圖案隱身性優(yōu)異的透明導(dǎo)電光學(xué)片的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及一種含有氧化銅錫（indium tin oxide, 口0)的透明導(dǎo)電光學(xué)片。更 為具體地，設(shè)及一種用于觸摸屏面板等的包括圖案等蝕刻而形成的ITO層的透明導(dǎo)電光學(xué) 片。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，在手機(jī)、平板設(shè)備、監(jiān)視器等顯示器部分普遍使用觸摸屏面板（touch screen panel, TSP)。運(yùn)種TSP的核屯、材料主要使用包括透明導(dǎo)電材料ITO的光學(xué)片。
[0003] 當(dāng)包括口0的光學(xué)片使用于觸摸屏面板等時(shí)，一般將ITO層的一部分蝕刻來形成 感應(yīng)圖案。但是，ITO具有從可視光波段（380~780nm)向短波波長方向移動(dòng)時(shí)折射率變 高的固有的驅(qū)散（dispersion)特性，特別是反射到ITO層的光在450nm W下的波長中反射 得更多，從而反射率高且反射的顏色呈藍(lán)色。由于具有運(yùn)種特性，形成圖案的ITO層的非蝕 刻部和蝕刻部的反射率及反射顏色存在很大差異，從而使用者認(rèn)知ITO層的圖案，并出現(xiàn) 會(huì)降低在下部的顯示器中所要顯示的清晰度的問題。
[0004] 因此，正在試圖在透明基層和ITO層之間具備折射率匹配層Cre化active index matching layer)，且通過薄膜干澀現(xiàn)象效果修正口0層的非蝕刻部和蝕刻部之間的光學(xué)特 性來改善清晰度（參考韓國公開專利公報(bào)第2010-0008758號(hào)）。 陽〇化]但是，現(xiàn)有的透明導(dǎo)電光學(xué)片在光學(xué)、電學(xué)、機(jī)械特性方面還存在需要改進(jìn)的地 方。
[0006] 特別是運(yùn)種透明導(dǎo)電光學(xué)片根據(jù)不同的被安裝的電子產(chǎn)品所要求的表面電阻也 會(huì)不同，為了實(shí)現(xiàn)運(yùn)種表面電阻，當(dāng)變更ITO層的沉積厚度時(shí)，與折射率匹配層之間的薄膜 干澀現(xiàn)象的效果會(huì)降低，從而因圖案被認(rèn)知等而容易變得不良，每次更換ITO層的厚度時(shí) 要全部重新設(shè)計(jì)折射率匹配層的折射率和厚度，因此比較麻煩。
[0007] 而且，由于ITO結(jié)晶化、圖案加工、裁剪、移送工序等中發(fā)生透明基層的彎曲，經(jīng)常 會(huì)出現(xiàn)ITO層被破壞，表面電阻出現(xiàn)不良等的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】
陽00引（一）要解決的技術(shù)問題
[0009] 因此，本發(fā)明的目的在于提供一種透明導(dǎo)電光學(xué)片，該光學(xué)片是通過修正ITO層 的非蝕刻部與蝕刻部之間的反射光的差來提高隱身性，從而不會(huì)出現(xiàn)所要實(shí)現(xiàn)的清晰度的 降低的現(xiàn)象且容易實(shí)現(xiàn)多種表面電阻。
[0010] (二）技術(shù)方案
[0011] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種透明導(dǎo)電光學(xué)片，其具有由透明基層、第一折射 率匹配層、第二折射率匹配層、第=折射率匹配層及氧化銅錫（ITO)層依次疊層的結(jié)構(gòu)，所 述第二折射率匹配層的厚度為1至500nm，且在550nm的波長中的折射率比所述透明基層、 第一折射率匹配層及第=折射率匹配層高，所述ITO層包括非蝕刻部和蝕刻部，且在550nm 的波長中的折射率比所述第二折射率匹配層高，當(dāng)測量可視光區(qū)域的各波長中的所述ITO 層的非蝕刻部及蝕刻不的反射率時(shí)，W下數(shù)學(xué)式1中的AR值為0%至1. 0%，在利用對(duì)D65 光源的2°視線的反射光，測量L相沖*色坐標(biāo)系的反射顏色時(shí)，W下數(shù)學(xué)式2中的A邸值 為0至6. 0 :
[001引[數(shù)學(xué)式^ 陽013]么巧二運(yùn)|,1/-rjv,7 I-
[0014] 所述數(shù)學(xué)式1中，i為可視光區(qū)域的各波長，ru為各波長中的ITO層的非蝕刻部 的反射率（％ )，為各波長中的ITO層的蝕刻部的反射率（％ )，n是被測波長的總數(shù)， [001引[數(shù)學(xué)式引
[0017] 所述數(shù)學(xué)式2中，L*i、a*i及b* 1分別是ITO層的非蝕刻部的反射顏色的L*、a*及 b*，L*2、a*2及b* 2分別是口0層的蝕刻部的反射顏色的L*、a*及b*。 陽0化](S)有益效果
[0019] 所述透明導(dǎo)電光學(xué)片通過折射率匹配層的薄膜干澀效果來修正ITO層的非蝕刻 部與蝕刻部之間的反射率和反射顏色的差，使用戶無法通過視覺認(rèn)知非蝕刻部和蝕刻部， 從而能夠不會(huì)降低在下部的顯示器面板中所要顯示的清晰度。特別是，所述透明導(dǎo)電光學(xué) 片當(dāng)為調(diào)節(jié)表面電阻而改變ITO層的厚度時(shí)，即使不改變透明基層或折射率匹配層的折射 率和厚度，薄膜干澀效果也能夠維持得很好。
