專利名稱：在磁盤驅(qū)動器上完成自伺服寫的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一般說來，本發(fā)明涉及磁盤驅(qū)動器。更確切地說，本發(fā)明涉及為記錄伺服數(shù)據(jù)而向磁盤介質(zhì)執(zhí)行伺服寫操作的方法。
背景技術(shù)：
大多數(shù)磁盤驅(qū)動器，例如硬盤驅(qū)動器，都配有伺服系統(tǒng)。該伺服系統(tǒng)控制磁頭的位置、移動磁頭到盤狀介質(zhì)即數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)的所需磁道上。伺服系統(tǒng)通過記錄在盤狀介質(zhì)的伺服數(shù)據(jù)控制磁頭的位置。
生產(chǎn)磁盤驅(qū)動器的方法包括伺服寫步驟，也就是，記錄伺服數(shù)據(jù)到盤狀介質(zhì)的步驟。執(zhí)行伺服寫步驟的伺服寫方法是已知的。伺服寫方法使用配置在磁盤驅(qū)動器上的磁頭和傳動機(jī)構(gòu)。
近幾年開發(fā)的磁盤驅(qū)動器磁頭，包括一個讀磁頭和一個寫磁頭。兩者都安裝在同一個滑動臂上，相互分離。
寫磁頭向盤狀介質(zhì)上記錄數(shù)據(jù)，讀磁頭從盤狀介質(zhì)上讀取記錄的數(shù)據(jù)。在大多數(shù)情況下，讀磁頭配有一個磁阻元件。
自伺服寫方法使用配置在磁盤驅(qū)動器磁頭上的寫磁頭，從而把伺服數(shù)據(jù)寫到盤狀介質(zhì)上。讀磁頭則讀出寫在盤狀介質(zhì)上的伺服數(shù)據(jù)。
在伺服寫步驟中，必須將伺服數(shù)據(jù)精確地寫在盤狀介質(zhì)規(guī)定的位置上。磁盤驅(qū)動器的磁頭由兩個離散部件組成，即讀磁頭和寫磁頭。兩者之間不可避免地存在著位置偏差。位置偏差對應(yīng)于讀磁頭和寫磁頭各自中心線之間的距離。因此在伺服寫步驟中，必須根據(jù)讀磁頭和寫磁頭位置偏差進(jìn)行磁頭定位控制。
更確切地說，必須測量位置偏差，并且根據(jù)測量的偏差進(jìn)行調(diào)整，以便控制磁頭定位。本發(fā)明提出和開發(fā)了一種方法，使用寫到盤狀介質(zhì)模式的測量結(jié)果。(例如參見日本專利申請書KOKAI公開號8-129732。)這種現(xiàn)有技術(shù)方法使用包含在伺服數(shù)據(jù)中的伺服脈沖模式，從而將測量模式寫到盤狀介質(zhì)上。在該方法中，使用了測量模式，確定了讀磁頭元件中心線與寫磁頭元件一端之間的距離，以及中心線與寫磁頭元件另一端之間的距離。通過這些已經(jīng)確定的距離取平均值而得到與寫磁頭元件中心線的距離，因而計(jì)算得到位置偏差。
本發(fā)明還建議了另外一種現(xiàn)有的技術(shù)方法，該方法使用伺服脈沖模式測量位置偏差。(例如參見日本專利申請書KOKAI公開號10-334428。)在這種方法中，測量偏差的伺服數(shù)據(jù)寫在盤狀介質(zhì)上。從伺服數(shù)據(jù)讀到的位置誤差被作為讀磁頭和寫磁頭之間的位置偏差。
簡單地說，測量偏差的模式僅僅是重復(fù)伺服脈沖模式，每一次重復(fù)對應(yīng)盤狀介質(zhì)的一個磁道。然而，用于磁盤驅(qū)動器上的讀寫磁頭元件之間位置偏差近幾年發(fā)展到對應(yīng)幾個磁道間隔。這是因?yàn)檫@些磁盤驅(qū)動器以高線性記錄密度向盤狀介質(zhì)記錄數(shù)據(jù)。僅僅用自伺服脈沖法測量模式，很難直接、準(zhǔn)確度量讀寫磁頭元件間的位置偏差。除非位置偏差的測量精度很高。否則，自伺服寫步驟根本無法成功地進(jìn)行。
單一的自伺服測量模式的常規(guī)方法幾乎無法直接、準(zhǔn)確地度量讀寫磁頭元件間的位置偏差。因此，要成功地完成自伺服寫步驟，必須使用精確的方法測量讀寫磁頭元件間的位置偏差。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例，本發(fā)明提供了一種自伺服寫方法，在伺服數(shù)據(jù)記錄到磁盤驅(qū)動器中的盤狀介質(zhì)之前，可以測量磁盤驅(qū)動器上讀磁頭元件和寫磁頭元件之間精確位置偏差。
