lì)時(shí)可在聚焦方向上產(chǎn)生基本上相同的力。在線圈單元60a的聚焦線圈61a的內(nèi)部設(shè)有尋跡線圈62a。在線圈單元60b的聚焦線圈61b的內(nèi)部設(shè)有尋跡線圈63a。尋跡線圈62a和63a串聯(lián)相接。尋跡線圈62a和63a纏繞成在被激勵(lì)時(shí)可在尋跡方向上產(chǎn)生基本上相同的力。
基本上為矩形實(shí)心體的磁體50a被雙極化成兩個(gè)由假想線51a所示的L形區(qū)域，假想線51a表示磁邊界。在此示例中，朝向線圈單元60a的下方L形區(qū)域(圖5中的下側(cè))被磁化成南極，而朝向線圈單元60a的上方L形區(qū)域被磁化成北極。
基本上為矩形實(shí)心體的磁體50b被雙極化成兩個(gè)由假想線51b所示的L形區(qū)域，假想線51b表示磁邊界。在此示例中，朝向線圈單元60b的下方L形區(qū)域被磁化成南極，而朝向線圈單元60b的上方L形區(qū)域被磁化成北極。當(dāng)磁體50a圍繞著沿圖1中物鏡10的光軸方向延伸的軸線旋轉(zhuǎn)180度時(shí)，就實(shí)現(xiàn)了與磁體50b相同的磁化狀態(tài)。
圖5A顯示了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架20時(shí)的磁體50a和線圈單元60a之間的位置關(guān)系。在圖5A中，磁體50a相對(duì)于線圈單元60a位于近側(cè)。聚焦線圈61a纏繞成矩形形狀。尋跡線圈62a設(shè)置在聚焦線圈61a的內(nèi)部。尋跡線圈62a也纏繞成矩形形狀。
當(dāng)矩形聚焦線圈61a的四個(gè)側(cè)面假想地分成區(qū)域A，B，C和D時(shí)，如圖5A所示，聚焦線圈61a的側(cè)面B處于朝向磁體50a的南極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向北極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。聚焦線圈61a的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在不朝向磁體50a的位置。
與聚焦線圈61a的情況一樣，尋跡線圈62a的四個(gè)側(cè)面也假想地分成區(qū)域A，B，C和D，如圖5A所示。尋跡線圈62a的側(cè)面A設(shè)置在朝向磁體50a的南極的位置處，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面A相對(duì)的另一短側(cè)面C設(shè)置在朝向北極的位置處，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。尋跡線圈62a的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體50a的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
圖5B顯示了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架20時(shí)的磁體50b和線圈單元60b之間的位置關(guān)系。在圖5B中，磁體50b相對(duì)于線圈單元60b位于遠(yuǎn)側(cè)。如圖5B所示，聚焦線圈61b纏繞成矩形形狀。尋跡線圈63a設(shè)置在聚焦線圈61b的內(nèi)部。尋跡線圈63a也纏繞成矩形形狀。
聚焦線圈61b的側(cè)面B處于朝向磁體50b的南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。聚焦線圈61b的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在不朝向磁體50b的位置。
尋跡線圈63a的側(cè)面A處于朝向磁體50b的北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面A相對(duì)的另一短側(cè)面C處于朝向南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。尋跡線圈63a的側(cè)面B和側(cè)面D設(shè)置在從磁體50b的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
具有上述結(jié)構(gòu)的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的光學(xué)頭裝置的線圈表面設(shè)置成與光盤(pán)的徑向基本上平行，并且線圈單元60a和60b中的聚焦線圈61a和61b以及尋跡線圈62a和63a被激勵(lì)，這樣就產(chǎn)生了作用在線圈上的根據(jù)弗來(lái)明左手定則的力，因此鏡頭托架20可在所需方向上運(yùn)動(dòng)。當(dāng)聚焦線圈61a和61b被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面B和側(cè)面D在聚焦方向(圖5A和5B中的垂直方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力，當(dāng)尋跡線圈62a和63a被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面A和側(cè)面C在尋跡方向(圖5A和5B中的水平方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力。
