0°C的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行30~90分鐘的熱處 理時(shí)，W下數(shù)學(xué)式3中的熱處理前/后的尺寸變化率在縱向（LD)方向上可顯示為0.5% W 下，在橫向（TD)方向上可顯示為0.3%W下。 陽130][數(shù)學(xué)式3] 陽131] 尺寸變化率（％) = K熱處理前尺寸-熱處理后尺寸）/熱處理前尺寸IXlOO
[0132] 而且，當(dāng)所述透明導(dǎo)電光學(xué)片設(shè)置有所述硬度提高薄膜時(shí)，可提高透明導(dǎo)電光學(xué) 片的硬度。
[0133] 例如，設(shè)置有硬度提高薄膜的透明導(dǎo)電光學(xué)片可具有通過W下數(shù)學(xué)式4來計(jì)算的 Y值的0. 8倍至1. 6倍的硬度，進(jìn)一步限定時(shí)的0. 8倍至1. 2倍的硬度（mN. m)。 陽134][數(shù)學(xué)式4] 陽 13引 Y = (-3. 208X10 iiX)(5) + (2. 039X 10 sx)(4) - (4. 271X 10 6x)(3) + (4. 09X 10 4 XX") - (I. 489X10 "XX)+1. 955X10 '
[0136] 上述數(shù)學(xué)式中X是透明導(dǎo)電光學(xué)片（設(shè)置或未設(shè)置有硬度提高薄膜）的總厚度 (Ji m)。 陽137] 而且，所述透明導(dǎo)電光學(xué)片當(dāng)未設(shè)置有硬度提高薄膜時(shí)也可具有通過上述數(shù)學(xué)式 4來計(jì)算的Y值的0. 8倍至1. 6倍的硬度（mN. m)。
[0138] 并且，當(dāng)所述透明導(dǎo)電光學(xué)片設(shè)置有硬度提高薄膜時(shí)，優(yōu)選地，具有在120~ 160°C的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行30~90分鐘的熱處理時(shí)，上述數(shù)學(xué)式3中的熱處理前/后的尺寸 變化率縱向（LD)可顯示為0.5%W下，橫向（TD)可顯示為0.3%W下的硬度提高薄膜，其 結(jié)果是，在粘貼了硬度提高薄膜后也可被抑制在熱處理時(shí)向光學(xué)片的表面方向彎曲或被卷 而變形。 陽139] 本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的透明導(dǎo)電光學(xué)片的制造步驟包括：（1)準(zhǔn)備透明基層；（2) 形成第一折射率匹配層；（3)形成第二折射率匹配層；（4)形成第=折射率匹配層；（5)沉 積ITO層；W及做對ITO層進(jìn)行蝕刻。
[0140] 而且，所述透明基層的表面可直接形成一個(gè)W上的功能層或粘貼必要的功能性薄 膜。 陽141] 各階段可通過本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中普遍使用的方法，例如，使用樹脂溶液的涂 覆，通過瓣射的沉積等來實(shí)施。
[0142] 根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例，所述第一折射率匹配層、第二折射率匹配層及功能層可W通過 濕式涂覆（wet coating)方式形成。
[0143] 而且，所述功能性薄膜可通過使用層壓機(jī)（Iaminator)接合。
[0144] 優(yōu)選地，在實(shí)施步驟（1)至（5)之后，為了提高ITO層的結(jié)晶度可進(jìn)一步實(shí)施熱處 理，在實(shí)施步驟（1)至（6)之后也可進(jìn)一步實(shí)施熱處理。例如，所述熱處理在120~160°C 的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行30~90分鐘。
