專利名稱：：氣動造型用于磁盤驅動器的浮動塊的方法及氣動浮動塊的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及由氣流支承以在移動表面附近飛起一較小距離的氣動浮動塊，尤其是涉及能使浮動塊上的偏離磁道力作用最小的成形浮動塊。
背景技術：
：磁盤驅動器在可旋轉的可磁化盤表面上存儲數(shù)字數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)由裝載在浮動塊上的讀出和寫入轉換器(通常也稱為“磁頭”)來在磁盤表面的同心磁道上寫入和讀出數(shù)據(jù)。每一浮動塊裝在一柔性懸架上，該柔性懸架由諸如E-塊之類的一致動部件的一致動臂支承。一音圈致動馬達旋轉該致動部件，以沿著定向成大致徑向地橫過磁盤的一弧形路徑移動浮動塊和磁頭。通過沿著旋轉致動部件所形成的浮動塊弧形路徑移動浮動塊，相對所面對的磁盤上的一選定磁道定位磁頭。磁盤以繞其旋轉軸線的一大體圓形的圖案沿著其表面拖曳空氣。浮動塊本體包括一空氣承載表面(ABS)，該空氣承載表面反作用于磁盤在ABS下所拖動的空氣。氣流產生一升力，以抬升浮動塊并使其和磁頭“飛行”于磁盤表面上方。柔性懸架將浮動塊支承向致動臂，并偏壓浮動塊抵抗氣流的升力，以保持浮動塊在靠近磁盤表面處的預定飛行高度。當浮動塊沿著其大致徑向橫穿磁盤的弧形路徑移動時，它的傾斜度相對磁盤上的圓形磁道，在外徑向磁道處的一正定向和內徑向磁道處的一負定向之間變化。圓形氣流大致成磁道切向地遇到浮動塊，這樣，撞擊浮動塊的氣流的方向就隨著浮動塊的傾斜度而變化。因此，對于浮動塊的不同傾斜定向，撞擊浮動塊的氣流是來自不同的方向的。更具體地說，氣流撞擊浮動塊的前導面(邊)和一或者另一側表面(邊)，這要視浮動塊究竟是處在正或者負傾斜定向而定。在零傾斜定向(氣流以90°撞擊前導面)上，從浮動塊上流出的任何渦流都被緊跟的尾隨面捕獲。渦流的圖案通常相對浮動塊對稱。但是，在非零度的傾斜定向(正或者負傾斜)上，流出的渦流的圖案是不對稱的，引起浮動塊上的不對稱的偏離磁道力，這會使浮動塊徑向地移位。如果這些不對稱的偏離磁道力是在懸架的這種結構模態(tài)處，它們就會導致浮動塊和懸架中的徑向振動形式的不可重復的振擺(non-repeatablerunout(NRRO))。當人們更多地需要磁盤數(shù)據(jù)密度增加、性能更高的磁盤驅動器時，就相應地需要增加磁道密度及提高介質速度。增加磁道密度需要減小磁道的寬度以及它們之間橫過磁盤半徑的間距。更窄的磁道、更小的磁道間距以及更大的介質速度都使人們更加需要更為精確的磁道跟蹤技術，尤其是要使影響浮動塊徑向位置的偏離磁道力最小。本發(fā)明提供一種這個及其它問題的解決方案，并且本發(fā)明還具有優(yōu)于現(xiàn)有技術的其它長處。
發(fā)明內容在一個實施例中，一氣動浮動塊具有至少一個在前導與尾隨表面之間連續(xù)彎曲的側表面。該一側表面彎曲成基本消除在所有設計傾斜定向處應作用在該側表面上的偏離磁道力。在另一實施例中，為靠近一移動介質、以與該介質所產生的空氣或其它流體流的方向成不同的傾斜定向飛行的一浮動塊選擇一浮動塊形狀。對一浮動塊的形狀進行建模，并且對浮動塊可能飛行的傾斜定向范圍之內的多個傾斜定向中的每一個定向生成一對所建模形狀上的氣流的數(shù)字模擬?；跀?shù)字模擬對所建模的浮動塊形狀加以調整?