自伺服寫方法包括以下步驟用讀磁頭元件讀取記錄在盤狀介質(zhì)上的定位伺服數(shù)據(jù)；用讀磁頭元件讀取的定位伺服數(shù)據(jù)將寫磁頭元件定位到盤狀介質(zhì)上所期望的磁道上；用寫磁頭元件在期望的磁道上記錄測量伺服數(shù)據(jù)；然后根據(jù)用讀磁頭元件，從盤狀介質(zhì)上讀到的定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)，計(jì)算讀磁頭元件和寫磁頭元件之間的位置偏差。
附圖簡要說明加入說明書中并構(gòu)成其一部分的附圖，展示了本發(fā)明的若干實(shí)施例，連同上面給出的一般說明和下面給出的若干實(shí)施例的詳細(xì)說明，用于講解本發(fā)明的原理。


圖1是一幅框圖，顯示了依據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例磁盤驅(qū)動器和伺服記錄器的主要組成部分；圖2是一幅概略圖，顯示了依據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例寫伺服數(shù)據(jù)的方法；圖3展示了讀磁頭元件和寫磁頭元件之間定位關(guān)系，二者都將在一個實(shí)施例中提供；圖4A至圖4C顯示了讀磁頭元件和寫磁頭元件之間位置偏差的變化情況；圖5顯示了在一個實(shí)施例中，記錄在盤狀介質(zhì)上伺服數(shù)據(jù)的實(shí)例；圖6A和6B顯示了定義讀磁頭元件和寫磁頭元件之間位置偏差一個實(shí)施例；圖7A至7C解釋了在一個實(shí)施例中，寫伺服數(shù)據(jù)的順序；圖8和圖9顯示了在一個實(shí)施例中，測量位置偏差的方法；圖10解釋了在一個實(shí)施例中，測量位置偏差方法的修改；圖11A和11B顯示了修改方法的優(yōu)點(diǎn)；以及圖12是一個流程圖，解釋了依據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例寫自伺服數(shù)據(jù)的順序。
具體實(shí)施例方式
以下參考附圖介紹本發(fā)明實(shí)施例。
(磁盤驅(qū)動器和伺服記錄器)圖1顯示了磁盤驅(qū)動器1和伺服記錄器10，二者依據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例。
磁盤驅(qū)動器1是驅(qū)動器機(jī)械裝置的具體表現(xiàn)。驅(qū)動器機(jī)械裝置包括磁頭2、傳動機(jī)構(gòu)3、音圈電機(jī)(VCM)4、主軸電機(jī)5和盤狀介質(zhì)6。磁頭2安裝在傳動機(jī)構(gòu)3上，盤狀介質(zhì)6安全地安裝在主軸電機(jī)5上。除了驅(qū)動器機(jī)械裝置，磁盤驅(qū)動器1還包括電路單元7。電路單元7包括磁頭放大器集成電路(IC)、讀寫通道、微處理器、磁盤控制器等等。
傳動機(jī)構(gòu)3在音圈電機(jī)4的驅(qū)動下，將沿著盤狀介質(zhì)6的半徑方向移動。在盤狀介質(zhì)6上使磁頭2定位，是由機(jī)械裝置完成的。磁頭由讀磁頭元件和寫磁頭元件組成。寫磁頭元件設(shè)計(jì)為向盤狀介質(zhì)6寫數(shù)據(jù)，而讀磁頭元件設(shè)計(jì)為從盤狀介質(zhì)6讀數(shù)據(jù)。
如圖3所示，磁頭2由安裝在動臂機(jī)構(gòu)20上的讀磁頭元件21和寫磁頭元件22組成，二者相互分離。在大多數(shù)情況下，讀磁頭元件21是磁阻磁頭。寫磁頭元件22是薄膜感應(yīng)磁頭元件。磁頭元件21和磁頭元件22二者相互交錯排列。
圖4A至圖4C顯示了磁頭元件21和磁頭元件22之間位置偏差的變化情況。從圖4A至圖4C可以看出，當(dāng)磁頭在盤狀介質(zhì)6上移動時(shí)，偏差從d1變化到d2，然后變化到d3。
更精確地說，圖4A顯示了當(dāng)磁頭2停留在盤狀介質(zhì)6的內(nèi)部磁道上時(shí)，存在的位置偏差d1。圖4B顯示了當(dāng)磁頭2停留在盤狀介質(zhì)6的中間磁道上時(shí)，存在的位置偏差d2。圖4C顯示了當(dāng)磁頭2停留在盤狀介質(zhì)6的外部磁道上時(shí)，存在的位置偏差d3。