[0145] 步驟（6)是可通過在所述ITO層上根據(jù)絲網(wǎng)印刷、凹印、噴墨或干膜抗蝕劑（化y film resist,DFR)層壓方式，按所需的圖案直接將蝕刻液涂布來對ITO層進(jìn)行部分蝕刻或 按所需的圖案形成光致抗蝕劑膜后，利用蝕刻液等部分蝕刻ITO層來進(jìn)行。而且，除了所述 方法外，也可采用利用激光的激光蝕刻（laser etching)方法。 陽146] 下面，根據(jù)實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)說明。但是，W下實(shí)施例只是對本發(fā)明進(jìn)行 的例示，本發(fā)明的內(nèi)容并不限定于W下實(shí)施例。
[0147] 實(shí)施例1至20 :具有折射率匹配層的透明導(dǎo)電光學(xué)片的制造
[0148] 步驟1 :準(zhǔn)備透明基層
[0149] 使用在550皿的波長中折射率為1. 63至1. 67、厚度為50 ym的PET透明基材。
[0150] 步驟2 :形成第一折射率匹配層 陽151] 將5. 5重量份的熱固化型丙締酸樹脂（A811，愛敬化學(xué)公司）、0. 3重量份的聚異氯 酸醋固化劑值N980S，愛敬化學(xué)公司）、47. 1重量份的用于稀釋的二甲苯（巧Iene)及47. 1 重量份的乙酸下醋進(jìn)行混合后，W該混合溶液的固體含量100重量份計(jì)，將50~80重量 份的氧化錯(cuò)狂r〇2, JGC公司）進(jìn)一步混合。然后將獲取的混合溶液在所述透明基層上進(jìn) 行濕式涂覆（wet coating),并且進(jìn)行干燥及熱固化，從而形成在550nm的波長中折射率在 1. 56~1. 66范圍且厚度為20~100皿范圍的第一折射率匹配層。 陽152] 步驟3 :形成第二折射率匹配層
[0153] 將15重量份的UV硬化低聚物值PHA，味元公司）、5重量份的季戊四醇S丙締酸醋 (PETA，味元公司）、4重量份的稀釋用單體（SR499, Satomer公司）、1重量份的UV硬化光引 發(fā)劑（Irga州re-184, BASF公司）及37. 5重量份的稀釋用甲基乙基酬（MEK)、37. 5重量份 的甲基異下基酬（MIBK)進(jìn)行混合后，W該混合溶液的固體含量100重量份計(jì)，將100~200 重量份的氧化錯(cuò)狂r〇2, JGC公司）進(jìn)一步混合。然后將獲取的混合溶液在所述第一折射率 匹配層上進(jìn)行濕式涂覆（wet coating),并且進(jìn)行干燥及UV硬化，從而形成550皿的波長中 折射率在1. 69~1. 72范圍且厚度為15~100皿范圍的第二折射率匹配層。
[0154] 步驟4 :形成第S折射率匹配層
[01巧]通過在所述第二折射率匹配層上將二氧化娃（Si〇2)進(jìn)行真空瓣射來進(jìn)行沉積，從 而形成在550皿的波長中折射率（n)在1. 43~1. 55范圍且厚度為5~40皿范圍的第S 折射率匹配層。 陽156] 步驟5 JTO層的沉積及熱處理 陽157] 通過在所述第S折射率匹配層上將含有7重量份的錫氧化物的ITO進(jìn)行真空瓣射 來進(jìn)行沉積。將沉積有所述ITO層的光學(xué)片在120~160°C的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行30~90分 鐘的熱處理來進(jìn)行結(jié)晶化。其結(jié)果形成在550nm的波長中折射率在I. 8~I. 93范圍且厚 度為20~45nm的ITO層。 