；谝唤５母訅K形狀選擇一浮動塊形狀。在較佳的實施例中，對形狀模型進行一振動分析。如果所建模形狀的振動超過一預定的最小值，就基于數(shù)字模擬對形狀進行調整。迭代地重復該過程，直至振動分析表明振動不超過預定的最小值。因此，NRRO不會超出預先選定的磁道位置不正(trackmis-registration(TMR))的限值。在一些實施例中，通過計算該建模浮動塊在懸架的一結構模式下移動的徑向距離來進行振動分析，并且，當移動的距離不超過目標的預定最小值時就實現(xiàn)了最優(yōu)的形狀。在閱讀了下面的詳細描述并參閱相關的附圖后，本發(fā)明的其它特征及優(yōu)點會變得清楚。附圖簡述圖1是一磁盤驅動器的立體圖，可以在該磁盤驅動器中實現(xiàn)本發(fā)明的若干方面。圖2是示出一浮動塊由圖1中所示的磁盤驅動器的一懸架支承的立體圖。圖3和4示出了經過零或非零傾斜定向的一浮動塊的氣流圖案。圖5是根據(jù)本發(fā)明的第一實施例優(yōu)化一浮動塊形狀的過程的流程圖。圖6是示出了根據(jù)本發(fā)明第二實施例的一浮動塊，該浮動塊的形狀由圖5所示的過程生成。圖7和8是比較一標準浮動塊和一根據(jù)本發(fā)明的浮動塊的顯微照片。圖9和10是示出根據(jù)本發(fā)明成形的浮動塊的優(yōu)點的曲線圖。具體實施例方式圖1是一磁盤驅動器100的立體圖，在該磁盤驅動器中可使用根據(jù)本發(fā)明制造的一浮動塊。磁盤驅動器100包括帶有一底座102和一頂蓋(未圖示)的一殼體。磁盤驅動器100還包括一磁盤組106，該磁盤組由一磁盤夾具108支承在一主軸電動機(未圖示)上，以沿著箭頭132所示方向旋轉。磁盤組106包括多個單獨的磁盤107，諸磁盤107安裝成繞中心軸109同步旋轉。每一磁盤的表面有一裝在磁盤驅動器100中的相關浮動塊110，以用來與面對的磁盤表面通訊。浮動塊110設置成飛行在磁盤組106的一相關單獨磁盤的磁盤表面上方，并且裝載有一轉換頭111，設置該轉換頭111用來向面對的磁盤表面上的同心磁道寫入數(shù)據(jù)或從其讀出數(shù)據(jù)。在圖1所示的例子中，浮動塊110由懸架112支承，懸架112又接著連接到-E-塊致動器116的磁盤接近臂114上。致動器116由一音圈電動機(VCM)118驅動，以繞一樞軸120旋轉致動器及所安裝的浮動塊110。致動器116的旋轉使磁頭沿著一弧形路徑122移動，以將磁頭放置到磁盤內直徑124與磁盤外直徑126之間的一所要的數(shù)據(jù)磁道的上方。音圈電動機118由從包括在電路板128上的伺服電子裝置發(fā)出的位置信號操作，這些位置信號又基于轉換頭111所產生的誤差信號和從一主計算機(未圖示)發(fā)出的位置信號。電路板128上還包括讀出和寫入電子裝置，以基于轉換頭111的讀出部分從磁盤組106讀出的數(shù)據(jù)向主計算機提供信號，并向轉換頭111的寫入部分提供寫入信號，以向磁盤寫入數(shù)據(jù)。圖2是由一懸架支承到一致動臂的一浮動塊110的簡化圖。懸架112可以是一框架彈簧，其本體150裝于致動臂114上。浮動塊110固定在彈簧部分152上，彈簧部分152又通過片簧部分154連接到本體150上。浮動塊110在其相對的兩表面156和158之間的高度或厚度為h。