[0020] 而且，所述透明導(dǎo)電光學(xué)片在熱處理時(shí)ITO層的結(jié)晶度優(yōu)異且尺寸變化率小，因 此穩(wěn)定性和可靠性高，由于表面硬度優(yōu)異，處理性能良好，且具備多種功能層，從而能夠提 高低聚物阻塞性、防止阻塞性、防止反射性、粘著性、硬度特性等。
[0021] 因此，所述透明導(dǎo)電光學(xué)片可在適用于各種電子設(shè)備的顯示器面板的觸摸屏面板 領(lǐng)域中使用。
【附圖說明】
[0022] 圖1是示出本發(fā)明的透明導(dǎo)電光學(xué)片的結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)施例的模式圖。
[0023] 圖2是示出適用于顯示器面板的透明導(dǎo)電光學(xué)片的一個(gè)實(shí)施例及從該光學(xué)片反 射的光的圖。
[0024] 圖3是示出透明導(dǎo)電光學(xué)片的總厚度與硬度之間的關(guān)系的圖。 陽0對(duì)【附圖說明】標(biāo)記
[0026] 100 :透明基層 200 JTO 層 W27] 210 :非蝕刻部 220 :蝕刻部
[0028] 300 :顯示器面板 400 :第一折射率匹配層
[0029] 410 :第二折射率匹配層 420 :第S折射率匹配層
[0030] 500 :功能層 510 :硬度提高薄膜
[0031] 610:非蝕刻部的反射光 620:蝕刻部的反射光
【具體實(shí)施方式】
[0032] 下面，根據(jù)本發(fā)明的具體實(shí)施例進(jìn)行更詳細(xì)的說明。
[0033] 參照?qǐng)D1，本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的透明導(dǎo)電光學(xué)片具有在透明基層100上由第一 折射率匹配層400、第二折射率匹配層410、第S折射率匹配層420及ITO層200依次疊層 的結(jié)構(gòu)。
[0034] 而且，所述ITO層200包括非蝕刻部210和蝕刻部220。
[0035] 根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，所述透明導(dǎo)電光學(xué)片的所述透明基層100與第一折射率匹配 層400之間、第一折射率匹配層400與第二折射率匹配層410之間或第二折射率匹配層410 與第=折射率匹配層420之間可包括一層或二層W上的附加的折射率匹配層。
[0036] 根據(jù)另一個(gè)實(shí)施例，所述透明導(dǎo)電光學(xué)片的所述透明基層100的外側(cè)表面還可具 備具有低聚物阻塞、防止阻塞、防止反射、粘著及提高硬度功能中的某一種或兩種W上復(fù)合 功能的功能層500和/或一個(gè)W上的硬度提高薄膜510。
[0037] 下面，分別對(duì)各結(jié)構(gòu)層進(jìn)行詳細(xì)說明。 陽0測透明基層
[0039] 透明基層是位于本發(fā)明的透明導(dǎo)電光學(xué)片的最外圍的層，起到支撐體的作用。
[0040] 透明基層在550皿波長中的折射率可為1.50至1.70,可進(jìn)一步限定為1.60至 1. 70,可再進(jìn)一步限定為1. 63至1. 67。當(dāng)折射率在所述范圍內(nèi)時(shí)，折射率匹配層的薄膜干 澀的效果會(huì)更優(yōu)異。
[0041] 而且，透明基層的厚度可為2至250 ym，可進(jìn)一步限定為10至188 ym，可再進(jìn)一 步限定為23至125 y m。當(dāng)厚度在所述范圍內(nèi)時(shí)，用作TSP板時(shí)不僅厚度薄，而且加工性能 良好，因此實(shí)用性會(huì)更高。
[0042] 而且，透明基層的主要成分可為聚脂樹脂、纖維素樹脂、丙締酸樹脂、聚碳酸醋樹 月旨、環(huán)締控聚合物（OP)樹脂及其組合等，更為具體的例為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇醋（PET)樹 月旨、S乙酷纖維素（TAC)樹脂、聚碳酸醋樹脂（PC)樹脂、聚甲基丙締酸甲醋（PMMA)樹脂、環(huán) 締控聚合物（OP)樹脂、聚酷亞胺（PI)樹脂及其組合。
[0043] 折射率匹配層
[0044] 本發(fā)明的透明導(dǎo)電光學(xué)片具備折射率各不相同的立層折射率匹配層（re化active index matching layer),通過引發(fā)薄膜干澀現(xiàn)象（thin film interference)來修正；[TO 層的非蝕刻部和蝕刻部的反射率和反射光的差，降低它們的可見性，從而不會(huì)降低在顯示 器面板中所要顯示的清晰度。
[0045] =層折射率匹配層是在透明基層上由第一折射率匹配層、第二折射率匹配層及第 =折射率匹配層依次疊層而形成。
[0046] 其中，所述第二折射率匹配層在550nm的波長中的折射率要比第一折射率匹配層 及第S折射率匹配層高，比所述ITO層低。具體地，所述第二折射率匹配層在550nm的波長 中的折射率比第一折射率匹配層和第=折射率匹配層優(yōu)選地高0.0 l至0. 25。
[0047] 而且，優(yōu)選地，所述第一折射率匹配層及第S折射率匹配層在550皿的波長中的 折射率均與所述透明基層相比相同或低。具體地，所述第一折射率匹配層及第=折射率匹 配層與透明基層相比，其在550皿的波長中的折射率可相同或低0.0 l至0. 2。
[0048] 而且，所述第一折射率匹配層和第=折射率匹配層在550nm的波長中的折射率可 相似或相同，例如，兩個(gè)折射率的差可為0. 20 W下。 W例 （1)第一折射率匹配層
[0