本實(shí)用新型涉及電路結(jié)構(gòu)。特別涉及無(wú)線射頻標(biāo)簽的電路結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
現(xiàn)實(shí)中利用RFID(Radio Frequency Identification)技術(shù),可以形成無(wú)線射頻標(biāo)簽與閱讀器的無(wú)線應(yīng)答。通過(guò)閱讀器輻射產(chǎn)生磁場(chǎng),無(wú)源或被動(dòng)的無(wú)線射頻標(biāo)簽進(jìn)入磁場(chǎng)后,接收閱讀器發(fā)出的射頻信號(hào),憑借感應(yīng)電流所獲得的能量發(fā)送出存儲(chǔ)在標(biāo)簽芯片中的產(chǎn)品信息。這種無(wú)源標(biāo)簽或被動(dòng)標(biāo)簽結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單,并且不需要維護(hù),適合在固定環(huán)境內(nèi)應(yīng)用,尤其是在對(duì)于藝術(shù)品集中的陳列室或博物館內(nèi)密集使用,主要作為解說(shuō)系統(tǒng)的硬件基礎(chǔ)。
但是藝術(shù)品具有稀缺性或唯一性,布展過(guò)程往往需要與人文主題、社會(huì)主題相適應(yīng),使得藝術(shù)品陳列在立體空間內(nèi)具有離散特征,空間位置缺乏規(guī)律。同時(shí)標(biāo)簽的固定需要位于藝術(shù)品的可忽略位置,例如畫框側(cè)面或邊角,展柜或展箱框架上,雕塑內(nèi)部或底部遮蔽處等,以保證在近距離觀察藝術(shù)品時(shí)不會(huì)對(duì)品鑒產(chǎn)生干擾。
現(xiàn)有標(biāo)簽的結(jié)構(gòu)是天線環(huán)路呈平面排列,天線環(huán)路的兩端與標(biāo)簽芯片的相應(yīng)輸入引腳連接,以上限制條件對(duì)現(xiàn)有標(biāo)簽建立無(wú)線應(yīng)答有不良影響,導(dǎo)致天線環(huán)路在閱讀器輻射的磁場(chǎng)中不能有效感應(yīng)磁場(chǎng)產(chǎn)生足夠功率的電磁感應(yīng)電流驅(qū)動(dòng)標(biāo)簽芯片。而通過(guò)增加閱讀器輻射功率,會(huì)對(duì)其他閱讀器與標(biāo)簽的無(wú)線應(yīng)答造成干擾,影響使用者數(shù)量。調(diào)整藝術(shù)品位置又會(huì)影響布設(shè)主題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
有鑒于此,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種無(wú)線射頻標(biāo)簽及藝術(shù)品解說(shuō)系統(tǒng),用于解決現(xiàn)有標(biāo)簽電磁感應(yīng)效率低,不適于密集應(yīng)用的技術(shù)問(wèn)題。
本實(shí)用新型的無(wú)線射頻標(biāo)簽,包括天線環(huán)路,所述天線環(huán)路包括通過(guò)一根導(dǎo)線形成的平面纏繞結(jié)構(gòu)、第一立體纏繞結(jié)構(gòu)和第二立體纏繞結(jié)構(gòu),所述平面纏繞結(jié)構(gòu)環(huán)繞標(biāo)簽芯片,以所述平面纏繞結(jié)構(gòu)為中心對(duì)稱設(shè)置所述第一立體纏繞結(jié)構(gòu)和所述第二立體纏繞結(jié)構(gòu),所述第一立體纏繞結(jié)構(gòu)和所述第二立體纏繞結(jié)構(gòu)共軸線,所述第一立體纏繞結(jié)構(gòu)和所述第二立體纏繞結(jié)構(gòu)的軸線位于所述平面纏繞結(jié)構(gòu)所在平面。
所述平面纏繞結(jié)構(gòu)為平面中的等距螺旋線,所述導(dǎo)線的纏繞端自外向內(nèi)螺旋延伸。
所述平面纏繞結(jié)構(gòu)的形狀為偶對(duì)稱的多邊形,多邊形的邊數(shù)至少為6。
所述第一立體纏繞結(jié)構(gòu)和所述第二立體纏繞結(jié)構(gòu)相同,為立體的螺旋線。
所述螺旋線為圓柱螺旋線,所述圓柱螺旋線對(duì)應(yīng)的參考圓柱的斷面為橢圓,所述橢圓的長(zhǎng)軸和短軸比例大于50:1。
所述螺旋線為圓錐螺旋線,所述圓錐螺旋線斷面為橢圓,橢圓的長(zhǎng)軸和短軸比例大于20:1。
所述螺旋線的導(dǎo)程,沿指向平面纏繞結(jié)構(gòu)的方向,逐漸擴(kuò)大。
所述圓柱螺旋線在所述長(zhǎng)軸方向向所述平面纏繞結(jié)構(gòu)彎曲。
所述圓錐螺旋線在所述長(zhǎng)軸方向向所述平面纏繞結(jié)構(gòu)彎曲。
本實(shí)用新型的藝術(shù)品解說(shuō)系統(tǒng),包括所述的無(wú)線射頻標(biāo)簽。