致動臂114和懸架112將表面158放置成面對磁盤107(圖1)的表面，該表面158包括軌道及其它結構特征(未圖示)，以使浮動塊具有飛行的特性。作用在軌道和其它結構特征的空氣承載表面上的空氣對表面158產生一個升力，以升舉起浮動塊。懸架112提供一抵抗升力的設計力，以使浮動塊從磁盤“飛起”一個設計的距離。圖3是遇到一處于零傾斜定向的空氣承載浮動塊200的建模速度矢量的圖。浮動塊的底面(未圖示)具有軌道和其它結構特征(未圖示)，以使浮動塊具有飛行特征。遇到浮動塊200的前導邊表面202的氣流移動到浮動塊上方和下方。浮動塊下方的氣流支承浮動塊，以在磁盤表面飛起一設計的高度。移動的空氣也集中地沿著側表面204和206向浮動塊的尾隨邊表面208流動。沿著側面204和206流動的氣流形成從尾隨邊表面208流出的渦流210和212。由于在圖3中，浮動塊200的定向是零傾斜度的，所以渦流210和212是相對相等和對稱的，并且沒有明顯的偏離磁道力施加在浮動塊上。在圖4中，浮動塊200定向于一個非零的傾斜度，致使氣流遇到前導邊表面202和側表面204，且氣流就沿著前導邊從側面204向側面206集中，以及沿著側面204從前導邊向尾隨邊208集中。從尾隨邊208靠近側面204處流出一渦流214，以及從側面206靠近前導邊202處流出一較小的渦流216。這些流出的不對稱渦流產生一偏離磁道力218，這個力相對所要跟蹤的磁道徑向偏移浮動塊。偏離磁道力218的頻率fF大致與渦流的流出頻率fS相等，后者則基于浮動塊高度和空氣撞擊浮動塊的平均速度。更具體地說，可如下式地計算流出頻率fS＝S·U/h式中，S為斯德魯哈爾數(shù)，U是氣流的平均速度，以及h為浮動塊的高度或厚度。如果偏離磁道力218的頻率(及因此流出頻率)fS大致與懸架的結構模式相同，在相同的頻率處，即fR＝fS時，會在懸架中產生共振，致使浮動塊以不可重復地方式徑向振動。由于代表不可重復的振擺的這樣的振動超出了伺服頻帶寬度，所以無法通過磁道跟蹤伺服機構來對它進行補償。本發(fā)明旨在使這種振動最小。那些熟悉本
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的人們會理解，圖3和4中所示的氣流模型提供了對浮動塊上的氣流的數(shù)字模擬。這些數(shù)字模擬可用來產生一個使渦流流出最小的形狀。圖5是生成一所產生的渦流流出最小的浮動塊形狀的過程的流程圖。參見圖1，當浮動塊在磁盤的外和內徑向磁道之間移動時，浮動塊的傾斜定向從一個正向傾斜變化到一個負向傾斜。因此，偏離軌道PMS的載荷量會在浮動塊從外磁道向內磁道移動時發(fā)生變化。傾斜的程度取決于磁盤驅動器的幾何形狀，尤其是磁盤的半徑和在致動臂和懸架上的浮動塊的定向。因此，對于給定的磁盤驅動器，可以確定正和負傾斜定向的度數(shù)，可以對浮動塊橫過磁盤磁道半徑的各種位置上的氣流的效應進行建模。基于對浮動塊橫過磁盤半徑的各種建模位置的數(shù)字模擬，可以構造出浮動塊的形狀，以使浮動塊的湍流最小。更具體地說，浮動塊的側邊表面、前導與尾隨邊表面以及甚至是頂表面的形狀可成形成使懸架在該結構模式的渦流流出最小。圖5是優(yōu)化浮動塊形狀的過程的流程圖。在步驟302處，從磁道的內半徑和外半徑來確定最大正向傾斜和最大負向傾斜之間的傾斜定向范圍。在步驟304處選擇一浮動塊，并且在步驟306處生成其形狀的一計算機模型。