如同任何可以完成自伺服寫方法的磁盤驅(qū)動器一樣，人們期望讀磁頭元件21和寫磁頭元件22，無論在盤狀介質(zhì)6上的什么區(qū)域，呈現(xiàn)相同的位置關(guān)系。換句話說，磁頭元件21和磁頭元件22應(yīng)該如同圖3所示的那種位置(即有一個偏差)。換句話說，讀磁頭元件21應(yīng)該比寫磁頭元件22更靠近盤狀介質(zhì)6的中心。
(自伺服寫方法的要點(diǎn))自伺服寫方法執(zhí)行自伺服寫步驟，是本發(fā)明的一個實(shí)施例。自伺服寫方法通過使用磁盤驅(qū)動器1中的磁頭2和傳動機(jī)械裝置(包括VCM 4)，向盤狀介質(zhì)6記錄伺服數(shù)據(jù)。
伺服記錄器10由CPU 100及電路單元110組成。CPU 100(包括軟件)控制磁盤驅(qū)動器1的VCM 4將磁頭2定位到需要的磁道上。CPU 100執(zhí)行自伺服寫控制，包括計(jì)算位置偏差，表現(xiàn)了本發(fā)明的特征。電路單元110有各種電路，一個電路生成將要記錄在盤狀介質(zhì)6上的伺服模式，它與伺服數(shù)據(jù)相對應(yīng)。另外一個電路生成時(shí)鐘信號。
如圖2所示，自伺服寫方法使用磁盤驅(qū)動器的磁頭2的寫磁頭元件22，向盤狀介質(zhì)6上所需的磁道上記錄伺服數(shù)據(jù)(伺服模式)201。該方法使用磁頭2的讀磁頭元件21從介質(zhì)6讀出的伺服數(shù)據(jù)200，將寫磁頭元件22移到盤狀介質(zhì)6上應(yīng)該寫數(shù)據(jù)的位置。
如圖2所示，參考點(diǎn)220是根據(jù)讀磁頭元件21和寫磁頭元件22之間的位置偏差，為讀磁頭元件21設(shè)定的，所以，寫磁頭元件22可以恰好定位到所期望的磁道210。
自伺服記錄器10的CPU 100接收由讀磁頭元件21讀到的伺服數(shù)據(jù)200。根據(jù)伺服數(shù)據(jù)200，CPU 100計(jì)算讀磁頭元件21相對于位置220的位置誤差。根據(jù)位置誤差，CPU 100控制讀磁頭元件21的定位。為了成功的完成自伺服寫方法，必須存儲代表著讀磁頭元件21和寫磁頭元件22之間的位置關(guān)系(位置偏差)的數(shù)據(jù)。
(自伺服寫步驟)圖5展示了在自伺服寫步驟里，寫磁盤驅(qū)動器1盤狀介質(zhì)6上的伺服數(shù)據(jù)500。伺服數(shù)據(jù)500包括伺服脈沖模式(位置誤差模式)502、磁道(柱面)地址碼503、伺服標(biāo)記標(biāo)識504以及空標(biāo)識505。伺服標(biāo)記信號504指示伺服區(qū)域，空信號505用于調(diào)整伺服數(shù)據(jù)寫的記時(shí)。調(diào)整伺服數(shù)據(jù)寫的記時(shí)過程被稱為“統(tǒng)調(diào)”。
由CPU 100控制寫磁頭元件22定位，在磁盤驅(qū)動器1的磁頭2定位在磁道501時(shí)，伺服記錄器10使寫磁頭元件22向磁道501寫伺服數(shù)據(jù)500。此時(shí)，為了使讀磁頭元件21定位，伺服記錄器10根據(jù)讀寫磁頭元件之間的位置偏差所設(shè)定的參考位置510，控制定位磁頭2。
在伺服寫步驟中，伺服脈沖模式的寬度Wb，包含在伺服數(shù)據(jù)500里，它僅僅與磁道的密度有關(guān)，而與寫磁頭元件22的寬度無關(guān)。換句話說，寫寬度Wb與寫磁頭元件22的步進(jìn)間距一致。伺服數(shù)據(jù)500的邊界不是位于寫磁頭元件22的中心線，而是由部件22中線的一端決定。
因此，當(dāng)寫磁頭元件22根據(jù)讀寫磁頭元件之間的位置偏差調(diào)節(jié)定位時(shí)，伺服記錄器10在磁道501里寫伺服數(shù)據(jù)500。
自伺服寫步驟期間讀寫磁頭元件之間的位置偏差，可以參考圖6A-6B定義。
圖6A顯示了讀寫磁頭元件之間有位置偏差Wn，要實(shí)現(xiàn)磁盤驅(qū)動器1常規(guī)的讀寫操作，應(yīng)該考慮這些偏差。
在常規(guī)讀寫操作里，位置偏差可以使得讀磁頭元件21從磁盤上讀取用戶數(shù)據(jù)。這個位置偏差，對應(yīng)于讀磁頭元件21中心線和寫磁頭元件22中心線之間的距離。該距離被定義為讀寫磁頭元件之間的位置偏差Wn。