例如如圖5A和5B所示，當(dāng)電流沿箭頭if所示的方向流經(jīng)聚焦線圈61a和61b時(shí)，產(chǎn)生了在圖中指向上方的力Ff。因此，物鏡10可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的波動(dòng)而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)聚焦線圈61a和61b使物鏡10在基本上垂直于光盤(pán)的信息記錄面的方向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)聚焦位置。
如圖5A和5B所示，當(dāng)電流在尋跡線圈62a和63a中沿箭頭it所示的方向流動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生了在圖中向右作用的力Ft。因此，物鏡10可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的偏心而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)尋跡線圈62a和63a使物鏡10在光盤(pán)的徑向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)尋跡位置。
下面將在具有上述結(jié)構(gòu)的根據(jù)此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中來(lái)介紹在尋跡線圈62a和63a的任一側(cè)面的一部分包括于中性區(qū)域n內(nèi)的情況下的驅(qū)動(dòng)作用，其中中性區(qū)域n形成于磁邊界51a和51b的附近。在圖5A和5B中，點(diǎn)G表示可動(dòng)部分100的重心?？蓜?dòng)部分100的重心位于線圈單元60a和60b的大致中心位置處。
如圖5A所示，尋跡線圈62a的側(cè)面B的左部和側(cè)面D的右部包括于磁體50a的磁邊界51a附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，當(dāng)例如通過(guò)激勵(lì)尋跡線圈62a和63a來(lái)將可動(dòng)部分100朝向圖5中的右側(cè)移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面B的左部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向上作用力小于產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面D的左部處的向下作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向下的作用力Fe1。類似地，產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面B的右部處的向下作用力大于產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面D的右部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向上作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向下的作用力Fe2。因此在圖5A中，當(dāng)尋跡線圈62a被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向下作用力以及用于使鏡頭托架20向右移動(dòng)的力。這樣就產(chǎn)生了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向看去時(shí)用于將鏡頭托架20向下推動(dòng)的多余的驅(qū)動(dòng)力。
另一方面，如圖5B所示，尋跡線圈63a的側(cè)面B的右部和側(cè)面D的左部包括于磁體50b的磁邊界51b附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，例如當(dāng)通過(guò)激勵(lì)尋跡線圈62a和63a來(lái)將可動(dòng)部分100朝向圖5中的右側(cè)移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面B的右部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向下作用力小于產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面D的右部處的向上作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向上的作用力Fe3。