在步驟308處，在傾斜定向范圍之內選擇一傾斜定向，并且在步驟310處生成對所建模浮動塊形狀上的氣流的一數(shù)字模擬。一種生成數(shù)字模擬的方便方法是，通過用軟件模擬所建模的浮動塊形狀上的氣流來生成數(shù)字列表形式的代表所建模形狀上的模擬氣流矢量的數(shù)字模擬。圖3和4是使用Fluent6.0軟件生成的數(shù)字模擬所得到的顯示的例子。在步驟312處，對所檢驗的傾斜定向是否能充分代表磁盤的外和內磁道半徑之間的傾斜范圍進行判斷。更具體地說，在浮動塊形狀上的氣流效應對在外和內磁道之間的每一傾斜定向是不同的。因此，該過程需要在代表磁道半徑范圍的多個傾斜定向處對所建模的浮動塊形狀上的氣流進行數(shù)字模擬。在一些情況下，該過程可以少到僅進行兩個傾斜定向的數(shù)字模擬，即在浮動塊的最大正向傾斜和最大負向傾斜處(在最外側磁道和最內側磁道處)。但更佳地是，在過程的初始迭代中至少采用三個傾斜定向，在最大正向傾斜和最大負向傾斜處各一個以及在零傾斜處一個。當然，可以在任何給定的情況下采用多于三個的傾斜定向。在步驟312處，如果檢驗的傾斜定向數(shù)目小于所選擇的數(shù)目，過程循環(huán)就回到步驟308，在步驟308處，選擇一新的傾斜定向，并且如這里所述地生成一新的數(shù)字模擬。在步驟312處，如果已經檢驗了所選擇的傾斜定向，那么過程就繼續(xù)進行步驟314。在步驟314處，分析在步驟310處生成的數(shù)字模擬，以計算由于已建模的浮動塊形狀上的模擬氣流矢量所導致的偏離磁道力產生的可能共振頻率振動。更具體地說，檢測浮動塊形狀上的氣流的數(shù)字模擬以確定不對稱的流出渦流是否出現(xiàn)且會在或接近懸架112的結構模式(圖2)時在浮動塊上產生一偏離軌道力。如果這樣的不對稱流出渦流出現(xiàn)，那么就對氣流矢量進行檢測，以確定偏離磁道力的強度、位置及方向，以及浮動塊由于偏離磁道力而產生的預計徑向移動距離。由于在懸架112的結構模式的偏離磁道力而產生的浮動塊移動促使浮動塊發(fā)生NRRO振動。在步驟316處，如果振動超過了一目標或預定的最小值(以浮動塊移動的徑向距離的形式)，過程就繼續(xù)進行步驟318，在該步驟中，基于在步驟314中所確定的振動和在步驟310中所生成的數(shù)字模擬，對所建模的浮動塊形狀進行調整。目標預定最小值可以根據(jù)任何設計準則來選擇，如滿足磁道位置不正(TMR)方面的要求，且該要求是使該磁盤驅動器滿足面積和磁道密度規(guī)格而定制的。如果在步驟314處的對數(shù)字模擬的振動分析顯示在步驟310處所發(fā)現(xiàn)的非對稱流出渦流會在或接近懸架112的結構模式(圖2)在浮動塊上產生額外的偏離磁道力，那么就在步驟318處基于氣流矢量的數(shù)字模擬改變浮動塊形狀的模型，以減小和/或平衡流出的渦流。更具體地說，在步驟310處所生成的模擬氣流矢量的數(shù)字列表提供氣流的強度、位置及移動方面、以及從而由于氣流而產生的作用在浮動塊上的力的強度和位置方面的信息。在步驟314處，從這些信息中計算出力的頻率、強度及位置。在步驟318處，采用這些涉及力的信息對浮動塊形狀的模型進行調整，并且過程回到步驟306處，在該步驟處對新的(第二個)形狀建模。該過程對第二個形狀重復預定數(shù)量的傾斜定向。圖5的過程繼續(xù)迭代多個形狀模型，直至在步驟316處，對步驟306處所生成的浮動塊形狀模型所進行的步驟314的振動分析表明振動滿足一預定的最小距離的目標。