在自伺服寫步驟里，讀寫磁頭元件之間的位置偏差Ws是根據(jù)伺服脈沖模式(即寫磁頭元件22的步進(jìn)間距)的寫寬度Wb設(shè)置的，從圖6B可以理解它的原理。更具體地，位置偏差Ws定義為一個特定點(diǎn)到讀磁頭元件21間的距離，該特定點(diǎn)位于寫磁頭元件22到預(yù)先定義的距離(Wb/2)處。
通常，自伺服寫步驟里考慮的位置偏差Ws，不同于用磁盤驅(qū)動器1完成常規(guī)讀寫操作應(yīng)該考慮到的位置偏差Ws。
(自伺服寫方法的順序)根據(jù)本實(shí)施實(shí)例的自伺服寫方法，讀磁頭元件21從介質(zhì)6讀到的伺服數(shù)據(jù)，寫磁頭元件22根據(jù)該伺服數(shù)據(jù)定位。與此同時(shí)，寫磁頭元件22向盤狀介質(zhì)6寫另外的伺服數(shù)據(jù)。為完成此步驟，有兩項(xiàng)伺服數(shù)據(jù)被記錄到盤狀介質(zhì)6上。
更確切地，一項(xiàng)伺服數(shù)據(jù)(一般伺服數(shù)據(jù))被用于完成常規(guī)的讀/寫操作，另一項(xiàng)伺服數(shù)據(jù)用于測量讀寫磁頭元件之間的位置偏差。測量伺服數(shù)據(jù)的格式和用于定位磁頭2的伺服數(shù)據(jù)格式相同。
使用兩項(xiàng)伺服數(shù)據(jù)的自伺服寫步驟順序，將主要參照圖12的流程圖進(jìn)行解釋。
當(dāng)輔助伺服模式被記錄到磁盤驅(qū)動器1的盤狀介質(zhì)6上，更具體地，輔助伺服模式被記錄到一些最里和最外的磁道(至少一個磁道)。伺服記錄器10使讀磁頭元件21讀取輔助伺服模式。根據(jù)讀到的輔助伺服模式，伺服記錄器10驅(qū)動了VCM 4，VCM 4再使得傳動機(jī)構(gòu)3旋轉(zhuǎn)。傳動機(jī)構(gòu)3帶動寫磁頭元件22到第一個要寫伺服數(shù)據(jù)的磁道。因此，定位后的寫磁頭元件22在該磁道記錄第一個伺服數(shù)據(jù)(即磁頭定位伺服數(shù)據(jù))。
下一步，伺服記錄器10使讀磁頭元件21讀取伺服數(shù)據(jù)，即已經(jīng)記錄的伺服數(shù)據(jù)。根據(jù)定位伺服數(shù)據(jù)，伺服記錄器10將寫磁頭元件22定位到第一個磁道上，以便在此處寫伺服數(shù)據(jù)(步驟S1和S2)。伺服記錄器10使寫磁頭元件22在第一個磁道上記錄伺服數(shù)據(jù)(步驟S3)。此時(shí)寫磁頭元件22記錄伺服數(shù)據(jù)是測量伺服數(shù)據(jù)，它們與定位伺服數(shù)據(jù)有相同的格式。這些測量伺服數(shù)據(jù)是某個位置定位伺服數(shù)據(jù)的復(fù)本，該位置是根據(jù)磁頭元件21和22間的位置偏差設(shè)定的。
定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)，都記錄在盤狀介質(zhì)6上，在伺服寫操作里，伺服記錄器10根據(jù)這些數(shù)據(jù)確定磁頭元件21和22間的位置偏差(步驟S4)。隨后，伺服記錄器10使寫磁頭元件22向盤狀介質(zhì)6上記錄伺服數(shù)據(jù)(包括定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù))，與此同時(shí)，根據(jù)磁頭元件21和22間的位置偏差控制磁頭2的定位(步驟S5)。
當(dāng)自伺服寫完成后，伺服記錄器10從盤狀介質(zhì)6上擦掉了測量伺服數(shù)據(jù)(包括輔助伺服模式)(步驟S6)。結(jié)果，只有定位伺服數(shù)據(jù)保留在盤狀介質(zhì)6上。定位伺服數(shù)據(jù)是常規(guī)的伺服數(shù)據(jù)，磁盤驅(qū)動器1用其來完成常規(guī)的讀/寫操作。
圖7A至7C顯示了使用兩個伺服數(shù)據(jù)項(xiàng)自伺服寫的方法，即該方法使用伺服數(shù)據(jù)(T)和伺服數(shù)據(jù)(M)來控制磁頭2的定位。伺服數(shù)據(jù)(T)，例如，對應(yīng)于定位伺服數(shù)據(jù)，而伺服數(shù)據(jù)(M)對應(yīng)于測量伺服數(shù)據(jù)。如圖7B所示，讀磁頭元件21與定位伺服數(shù)據(jù)(T)一致，寫磁頭元件22除了寫伺服數(shù)據(jù)(T)，還寫伺服數(shù)據(jù)(M)。