類似地，產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面B的左部處的向上作用力大于產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面D的左部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向下作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向上的作用力Fe4。因此在圖5B中，當(dāng)尋跡線圈63a被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向上作用力以及用于使鏡頭托架20向右移動(dòng)的力。這樣就在線圈單元60b上產(chǎn)生了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向看去時(shí)用于將鏡頭托架20向上推動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力。
在此實(shí)施例中，由于磁體50a的和線圈單元60a相對(duì)的表面上的磁化圖案與磁體50b的和線圈單元60b相對(duì)的表面上的磁化圖案處于相反的方向，因此，尋跡線圈62a和63a的側(cè)面B和側(cè)面D的包括于中性區(qū)域n內(nèi)的部分(或者是鄰近中性區(qū)域n的部分)在水平方向上鏡像地相對(duì)。
由于尋跡線圈62a和63a相互間產(chǎn)生幾乎相同的驅(qū)動(dòng)力，線圈單元60a所產(chǎn)生的多余驅(qū)動(dòng)力的方向與線圈單元60b所產(chǎn)生的多余驅(qū)動(dòng)力的方向相反，但大小基本上相同。因此，可動(dòng)部分100能夠只在尋跡方向上以預(yù)定的程度運(yùn)動(dòng)而不會(huì)在聚焦方向上移動(dòng)，這是因?yàn)檫@兩個(gè)力相互間抵消。在這種結(jié)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)中，產(chǎn)生了圍繞光學(xué)記錄媒體的徑向的力矩。
對(duì)于聚焦線圈61a和61b來(lái)說(shuō)，雖然側(cè)面B和側(cè)面D中的任一側(cè)面部分地包括于中性區(qū)域n內(nèi)，由于就方向和大小而言與產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面B上任意點(diǎn)處的力幾乎相同的力產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面D的對(duì)應(yīng)點(diǎn)處，并且就方向和大小而言與產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面D上任意點(diǎn)處的力幾乎相同的力產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面B的對(duì)應(yīng)點(diǎn)處，因此不會(huì)產(chǎn)生多余的力矩。
當(dāng)聚焦線圈61a通過(guò)聚焦驅(qū)動(dòng)而在垂直方向上運(yùn)動(dòng)并因此聚焦線圈61a的包括于中性區(qū)域n內(nèi)的側(cè)面B和側(cè)面D的面積發(fā)生變化時(shí)，側(cè)面B和側(cè)面D上的驅(qū)動(dòng)力分布相互不同，因此就產(chǎn)生了力矩。然而，聚焦線圈61b的包括于中性區(qū)域n內(nèi)的側(cè)面B和側(cè)面D的面積也發(fā)生變化，因而產(chǎn)生了用于抵消上述力矩的力矩，并且不會(huì)產(chǎn)生圍繞著由箭頭V所示方向的旋轉(zhuǎn)分量。
根據(jù)此實(shí)施例，可以實(shí)現(xiàn)能減小可動(dòng)部分100在聚焦方向上的厚度以及在尋跡方向上的厚度的光學(xué)頭裝置。[第三實(shí)施例]之后將參考圖6A和6B來(lái)介紹根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的光學(xué)頭裝置。根據(jù)此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元與根據(jù)第一實(shí)施例的圖1所示的結(jié)構(gòu)類似，然而線圈單元60a和60b以及磁體50a和50b的結(jié)構(gòu)不同。圖6顯示了根據(jù)此實(shí)施例的光學(xué)頭裝置中的磁體50a和50b的磁化區(qū)域、聚焦線圈61a和61b以及尋跡線圈62a和63a之間的位置關(guān)系。
此實(shí)施例中的線圈單元60例如纏繞成矩形形狀，串聯(lián)相接的聚焦線圈61a和61b分別固定在鏡頭托架20的兩個(gè)側(cè)面S1和S2上。聚焦線圈61a和61b纏繞成在被激勵(lì)時(shí)可在聚焦方向上產(chǎn)生基本上相同的力。在線圈單元60中，尋跡線圈62a和63a分別固定在兩個(gè)與鏡頭托架20的側(cè)面S1和S2不同的側(cè)面上。尋跡線圈62a和尋跡線圈63a串聯(lián)相接。尋跡線圈62a和63a纏繞成在被激勵(lì)時(shí)可在尋跡方向上產(chǎn)生基本上相同的力。