然后，該過程就繼續(xù)進行到步驟320，以輸出在步驟306處所生成的模型。步驟316的振動試驗的目標預定最小距離可以是由設計者選擇的任何設計限值。我們發(fā)現(xiàn)，一個方便的振動界限值是磁道寬度的1％。亦即，當由懸架112支承時，振動不會使浮動塊的移動超過磁道寬度的1％的距離。因此，渦流流出最小，以使由于流出所產生的振動不會使浮動塊的徑向振動超過磁道寬度的1％。對于磁道寬度約為15微英寸(5.8微米)的渦流流出，由于渦流流出所產生的振動小于0.15微英寸(0.06微米)左右。當然，也可以基于磁盤驅動器的特定設計選擇其它的界限值水平。使用輸出的浮動塊形狀模型來實現(xiàn)浮動塊實際成形。該形狀的形成可以通過將浮動塊本體機加工成所要的形狀，或者通過將材料沉積到浮動塊本體上來形成所要求的形狀，或者選擇地蝕刻浮動塊本體以實現(xiàn)所要求的形狀。但最佳地是，通過在浮動塊本體上涂覆粘合劑以形成必需的形狀來實現(xiàn)所要的形狀。粘合劑的材料可以與將浮動塊連接到懸架112上的材料相同。較為方便的是，可以在將浮動塊裝配到懸架上的同時，涂覆粘合劑以將浮動塊成形為正確的形狀，從而使得制造步驟最少。在許多情況下，由于在浮動塊的不同傾斜定向處的氣流荷載的不同，在步驟306處生成的形狀模型本身將是不對稱的。在這樣的情況之下，所得的浮動塊本體的形狀可能是不對稱的。在完成了圖5所示的過程之后，較好地是在懸架上進行沖擊試驗以確定帶有生成形狀浮動塊的懸架能承受完成的磁盤驅動器組件所需要的機械沖擊設計水平，并保證涂覆到浮動塊上的粘合劑(同時為了成形和裝配)不移位。圖6示出了具有一大致為直線所圍的本體402的一浮動塊400，它的形狀是由圖5的過程進行優(yōu)化的，并且根據(jù)本發(fā)明制造的。浮動塊本體402初始的直線所圍形狀(亦即，圖5的過程中的步驟304處所選擇的形狀)有帶空氣承載表面的軌道(未圖示)、一尾隨邊表面404、一前導邊表面406、側邊表面408和410以及頂表面412(與空氣承載表面相對)。根據(jù)圖5進行的形狀生成所成形的氣動表面414、416、418及420示出為分別重疊在表面404、408、410及406上。尾隨的氣動表面414在傾斜角度的最大變化很大的情況是有用的，并且用來驅散從浮動塊流出的尾隨渦流。前導的氣動表面420對經過浮動塊的流線型的氣流是有用的，以使渦流最小。在許多實施例中，可以省去尾隨的氣動表面414和/或前導的氣動表面。在其它的實施例中，可以從側表面408和410中的一個省去氣動表面，尤其是在傾斜角度在約零和某正或負向傾斜之間變化的情況下。在還有其它的實施例中，尤其是在由于磁盤旋轉速度高而導致風阻大的情況下，可以在頂表面412上形成一氣動表面。表面414、416及418可以如前所述地由粘合劑或其它材料來形成。按照在圖5中的步驟320處所輸出的形狀模型對每一表面進行仿制?；蛘?，可以通過蝕刻或機加工浮動塊來完成浮動塊的形狀，盡管這樣的技術可能會要求對空氣承載表面進行修改，該表面會受到去除浮動塊本體的材料的影響。如圖6所示，氣動表面是連續(xù)彎曲的表面。這樣，氣動表面416和418從前導邊表面406或420延伸到尾隨邊表面404或414，并且氣動表面418和420在側表面416和418之間延伸。曲線的形狀可以是圓形、橢圓形、拋物線形或形狀生成過程所選擇的任何其它連續(xù)彎曲的形狀。