另外，讀磁頭元件21也可以與定位伺服數(shù)據(jù)(M)一致，寫磁頭元件22除了寫伺服數(shù)據(jù)(M)，還寫伺服數(shù)據(jù)(T)。正如圖7C所示。
(在磁頭元件之間測量位置偏差)圖8解釋了在本實(shí)施例里，如何在自伺服寫步驟中測量位置偏差Ws。
伺服記錄器10使用已經(jīng)記錄在介質(zhì)6的伺服數(shù)據(jù)803(例如，定位伺服數(shù)據(jù))，在預(yù)先確定好的位置上移動讀磁頭元件21。用此方法定位磁頭元件21，伺服記錄器10為讀磁頭元件21設(shè)定參考點(diǎn)801，而不顧讀寫磁頭元件之間的位置偏差。
圖8顯示的距離802，是上述描述的特定點(diǎn)和寫磁頭元件22之間事先確定的距離(Wb/2)。伺服記錄器10使寫磁頭元件22寫入(復(fù)制)讀磁頭元件21讀取的伺服數(shù)據(jù)803。此數(shù)據(jù)用于測量伺服數(shù)據(jù)804。如上述所示，測量伺服數(shù)據(jù)804與定位伺服數(shù)據(jù)803格式相同，并且以定位伺服數(shù)據(jù)803同樣的方式寫到磁盤上的。
因此，寫到磁盤上的測量伺服數(shù)據(jù)804，到寫到磁盤上的定位伺服數(shù)據(jù)803點(diǎn)的距離等于位置偏差Ws。數(shù)據(jù)803和數(shù)據(jù)804個自含有伺服標(biāo)記。經(jīng)過伺服記錄器10的一個處理，包含在數(shù)據(jù)項(xiàng)803和數(shù)據(jù)項(xiàng)804中的伺服標(biāo)記便各不相同。因此，參考伺服標(biāo)記，就可以區(qū)別定位伺服數(shù)據(jù)803和測量伺服數(shù)據(jù)804。
測量伺服數(shù)據(jù)804格式上與定位伺服數(shù)據(jù)803是一致的。因此，不需要一個電路對伺服數(shù)據(jù)解碼。由于含有一個柱面碼，所以能夠可靠地探測到測量伺服數(shù)據(jù)804，盡管磁頭元件21和22的位置偏差Ws跨越了幾個磁道。
參考圖9，將詳細(xì)地描述從測量伺服數(shù)據(jù)804測量位置偏差Ws的方法。
伺服記錄器10驅(qū)動VCM 4，根據(jù)讀磁頭元件21讀到的定位伺服數(shù)據(jù)803移動讀磁頭元件21(到參考位置801)。與此同時(shí)，伺服記錄器10使讀磁頭元件21讀取測量伺服數(shù)據(jù)804。注意，從測量伺服數(shù)據(jù)804讀到的定位誤差數(shù)據(jù)(即伺服脈沖模式)是不同于定位伺服數(shù)據(jù)803的。
讀寫磁頭元件間的位置偏差Ws由下式給出Ws＝PESd-PESt(1)式中PESt是從定位伺服數(shù)據(jù)803讀到的定位誤差數(shù)據(jù)，PESd是從測量伺服數(shù)據(jù)804讀到的定位誤差數(shù)據(jù)。
因此，伺服記錄器10可以精確地測量偏差，該偏差需要控制定位寫磁頭元件22的偏差，它是從在自伺服寫步驟里，從公式(1)計(jì)算出得定位偏差Ws得到的。
為了消除探測到的誤差，最好能夠找到從寫在盤狀介質(zhì)6的磁道的每個各個伺服數(shù)據(jù)，得到的定位誤差平均值，然后從定位誤差平均值計(jì)算位置偏差Ws。
(定位偏差方法的修改)圖10解釋了本發(fā)明的一個實(shí)施例，如何在讀寫磁頭之間進(jìn)行定位偏差方法的修改。修改的方法，根據(jù)之前測量的偏移距，在定位偏差被調(diào)節(jié)之后，使用測量伺服數(shù)據(jù)。
為了更精確地?cái)⑹?，伺服記錄?0根據(jù)已經(jīng)確定的偏差Ws，調(diào)整定位偏差，然后移動讀磁頭元件21到定位伺服數(shù)據(jù)1003對應(yīng)的位置上。由此定位后的讀磁頭元件21讀取測量伺服數(shù)據(jù)1004。
在這種情況下，定位偏差We由下式給出。