陽158] 步驟6:蝕刻ITO層 陽159] 通過絲網(wǎng)印刷、凹印、噴墨或干膜抗蝕劑（化y film resist，DFR)層壓方式在所述 ITO層上形成線型或鉆石型方格圖案的光致抗蝕劑膜，并且在25°C及5重量％的鹽酸溶液 中浸泡一分鐘后用超純水值I)沖洗來蝕刻一部分ITO層。 陽160] 對比例1至12 :具有折射率匹配層的透明導(dǎo)電光學(xué)片的制造 陽161 ] 按照所述實(shí)施例1至20的過程（步驟1~6)進(jìn)行，而在步驟3中通過調(diào)節(jié)原材料 的混合量及涂覆厚度來形成在550nm的波長中折射率在1. 60~1. 68范圍且厚度為1000~ IlOOnm范圍的第二折射率匹配層，從而制造出透明導(dǎo)電光學(xué)片。 陽162] 將所述實(shí)施例及對比例的透明導(dǎo)電光學(xué)片的結(jié)構(gòu)整理在W下表1至8。
[0163] 測試?yán)?:AR值的評價(jià)
[0164] 對于透明導(dǎo)電光學(xué)化使用測量儀器（U4100, Mitsubishi公司）測量可視光區(qū)域 (380~780nm)的各波長的反射率（％)。此時(shí)，為消除由內(nèi)部反射產(chǎn)生的噪音，將透明基 層的外表面印刷成黑色后進(jìn)行了測量。利用測量值，并按照W上的數(shù)學(xué)式1得出了A R值 (% )。
[0165] 測試?yán)? : A ER值的評價(jià)
[0166] 對透明導(dǎo)電光學(xué)片，使用測量儀器扣4100, Mitsubishi公司）利用對D65光源的 2°視線的反射光，測量根據(jù)L相沖*色坐標(biāo)系表現(xiàn)的反射顏色。此時(shí)，為了消除由內(nèi)部反射 產(chǎn)生的噪音，將透明陽T基材的表面印刷成黑色后進(jìn)行了測量。利用測量值，并按照W上的 數(shù)學(xué)式2得出了A邸值。
[0167] 測試?yán)? :外觀干澀花紋的評價(jià)
[0168] 對透明導(dǎo)電光學(xué)片，觀察外部光源的作用下的反射光中是否出現(xiàn)如油潰形象的色 斑現(xiàn)象。
[0169] 測試?yán)? :表面電阻的評價(jià)
[0170] 對透明導(dǎo)電光學(xué)片，首先在熱處理之前的狀態(tài)下測量表面電阻，并將此時(shí)的測量 值用R。表示。然后，通過在150°C的溫度下進(jìn)行60分鐘的熱處理，將ITO層進(jìn)行結(jié)晶化，之 后測量表面電阻，并將此時(shí)的測量值用Ri表示。最后，用5%的硫酸溶液處理十分鐘后測量 表面電阻，并將此時(shí)的測量值用R2表示?；谌绱藴y量的值，計(jì)算出Ri/R。的比例及R 2/% 比例。 陽171] 測試?yán)? :表面硬度的評價(jià)
[0172] 透明導(dǎo)電光學(xué)片的ITO層的表面硬度通過按照J(rèn)IS-K5600的步驟（Mitsubishi pencil IH使用）進(jìn)行五次測試時(shí)未出現(xiàn)劃痕的次數(shù)的比率來評價(jià)。 陽173] 測試?yán)? :熱處理前/后的尺寸變化率的評價(jià)
[0174] 對透明導(dǎo)電光學(xué)片的縱向（LD)及橫向（TD)，測量為ITO層的結(jié)晶化而進(jìn)行的熱處 理前/后的尺寸，并根據(jù)W上的數(shù)學(xué)式3得出尺寸變化率。
[0175] 表1至8中整理了所述測試?yán)脑u價(jià)結(jié)果。 陽17引 連施例1牽5及對比例1牽3的結(jié)構(gòu)及測試結(jié)果
[0177][表 U
陽181] 實(shí)施例6至10及對比例4至6的結(jié)構(gòu)及測試結(jié)果 [0182][表引 陽 183]
陽186] 如表1至4所示，實(shí)施例1至10的光學(xué)片具有本發(fā)明中要求的范圍，即I. 0% W下 的A R值及