盡管所述的彎曲形狀在整個表面是連續(xù)的，但是曲率可以在前導和尾隨邊表面之間沿著表面變化。此外，側表面416的彎曲形狀可以與側表面418的彎曲形狀不同，例如在最大正和負傾斜角度不相同的狀況下使用浮動塊時。但在任何情況下，如上所述地成形浮動塊的至少一個側表面，以顯著地減小并基本消除在浮動塊的所有設計傾斜定向下從浮動塊流出的渦流，從而顯著地消除由于風而作用在浮動塊上的偏離磁道力。圖7至10示出了本發(fā)明的優(yōu)點。圖7是其形狀未經本發(fā)明優(yōu)化的一標準浮動塊450的顯微照片，圖中示出了一尾隨氣流452的圖案。圖8是其形狀經本發(fā)明優(yōu)化的一浮動塊454的顯微照片，圖中示出了一尾隨氣流456的圖案。對氣流452和456的比較揭示出，從優(yōu)化后的浮動塊454發(fā)出的再循環(huán)區(qū)域460的范圍小于從標準浮動塊450發(fā)出的再循環(huán)區(qū)域458。圖9示出了標準浮動塊(470)和優(yōu)化后的浮動塊(472)兩者相對時間的阻力系數(shù)，圖10示出了標準浮動塊(474)和優(yōu)化后的浮動塊(476)相對頻率的阻力系數(shù)。這些圖表證明了優(yōu)化后的浮動塊的阻力系數(shù)的改進(減小)。在一個實施例中，本發(fā)明提供一種具有主要為直線所包圍的本體(400)的氣動浮動塊，該本體形成有布置成面對一移動介質(107)并產生流體流以支承浮動塊靠近該介質飛行的一空氣承載表面、與空氣承載表面相對的一頂表面(412)、布置成面對流體流的一前導表面(406)、與前導表面相對的一尾隨表面(414)、以及在前導、尾隨、空氣承載以及頂表面之間的、相對的第一和第二側表面(416和418)。該浮動塊的特點在于，至少側表面(416或418)中的一個在前導與尾隨表面之間是連續(xù)彎曲的。浮動塊設置成以不同的傾斜定向飛行在移動介質的附近，并且其特點還在于，至少側表面(416或418)中的一個是彎曲的，以基本消除在該側表面上的偏離磁道力(218)。在另一實施例中，本發(fā)明提供一種為浮動塊110選擇一形狀的過程，該浮動塊用來在一移動介質107附近以與介質所產生的氣流的方向成不同的傾斜定向飛行。對浮動塊的形狀進行建模(步驟306)，并且對多個傾斜定向(步驟312)中的每一個定向生成一對所建模形狀(步驟310)上的氣流的數(shù)字模擬。這些傾斜定向在浮動塊擬相對氣流飛行的一個傾斜定向范圍之內(步驟302)?；跀?shù)字模擬(步驟314-316)對浮動塊形狀的模型加以調整(步驟318)?；谝唤５母訅K形狀選擇一浮動塊形狀(步驟320)。在較佳的實施例中，迭代地重復該過程以優(yōu)化形狀。較佳地是，使用數(shù)字模擬在浮動塊模型上進行一振動分析(步驟314)。在步驟316處，如果在該懸架結構模式的振動超過一預定的最小值(如使浮動塊的移動大于磁道寬度的1％左右)，就在步驟318處對浮動塊的形狀進行調整。迭代地重復該過程，直至浮動塊的移動不超過目標的預定最小值，于是輸出浮動塊模型。本發(fā)明的過程不受磁盤驅動器主軸轉速或磁盤直徑的限制，也不受磁盤驅動器所操作的磁盤數(shù)量的限制。而是，本發(fā)明可應用于單磁盤和多磁盤的磁盤驅動器，該磁盤驅動器可以高主軸轉速工作，也可以低主軸轉速工作，以及本發(fā)明可應用于大直徑的存儲磁盤，也可用于小直徑的存儲磁盤。此外，本發(fā)明可用來形成浮動塊和其它在任何流體介質(包括空氣、氦氣及其它氣體，以及液體)中工作的裝置的形狀。盡管已經結合用于磁盤驅動器的浮動塊描述了本發(fā)明，但那些熟悉本