基本上為矩形實(shí)心體的磁體50a被雙極化成兩個(gè)由假想線51a所示的L形區(qū)域，假想線51a表示磁邊界。在此示例中，朝向聚焦線圈61a的下方L形區(qū)域(圖6A中的下側(cè))被磁化成南極，而朝向聚焦線圈61a的上方L形區(qū)域被磁化成北極。
基本上為矩形實(shí)心體的磁體50b被雙極化成兩個(gè)由假想線51b所示的L形區(qū)域，假想線51b表示磁邊界。在此示例中，朝向聚焦線圈61b的下方L形區(qū)域被磁化成北極，而朝向聚焦線圈61b的上方L形區(qū)域被磁化成南極。當(dāng)磁體50a圍繞著圖1中箭頭V的方向和與圖1中光軸方向正交的方向旋轉(zhuǎn)180度時(shí)，磁體50a就與磁體50b處于相同的磁化狀態(tài)。
圖6A顯示了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架20時(shí)的磁體50a和線圈單元60之間的位置關(guān)系。在圖6A中，磁體50a相對(duì)于線圈單元60位于近側(cè)。聚焦線圈61a纏繞成矩形形狀。
矩形聚焦線圈61a的四個(gè)側(cè)面假想地分成區(qū)域A，B，C和D，如圖6A所示。聚焦線圈61a的側(cè)面B處于朝向磁體50a的南極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向北極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。聚焦線圈61a的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在從北極和南極上穿過(guò)的位置處。
圖6B顯示了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向觀看鏡頭托架20時(shí)的磁體50b和線圈單元60之間的位置關(guān)系。在圖6B中，磁體50b相對(duì)于線圈單元60位于遠(yuǎn)側(cè)。如圖6B所示，聚焦線圈61b纏繞成矩形形狀。
聚焦線圈61b的側(cè)面B處于朝向磁體50b的北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與側(cè)面B相對(duì)的側(cè)面D處于朝向南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。聚焦線圈61b的側(cè)面A和側(cè)面C設(shè)置在從磁體50b的北極和南極上穿過(guò)的位置處。
尋跡線圈62a的一個(gè)側(cè)面設(shè)置在朝向磁體50a的南極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。與上述側(cè)面相對(duì)的另一側(cè)面處于朝向磁體50b的南極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。
尋跡線圈63a的一個(gè)側(cè)面設(shè)置在朝向磁體50a的北極的位置，因此磁通量沿著從近側(cè)到圖幅表面的方向穿過(guò)(如圖中的十字所示)。與上述側(cè)面相對(duì)的另一側(cè)面處于朝向磁體50b的北極的位置，因此磁通量沿著從圖幅表面到近側(cè)的方向穿過(guò)(如圖中的雙圓所示)。
當(dāng)具有上述結(jié)構(gòu)的物鏡驅(qū)動(dòng)單元的光學(xué)頭裝置的線圈表面設(shè)置成與光盤(pán)的徑向基本上平行并且線圈單元60中的聚焦線圈61a和61b以及尋跡線圈62a和63a被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了作用在線圈上的根據(jù)弗來(lái)明左手定則的力，因此鏡頭托架20可在所需方向上運(yùn)動(dòng)。當(dāng)聚焦線圈61a和61b被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面B和側(cè)面D在聚焦方向(圖6A和6B中的垂直方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力，當(dāng)尋跡線圈62a和63a被激勵(lì)時(shí)，產(chǎn)生了用于使側(cè)面B和側(cè)面D在尋跡方向(圖6A和6B中的水平方向)上運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力。
例如如圖6A和6B所示，當(dāng)電流沿箭頭if所示的方向流經(jīng)聚焦線圈61a和61b時(shí)，產(chǎn)生了在圖中指向上方的力Ff。因此，物鏡10可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的波動(dòng)而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)聚焦線圈61a和61b使物鏡10在基本上垂直于光盤(pán)的信息記錄面的方向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)聚焦位置。