We＝PESd-PESt (2)式中PESt是從定位伺服數(shù)據(jù)1003讀到的定位誤差數(shù)據(jù)，PESd是從測量伺服數(shù)據(jù)1004讀到的定位誤差數(shù)據(jù)。
定位偏差We是已經(jīng)得到的定位偏差Ws和讀寫磁頭元件間的實(shí)際距離之間的偏差。因此，讀寫磁頭元件間的正常位置偏差Wt由下式給定。
Wt＝Ws-We (3)在修改的方法中，伺服記錄器10可以根據(jù)已經(jīng)得到的定位偏差Ws，和讀寫磁頭元件間的實(shí)際距離之間的偏差We更新正常位置偏差Wt。也就是說，伺服記錄器10可以更新正常位置偏差Wt，同時(shí)在自伺服寫步驟中，在盤狀介質(zhì)6上移動。為了有效地更新(或者說調(diào)整)磁頭2的定位偏差，讀磁頭元件21移動的距離必須等于或大于讀寫磁頭間的位置偏差Ws。
如上所述，在測量位置的修改方法中，當(dāng)磁頭2移動時(shí)，可以更新讀寫磁頭間的位置偏差。這種方法說明了，有可能用和磁道密度一致的高精度記錄伺服數(shù)據(jù)。
圖11A顯示了當(dāng)根據(jù)測量位置偏差Ws調(diào)整實(shí)際位置偏差時(shí)，柱面號和磁道間距之間的關(guān)系。磁道間距的參考值是1，實(shí)際的磁道間距期望落在該參考值上下一個窄的范圍。圖11B顯示了當(dāng)根本沒有調(diào)整實(shí)際位置偏差時(shí)，柱面號和磁道間距之間的關(guān)系。圖11A和圖11B都顯示了試驗(yàn)的結(jié)果，在這個結(jié)果中，伺服數(shù)據(jù)除了寫在常規(guī)磁道間距里，還用自伺服寫方法記錄。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，使用兩項(xiàng)伺服數(shù)據(jù)，即定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)。由此，也反復(fù)地測量與更新讀寫磁頭間的位置偏差。換句話說，根據(jù)測量的位置偏差對偏差進(jìn)行調(diào)整，因此，可以用高精度定位寫磁頭元件22。因而可以在保持高密度的同時(shí)，寫高精度的伺服數(shù)據(jù)。
正如以上的詳細(xì)描述，在自伺服寫步驟中，本發(fā)明的實(shí)施實(shí)例可以測量磁盤驅(qū)動器讀寫磁頭元件間的位置偏差。結(jié)果，實(shí)施例可以在盤狀介質(zhì)上寫高精度的伺服數(shù)據(jù)。
對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員，很容易實(shí)現(xiàn)其它的優(yōu)點(diǎn)和修改。所以本發(fā)明的更廣泛方面的內(nèi)容不限于本文中展示和介紹的特定細(xì)節(jié)和代表性實(shí)施例。因此，在等效的情況下，可以進(jìn)行多種修改而不脫離附帶的權(quán)利要求書定義的總的發(fā)明構(gòu)思的實(shí)質(zhì)和范圍。
權(quán)利要求
1.一種磁盤驅(qū)動器中的自伺服寫的方法，該磁盤驅(qū)動器有一個磁頭和一個盤狀介質(zhì)，磁頭有一個讀磁頭元件和一個寫磁頭元件，該方法的特征在于包括(a)使用讀磁頭元件讀記錄在盤狀介質(zhì)上的定位伺服數(shù)據(jù)(S1)；(b)使用讀磁頭元件讀出的定位伺服數(shù)據(jù)，在盤狀介質(zhì)上所帶有的期望的磁道上定位寫磁頭元件(S2)；(c)使用寫磁頭元件在期望的磁道上記錄測量伺服數(shù)據(jù)(S3)；以及(d)從定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)，計(jì)算讀磁頭元件和寫磁頭元件間的位置偏差(S4)，定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)都是讀磁頭元件從盤狀介質(zhì)讀出來的。