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的人們會認識到，本發(fā)明可以實踐于采用可旋轉存儲介質的其它系統(tǒng)中，這樣的系統(tǒng)包括、但不局限于伺服磁道寫入器、多磁盤寫入器、磁道寫入測試儀、磁頭測試儀、磁盤表面仿形工具機、光學驅動器，以及采用其它類型的工藝的系統(tǒng)，如存在于磁帶驅動器或類似裝置中的直線移動的介質。應予理解的是，即使在前面的描述中列出了本發(fā)明各個實施例的許多特征和優(yōu)點，以及本發(fā)明各個實施例的詳細結構與功能，本公開文本也僅僅是說明性的，人們可以在本發(fā)明的原理之內對細部、尤其是零件的結構和布置加以修改，本發(fā)明的原理完全由表述所附權利要求書的諸用語的寬泛地、一般的含義來表明。例如，可以不超出本發(fā)明的保護范圍和構思地根據(jù)過程的具體應用來改變具體的零件，并同時保持基本相同的功能性。這樣，盡管是結合與可旋轉介質一起使用的浮動塊形狀的優(yōu)化來描述本發(fā)明的，但是該過程也可以應用到設計為用來對一表面相對移動的其它裝置中，不管該表面是否是用于數(shù)據(jù)存儲的。此外，盡管該過程是結合用來完成該過程的許多步驟的特定軟件程序來描述的，但也可以采用其它的技術和程序來完成相同的功能，這不超出本發(fā)明的保護范圍和構思。權利要求1.一種為一浮動塊選擇一形狀的過程，該浮動塊用來在一移動介質附近以與介質所產生的流體流的方向成不同的傾斜定向飛行，該過程包括以下步驟a)對一浮動塊形狀建模；b)對浮動塊擬相對流體流飛行的傾斜定向的范圍內的多個傾斜定向中的每一個生成一所建模形狀上的流體流的數(shù)字模擬；c)基于數(shù)字模擬對所建模的浮動塊形狀加以調整；以及d)基于一建模的浮動塊形狀選擇一浮動塊形狀。2.如權利要求1所述的過程，其特征在于，步驟c)包括以下步驟c1)計算所建模的浮動塊由于模擬的流體流而產生的振動運動；和c2)如果所計算得的振動運動超過了一預定的最小值，就基于數(shù)字模擬對所建模的浮動塊形狀加以調整；并且步驟d)包括選擇具有不超過預定最小值的計算振動運動的一建模的浮動塊形狀。3.如權利要求2所述的過程，其特征在于，在步驟c)之后和步驟d)之前還包括e)重復步驟a)和b)，以調整所建模的浮動塊形狀。4.如權利要求所述2的過程，其特征在于，在步驟c)之后和步驟d)之前還包括e)迭代地重復步驟a)和b)，以調整所建模的浮動塊形狀。5.如權利要求4所述的過程，其特征在于，對于每次迭代，步驟從c1)包括測量由于作用在浮動塊上的磁道偏離力而使具有所建模形狀的一浮動塊移動的距離；以及當所述移動的距離不超過預定的最小值時，執(zhí)行步驟d)。6.如權利要求1所述的過程，其特征在于，在一正傾斜定向和一負傾斜定向時執(zhí)行在步驟b)處所生成的數(shù)字模擬。7.如權利要求6所述的過程，其特征在于，步驟c)包括以下步驟c1)計算所建模的浮動塊由于模擬的流體流而產生的振動運動；和c2)如果所計算得的振動運動超過了一預定的最小值，就基于數(shù)字模擬對所建模的浮動塊形狀加以調整；并且步驟d)包括選擇具有不超過預定最小值的計算振動運動的一建模的浮動塊形狀。