如圖6A和6B所示，當(dāng)電流在尋跡線圈62a和63a中沿箭頭it所示的方向流動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生了在圖中向右作用的力Ft。因此，物鏡10可對(duì)應(yīng)于光盤(pán)表面的偏心而運(yùn)動(dòng)。例如，可通過(guò)尋跡線圈62a和63a使物鏡10在光盤(pán)的徑向上運(yùn)動(dòng)，從而調(diào)節(jié)尋跡位置。
下面將在具有根據(jù)此實(shí)施例所述結(jié)構(gòu)的光學(xué)頭裝置的物鏡驅(qū)動(dòng)單元中來(lái)介紹在聚焦線圈61a和61b的任一側(cè)面的一部分包括于中性區(qū)域n內(nèi)的情況下的驅(qū)動(dòng)作用，其中中性區(qū)域n形成于磁邊界51a和51b的附近。在圖6A和6B中，點(diǎn)G表示可動(dòng)部分100的重心?？蓜?dòng)部分100的重心位于線圈單元60的大致中心位置處。
如圖6A所示，聚焦線圈61a的側(cè)面A的下部和側(cè)面C的上部包括于磁體50a的磁邊界51a附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，當(dāng)例如通過(guò)激勵(lì)聚焦線圈61a和61b來(lái)將可動(dòng)部分100朝向圖6中的上方移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面A的下部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向左作用力小于產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面C的下部處的向右作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向右的作用力。類似地，產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面C的上部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向左作用力小于產(chǎn)生于聚焦線圈61a的側(cè)面A的上部處的向右作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向右的作用力。因此在圖6A和6B中，當(dāng)聚焦線圈61a被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向右作用力以及用于使鏡頭托架20向上移動(dòng)的力。這樣就在聚焦線圈61a上產(chǎn)生了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向看去時(shí)用于使鏡頭托架20向右移動(dòng)的多余的驅(qū)動(dòng)力Fe1。
另一方面，如圖6B所示，聚焦線圈61b的側(cè)面A的上部和側(cè)面C的下部包括于磁體50b的磁邊界51b附近的中性區(qū)域n內(nèi)。因此，當(dāng)例如通過(guò)激勵(lì)聚焦線圈61a和61b來(lái)將可動(dòng)部分100朝向圖6中的上方移動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面A的上部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向右作用力小于產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面C的上部處的向左作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向左的作用力。類似地，產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面C的下部(包括在中性區(qū)域n內(nèi))處的向右作用力小于產(chǎn)生于聚焦線圈61b的側(cè)面A的下部處的向左作用力，這樣就產(chǎn)生了相對(duì)向左的作用力。因此在圖6A和6B中，當(dāng)聚焦線圈61b被激勵(lì)時(shí)，就產(chǎn)生了向左作用力以及用于使鏡頭托架向上移動(dòng)的力。這樣就在聚焦線圈61b上產(chǎn)生了當(dāng)從圖1中箭頭V所示方向看去時(shí)用于使鏡頭托架20向左移動(dòng)的多余的驅(qū)動(dòng)力Fe2。
在此實(shí)施例中，由于磁體50a的和線圈單元60a相對(duì)的表面上的磁化圖案與磁體50b的和線圈單元60b相對(duì)的表面上的磁化圖案處于相反的方向，因此，尋跡線圈62a和63a的側(cè)面B和側(cè)面D的包括于中性區(qū)域n內(nèi)的部分(或者是鄰近中性區(qū)域n的部分)在水平方向上鏡像地相對(duì)。
由于聚焦線圈61a和61b相互間產(chǎn)生幾乎相同的驅(qū)動(dòng)力，聚焦線圈61a處所產(chǎn)生的多余驅(qū)動(dòng)力的方向與聚焦線圈61b處所產(chǎn)生的多余驅(qū)動(dòng)力的方向相反，但大小基本上相同。因此，可動(dòng)部分100能夠只在聚焦方向上以預(yù)定的程度運(yùn)動(dòng)而不會(huì)在尋跡方向上移動(dòng)，這是因?yàn)檫@兩個(gè)力相互間抵消。在這種結(jié)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)中，產(chǎn)生了圍繞物鏡光軸的力矩。