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，在步驟(d)中讀磁頭元件的位移是從定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)測量得到的，二者都是由讀磁頭元件讀到的，位置偏差是從測量到的位移計(jì)算得到的(S4)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于測量伺服數(shù)據(jù)包含所有定位伺服數(shù)據(jù)，和其它與定位伺服數(shù)據(jù)相區(qū)別的數(shù)據(jù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，在步驟(d)中位置偏差是從得到的兩個位置誤差間的差值計(jì)算得到的(S4)，兩個位置誤差分別是定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)，都是從讀磁頭元件中讀到的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，進(jìn)一步包括通過使用用讀磁頭元件讀到的定位伺服數(shù)據(jù)和位置偏差，在盤狀介質(zhì)上移動讀磁頭元件；以及用寫磁頭元件，在盤狀介質(zhì)上所有的數(shù)據(jù)區(qū)中，記錄定位伺服數(shù)據(jù)(S5)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的方法，其特征在于寫磁頭元件，在盤狀介質(zhì)上所有的數(shù)據(jù)區(qū)域中，記錄定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)(S5)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，進(jìn)一步包括用讀磁頭元件讀到的定位伺服數(shù)據(jù)和位置偏差，在盤狀介質(zhì)上，定位寫磁頭元件；以及在寫磁頭元件記錄了盤狀介質(zhì)所有數(shù)據(jù)區(qū)域上的定位伺服數(shù)據(jù)之后，從盤狀介質(zhì)上擦除測量伺服數(shù)據(jù)(S5、S6)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，在步驟(d)中，從定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)，計(jì)算盤狀介質(zhì)上多個位置的定位誤差數(shù)據(jù)項(xiàng)，并且，位置偏差是從定位誤差數(shù)據(jù)項(xiàng)的平均值計(jì)算得到的(S4)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，在步驟(b)中，為了根據(jù)定位伺服數(shù)據(jù)在所需要的磁道上定位寫磁頭元件，使用當(dāng)前定位偏差對偏差進(jìn)行了調(diào)整(S2)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，進(jìn)一步包括將一個位置偏差設(shè)置為正常位置偏差，該位置偏差是由兩種定位誤差數(shù)據(jù)之間的差值獲得的，一種定位誤差數(shù)據(jù)包含在通過調(diào)整該偏差而使讀磁頭元件定位，繼而讀出的定位伺服數(shù)據(jù)中，另一種定位誤差數(shù)據(jù)由測量伺服數(shù)據(jù)和定位伺服數(shù)據(jù)之間的差值獲得。
11.一種自伺服寫裝置，用于磁盤驅(qū)動器(1)中，該磁盤驅(qū)動器有一個磁頭(2)，其中包括一個讀磁頭元件和一個寫磁頭元件，以及一個盤狀介質(zhì)(6)，其特征在于，所述裝置包括一個第一單元(100，110)，該單元使寫磁頭元件向盤狀介質(zhì)(6)上記錄定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)。一個第二單元(100)，該單元使用讀磁頭元件讀到的定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)，從而計(jì)算寫磁頭元件和讀磁頭元件之間的位置偏差。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的裝置，其特征在于第一單元(100，110)使讀磁頭元件讀取在盤狀介質(zhì)(6)上記錄的定位伺服數(shù)據(jù)，根據(jù)定位伺服數(shù)據(jù)，使寫磁頭元件在盤狀介質(zhì)(6)所期望的磁道上定位寫磁頭元件，并且使該寫磁頭元件在所期望的磁道上寫測量伺服數(shù)據(jù)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11的裝置，其特征在于，定位伺服數(shù)據(jù)包含所有的定位伺服數(shù)據(jù)，同時(shí)也含有其它與定位伺服數(shù)據(jù)有區(qū)別的數(shù)據(jù)。