8.如權利要求7所述的過程，其特征在于，在步驟c)之后和步驟d)之前還包括e)重復步驟a)和b)，以調整所建模的浮動塊形狀。9.如權利要求所述7的過程，其特征在于，在步驟c)之后和步驟d)之前還包括e)迭代地重復步驟a)和b)，以調整所建模的浮動塊形狀。10.如權利要求9所述的過程，其特征在于，對于每次迭代，步驟從c1)包括測量由于作用在浮動塊上的磁道偏離力而使具有所建模形狀的一浮動塊移動的距離；以及當所述移動的距離不超過預定的最小值時，執(zhí)行步驟d)。11.一種如權利要求1所述的、制造連接在一懸架上的一浮動塊的過程，該過程該包括e)基于所選擇的浮動塊形狀制造浮動塊。12.通過如權利要求11所述的過程制造的一種浮動塊。13.一種具有主要為直線所包圍的本體的浮動塊，該本體形成有布置成面對一移動介質的一空氣承載表面，且該介質產生支承浮動塊在該介質的一表面附近飛行的流體流，該本體還形成有與空氣承載表面相對的一頂表面、布置成面對流體流的一前導表面、與前導表面相對的一尾隨表面、以及在空氣承載與頂表面及前導與尾隨表面之間的連續(xù)延伸的、相對的第一和第二側表面，其特征在于，至少一個側表面在前導與尾隨表面之間是連續(xù)彎曲的。14.如權利要求13所述的浮動塊，其特征在于，尾隨表面在第一與第二側表面之間是連續(xù)彎曲的。15.如權利要求13所述的浮動塊，其特征在于，前導表面在第一與第二側表面之間是連續(xù)彎曲的。16.一種具有主要為直線所包圍的本體的浮動塊，該本體形成有布置成面對一移動介質的一空氣承載表面，且該介質產生支承浮動塊在該介質的一表面附近飛行的流體流，該本體還形成有與空氣承載表面相對的一頂表面、布置成面對流體流的一前導表面、與前導表面相對的一尾隨表面、以及在空氣承載與頂表面及前導與尾隨表面之間的連續(xù)延伸的、相對的第一和第二側表面，其中，浮動塊設置成在介質附近以與一流體流的方向成不同的傾斜定向飛行，特征在于，至少一個側表面彎曲成基本消除該至少一個側表面上、在不同傾斜定向下的偏離磁道力。17.如權利要求16所述的浮動塊，其特征在于，該至少一個側表面在前導與尾隨表面之間是連續(xù)彎曲的。18.如權利要求16所述的浮動塊，其特征在于，尾隨表面在第一與第二側表面之間是彎曲的。19.如權利要求16所述的浮動塊，其特征在于，前導表面在第一與第二側表面之間是彎曲的。20.如權利要求16所述的浮動塊，其特征在于，第一和第二側表面彎曲成基本消除由于傾斜定向在正與負之間變化而在第一和第二側表面上產生的偏離磁道力。全文摘要一種浮動塊，它至少有一個側表面在前導與尾隨表面之間連續(xù)彎曲，以基本消除由于傾斜定向的變化而作用在該側表面上的偏離磁道力。對一浮動塊形狀建模，并對浮動塊擬飛行的傾斜定向的范圍內的多個傾斜定向中的每一個定向生成一對所建模形狀上的氣流的數(shù)字模擬?；跀?shù)字模擬對所建模的浮動塊形狀加以反復調整，直至對所建模形狀的振動分析顯示，振動不超過一預定的最小值。文檔編號G11B5/60GK1474380SQ03123839公開日2004年2月11日申請日期2003年5月14日優(yōu)先權日2002年5月14日發(fā)明者S·塔德帕利,R·M·拉奧,S塔德帕利,拉奧申請人:西加特技術有限責任公司