對(duì)于尋跡線圈62a和63a來(lái)說(shuō)，雖然側(cè)面中的一部分包括于中性區(qū)域n內(nèi)，由于就方向和大小而言與產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面上任意點(diǎn)處的力幾乎相同的力產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面上的對(duì)應(yīng)點(diǎn)處，并且就方向和大小而言與產(chǎn)生于尋跡線圈62a的側(cè)面上任意點(diǎn)處的力幾乎相同的力產(chǎn)生于尋跡線圈63a的側(cè)面的對(duì)應(yīng)點(diǎn)處，因此不會(huì)產(chǎn)生多余的力矩。
當(dāng)尋跡線圈62a通過(guò)尋跡驅(qū)動(dòng)而在水平方向上運(yùn)動(dòng)并因此尋跡線圈62a的包括于中性區(qū)域n內(nèi)的面積發(fā)生變化時(shí)，驅(qū)動(dòng)力分布相互不同，因此就產(chǎn)生了力矩。然而，尋跡線圈63a的包括于中性區(qū)域n內(nèi)的面積也發(fā)生變化，因而產(chǎn)生了用于抵消上述力矩的力矩，并且不會(huì)產(chǎn)生圍繞著由箭頭V所示方向的旋轉(zhuǎn)分量。
根據(jù)此實(shí)施例，可以實(shí)現(xiàn)能減小可動(dòng)部分100在聚焦方向上的厚度以及在尋跡方向上的厚度的光學(xué)頭裝置。
圖7顯示了包括有根據(jù)上述實(shí)施例的光學(xué)頭裝置110的光學(xué)再現(xiàn)設(shè)備150的大致結(jié)構(gòu)。光學(xué)再現(xiàn)設(shè)備150包括用于使如圖7所示的光學(xué)記錄媒體160旋轉(zhuǎn)的主軸電動(dòng)機(jī)152、用于將光束照射在光學(xué)記錄媒體160上并用于接收反射光束的光學(xué)頭裝置110、用于控制主軸電動(dòng)機(jī)152和光學(xué)頭裝置110的控制器154、用于為光學(xué)頭裝置110提供激光驅(qū)動(dòng)信號(hào)的激光驅(qū)動(dòng)電路155，以及用于為光學(xué)頭裝置110提供鏡頭驅(qū)動(dòng)信號(hào)的鏡頭驅(qū)動(dòng)電路156。
控制器154包括聚焦伺服跟蹤電路157、尋跡伺服跟蹤電路158和激光控制電路159。當(dāng)觸發(fā)聚焦伺服跟蹤電路157時(shí)，激光束聚焦在旋轉(zhuǎn)光學(xué)記錄媒體160的記錄表面上。相反，當(dāng)觸發(fā)尋跡伺服跟蹤電路158時(shí)，激光束的光點(diǎn)自動(dòng)地跟蹤光學(xué)記錄媒體160上的偏心信號(hào)紋跡。聚焦伺服跟蹤電路157和尋跡伺服跟蹤電路158分別設(shè)有用于自動(dòng)地調(diào)節(jié)聚焦增益的自動(dòng)增益控制功能單元和用于自動(dòng)地調(diào)節(jié)尋跡增益的自動(dòng)增益控制功能單元。激光控制電路159是用于產(chǎn)生激光驅(qū)動(dòng)信號(hào)的電路，激光驅(qū)動(dòng)信號(hào)由激光驅(qū)動(dòng)電路155提供，用于根據(jù)記錄在光學(xué)記錄媒體160上的記錄條件設(shè)定信息來(lái)產(chǎn)生適當(dāng)?shù)募す怛?qū)動(dòng)信號(hào)。
聚焦伺服跟蹤電路157、尋跡伺服跟蹤電路158和激光控制電路159并不必集成于控制器154內(nèi)，它們可以是與控制器154分開(kāi)的部件。另外，它們并不必具有物理性電路，也可以是設(shè)置在控制器154內(nèi)的軟件。光學(xué)再現(xiàn)設(shè)備150可集成在設(shè)有記錄功能單元的光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置中，或者可以是并未設(shè)有記錄功能單元的再現(xiàn)專用設(shè)備。
本發(fā)明并不限于上述實(shí)施例，并可以多種方式進(jìn)行改進(jìn)。
例如，在上述實(shí)施例中已經(jīng)介紹了包括有聚焦線圈61a和61b以及尋跡線圈62a，62b，63a和63b的線圈單元60a和60b。然而本發(fā)明并不限于此，也可采用包括有線圈單元60a和60b中的傾斜線圈的結(jié)構(gòu)。傾斜線圈可安裝在鏡頭托架20的側(cè)表面上。另外，本發(fā)明可應(yīng)用在包括有以聚焦線圈和尋跡線圈也能進(jìn)行傾斜操作的方式構(gòu)造的線圈單元的光學(xué)頭裝置中。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，即使當(dāng)用于驅(qū)動(dòng)物鏡的線圈包括在磁邊界附近的中性區(qū)域n內(nèi)，物鏡也可運(yùn)動(dòng)到預(yù)定的位置。