14.根據(jù)權(quán)利要求11的裝置，其特征在于，第一單元(100，110)使用讀磁頭元件讀到的定位伺服數(shù)據(jù)和定位偏差，從而在盤狀介質(zhì)(6)上移動寫磁頭元件，并且使寫磁頭元件在盤狀介質(zhì)(6)上的所有數(shù)據(jù)區(qū)上記錄定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)。
15.根據(jù)權(quán)利要求11的裝置，其特征在于，第一單元(100，110)使用讀磁頭元件讀到的定位伺服數(shù)據(jù)和定位偏差，從而使寫磁頭元件在盤狀介質(zhì)(6)上移動，并且在定位伺服數(shù)據(jù)被記錄到盤狀介質(zhì)(6)的所有數(shù)據(jù)區(qū)域之后，使寫磁頭元件從盤狀介質(zhì)(6)上擦除測量伺服數(shù)據(jù)。
16.一種磁盤驅(qū)動器，其特征在于，包括一個盤狀記錄介質(zhì)(6)；一個磁頭(2)，它有一個讀磁頭元件，一個寫磁頭元件，兩者彼此間隔；一個第一單元(7)，它使得寫磁頭元件在盤狀記錄介質(zhì)(6)上記錄定位伺服數(shù)據(jù)，該定位伺服數(shù)據(jù)被用來定位磁頭(2)；一個第二單元(7)，根據(jù)讀磁頭元件讀出的定位伺服數(shù)據(jù)，在所需要的磁道上定位寫磁頭元件，并導(dǎo)致寫磁頭元件在盤狀記錄介質(zhì)(6)上記錄測量伺服數(shù)據(jù)；以及一個第三單元，它使用讀磁頭元件讀到的定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)，從而計(jì)算讀磁頭元件和寫磁頭元件之間的位置偏差。
17.根據(jù)權(quán)利要求16的磁盤驅(qū)動器，其特征在于，測量伺服數(shù)據(jù)含有所有的定位伺服數(shù)據(jù)，而且還含有區(qū)別于定位伺服數(shù)據(jù)的其它數(shù)據(jù)。
18.根據(jù)權(quán)利要求16的磁盤驅(qū)動器，其特征在于，它還包括一個第四單元(7)，該單元使用讀磁頭元件讀出的定位伺服數(shù)據(jù)和定位偏差，從而在盤狀記錄介質(zhì)(6)上移動寫磁頭元件，該單元還可以使寫磁頭元件在盤狀記錄介質(zhì)(6)上的所有數(shù)據(jù)區(qū)域記錄定位伺服數(shù)據(jù)和測量伺服數(shù)據(jù)。
19.根據(jù)權(quán)利要求16的磁盤驅(qū)動器，其特征在于，它還包括一個第五單元(7)，該單元使用讀磁頭元件讀出的定位伺服數(shù)據(jù)和定位偏差，從而在盤狀記錄介質(zhì)(6)上移動寫磁頭元件，該單元還可以在定位伺服數(shù)據(jù)被記錄到盤狀介質(zhì)(6)上的所有數(shù)據(jù)區(qū)域之后，使寫磁頭元件從盤狀記錄介質(zhì)(6)上擦除測量伺服數(shù)據(jù)。
全文摘要
本文公開了一種自伺服寫的方法，它使用磁盤驅(qū)動器(1)的磁頭(2)，把伺服數(shù)據(jù)寫到盤狀介質(zhì)(6)上。這種方法使用錄制在盤狀介質(zhì)(6)上的定位伺服數(shù)據(jù)與測量伺服數(shù)據(jù)，計(jì)算出磁頭(2)上讀磁頭元件與寫磁頭元件之間的精確位置偏差。
文檔編號G11B21/10GK1460994SQ0312392
公開日2003年12月10日 申請日期2003年5月22日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月22日
發(fā)明者佐渡秀夫 申請人:株式會社東芝