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)頭裝置，包括具有安裝在其上的物鏡的鏡頭托架；第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在所述鏡頭托架的一個(gè)側(cè)面上的第一驅(qū)動(dòng)線圈的第一線圈單元，和朝向所述第一線圈單元的第一磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力，以及與所述所需驅(qū)動(dòng)力不同的另一驅(qū)動(dòng)力或基于所述不同驅(qū)動(dòng)力的力矩；以及第二驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在所述鏡頭托架的與所述側(cè)面相對(duì)的另一側(cè)面上的第二驅(qū)動(dòng)線圈的第二線圈單元，和朝向所述第二線圈單元的第二磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力，以及用于抵消產(chǎn)生于所述第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元處的所述不同驅(qū)動(dòng)力或所述力矩的驅(qū)動(dòng)力或力矩。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于，所述第一和第二驅(qū)動(dòng)線圈為尋跡線圈，所述不同驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生在聚焦方向上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于，所述第一和第二驅(qū)動(dòng)線圈為聚焦線圈，所述不同驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生在尋跡方向上。
4.一種光學(xué)頭裝置，包括具有安裝在其上的物鏡的鏡頭托架；第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在所述鏡頭托架的一個(gè)側(cè)面上的第一驅(qū)動(dòng)線圈的第一線圈單元，和朝向所述第一線圈單元的第一磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力以及因所述第一驅(qū)動(dòng)線圈的驅(qū)動(dòng)力分布不同而產(chǎn)生的力矩；以及第二驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在所述鏡頭托架的與所述側(cè)面相對(duì)的另一側(cè)面上的第二驅(qū)動(dòng)線圈的第二線圈單元，和朝向所述第二線圈單元的第二磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力以及用于抵消產(chǎn)生于所述第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元處的所述力矩的力矩。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于，所述第一和第二驅(qū)動(dòng)線圈為聚焦線圈或?qū)ほE線圈。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于，所述第一驅(qū)動(dòng)線圈部分地位于所述第一磁體的相對(duì)表面上的磁邊界的附近，所述第二驅(qū)動(dòng)線圈部分地位于所述第二磁體的相對(duì)表面上的磁邊界的附近。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于，所述第一磁體的與所述第一驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第一磁極的下凹區(qū)域以及磁化成第二磁極并安裝于所述下凹區(qū)域中的突出區(qū)域，和所述第二磁體的與所述第二驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第二磁極并處于與所述第一磁體的下凹區(qū)域相反方向上的下凹區(qū)域以及磁化成第一磁極并安裝于所述下凹區(qū)域中的突出區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于，所述第一磁體的與所述第一驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第一磁極的L形區(qū)域以及磁化成第二磁極的倒L形區(qū)域，和所述第二磁體的與所述第二驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第一和第二磁極中的一個(gè)磁極的L形區(qū)域以及磁化成另一磁極的倒L形區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于，所述第一驅(qū)動(dòng)線圈部分地位于所述第一磁體的相對(duì)表面上的磁邊界的附近，所述第二驅(qū)動(dòng)線圈部分地位于所述第二磁體的相對(duì)表面上的磁邊界的附近。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于，所述第一磁體的與所述第一驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第一磁極的下凹區(qū)域以及磁化成第二磁極并安裝于所述下凹區(qū)域中的突出區(qū)域，和所述第二磁體的與所述第二驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第二磁極并處于與所述第一磁體的下凹區(qū)域相反方向上的下凹區(qū)域以及磁化成第一磁極并安裝于所述下凹區(qū)域中的突出區(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)頭裝置，其特征在于，所述第一磁體的與所述第一驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第一磁極的L形區(qū)域以及磁化成第二磁極的倒L形區(qū)域，和所述第二磁體的與所述第二驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)的表面包括磁化成第一和第二磁極中的一個(gè)磁極的L形區(qū)域以及磁化成另一磁極的倒L形區(qū)域。
12.一種包括有光學(xué)頭裝置的光學(xué)再現(xiàn)設(shè)備，所述光學(xué)頭裝置包括具有安裝在其上的物鏡的鏡頭托架；第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在所述鏡頭托架的一個(gè)側(cè)面上的第一驅(qū)動(dòng)線圈的第一線圈單元，和朝向所述第一線圈單元的第一磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力，以及與所述所需驅(qū)動(dòng)力不同的另一驅(qū)動(dòng)力或基于所述不同驅(qū)動(dòng)力的力矩；以及第二驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在所述鏡頭托架的與所述側(cè)面相對(duì)的另一側(cè)面上的第二驅(qū)動(dòng)線圈的第二線圈單元，和朝向所述第二線圈單元的第二磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力，以及用于抵消產(chǎn)生于所述第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元處的所述不同驅(qū)動(dòng)力或所述力矩的驅(qū)動(dòng)力或力矩。
13.一種包括有光學(xué)頭裝置的光學(xué)再現(xiàn)設(shè)備，所述光學(xué)頭裝置包括具有安裝在其上的物鏡的鏡頭托架；第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在所述鏡頭托架的一個(gè)側(cè)面上的第一驅(qū)動(dòng)線圈的第一線圈單元，和朝向所述第一線圈單元的第一磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力以及因所述第一驅(qū)動(dòng)線圈的驅(qū)動(dòng)力分布不同而產(chǎn)生的力矩；以及第二驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，包括具有夾持在所述鏡頭托架的與所述側(cè)面相對(duì)的另一側(cè)面上的第二驅(qū)動(dòng)線圈的第二線圈單元，和朝向所述第二線圈單元的第二磁體，其可產(chǎn)生所需的驅(qū)動(dòng)力以及用于抵消產(chǎn)生于所述第一驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元處的所述力矩的力矩。
全文摘要
一種用于光盤(pán)設(shè)備的光學(xué)頭裝置，其可用于通過(guò)將光點(diǎn)照射在光學(xué)記錄媒體的信息記錄面上來(lái)光學(xué)式地讀取和寫(xiě)入信息，此光學(xué)頭裝置能夠?qū)⑽镧R移動(dòng)到預(yù)定的位置，即使當(dāng)驅(qū)動(dòng)線圈的一部分包括在磁邊界附近的中性區(qū)域n內(nèi)時(shí)也是如此。設(shè)置了兩個(gè)驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元，其包括分別位于物鏡10的兩側(cè)上并處于光盤(pán)的切向上的兩個(gè)磁體50a和50b，以及設(shè)置在鏡頭托架20上并用于產(chǎn)生作用在磁體50a和50b上的驅(qū)動(dòng)力的線圈單元60a和60b，磁體50a和50b以及線圈單元60a和60b設(shè)置成使得在兩個(gè)驅(qū)動(dòng)力產(chǎn)生單元處的與產(chǎn)生用于尋跡運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力不同的其它驅(qū)動(dòng)力以及力矩相互間抵消。
文檔編號(hào)G11B7/09GK1462031SQ0312398
公開(kāi)日2003年12月17日 申請(qǐng)日期2003年5月30日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月31日
發(fā)明者河野紀(jì)行, 植草伸夫 申請(qǐng)人:Tdk株式會(huì)社