本實(shí)用新型的無(wú)線射頻標(biāo)簽及藝術(shù)品解說(shuō)系統(tǒng),通過(guò)改變天線環(huán)路的構(gòu)成結(jié)構(gòu),提高了在各種固定位置時(shí)的電磁感應(yīng)效率,尤其適用薄片形的封裝外殼。。結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單可靠性高。利用本實(shí)用新型的無(wú)線射頻標(biāo)簽的藝術(shù)品解說(shuō)系統(tǒng),可以擴(kuò)展現(xiàn)有藝術(shù)品解說(shuō)系統(tǒng)的適用領(lǐng)域,提高在封閉空間中對(duì)較小或微小解說(shuō)對(duì)象的標(biāo)定,使得布展方案更加靈活。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的無(wú)線射頻標(biāo)簽的天線環(huán)路布設(shè)結(jié)構(gòu)的主視示意圖。
圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例的無(wú)線射頻標(biāo)簽的天線環(huán)路布設(shè)結(jié)構(gòu)的左視示意圖。
圖3為本實(shí)用新型另一實(shí)施例的無(wú)線射頻標(biāo)簽的天線環(huán)路布設(shè)結(jié)構(gòu)的主視示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
圖紙中的步驟編號(hào)僅用于作為該步驟的附圖標(biāo)記,不表示執(zhí)行順序。
本實(shí)用新型實(shí)施例的無(wú)線射頻標(biāo)簽包括的天線環(huán)路,通過(guò)一根導(dǎo)線纏繞形成,導(dǎo)線的一個(gè)端點(diǎn)作為固定端12,導(dǎo)線的另一個(gè)端點(diǎn)作為纏繞端11牽引導(dǎo)線形成特定的纏繞結(jié)構(gòu)。纏繞結(jié)構(gòu)包括環(huán)繞標(biāo)簽芯片04纏繞的平面纏繞結(jié)構(gòu)01,和以平面纏繞結(jié)構(gòu)01為中心在其兩側(cè)對(duì)稱設(shè)置的第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03。標(biāo)簽芯片04位于平面纏繞結(jié)構(gòu)01的中心,纏繞端11和固定端12通過(guò)絕緣導(dǎo)線連接標(biāo)簽芯片04。第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03共軸線,第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03的軸線位于平面纏繞結(jié)構(gòu)01所在平面。
纏繞結(jié)構(gòu)中導(dǎo)線不形成短路。
本實(shí)用新型的無(wú)線射頻標(biāo)簽,通過(guò)改變天線環(huán)路的構(gòu)成結(jié)構(gòu),提高了在各種固定位置時(shí)的電磁感應(yīng)效率,尤其適用薄片形的封裝外殼。通過(guò)在平面天線結(jié)構(gòu)兩側(cè)對(duì)稱設(shè)置立體天線結(jié)構(gòu),使得天線在磁場(chǎng)中具有多個(gè)優(yōu)勢(shì)感應(yīng)方向,可以降低對(duì)形成磁場(chǎng)的射頻信號(hào)的方向性要求,提高信號(hào)感應(yīng)形成的功率信號(hào)的穩(wěn)定性和平均功率值。即使在薄片形封裝外殼中也可以保持優(yōu)勢(shì)感應(yīng)方向,從而解決了封裝外殼方向與天線感應(yīng)方向沒(méi)有較強(qiáng)的相關(guān)性。結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單,可靠性高。
一種優(yōu)化的纏繞結(jié)構(gòu)是平面纏繞結(jié)構(gòu)01的中心位于第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03的軸線上。
圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的無(wú)線射頻標(biāo)簽的天線環(huán)路布設(shè)結(jié)構(gòu)的主視示意圖,圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例的無(wú)線射頻標(biāo)簽的天線環(huán)路布設(shè)結(jié)構(gòu)的左視示意圖。如圖1和圖2所示,天線環(huán)路的平面纏繞結(jié)構(gòu)01為平面中的等距螺旋線,纏繞端自外向內(nèi)螺旋延伸。平面纏繞結(jié)構(gòu)01的形狀為偶對(duì)稱的多邊形,多邊形的邊數(shù)為6。
本實(shí)用新型實(shí)施例中,平面纏繞結(jié)構(gòu)01的形狀有利于接收確定方向的輻射磁場(chǎng),并利用平面纏繞結(jié)構(gòu)01形狀的非回轉(zhuǎn)體特征,避免與第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03間產(chǎn)生微弱自激信號(hào)形成高頻諧振干擾。
在本實(shí)用新型一實(shí)施例中,平面纏繞結(jié)構(gòu)01的形狀為偶對(duì)稱的多邊形的邊數(shù)大于6。
如圖1和圖2所示,第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03相同,為立體的螺旋線。
如圖1和圖2所示,第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02為圓柱螺旋線,圓柱螺旋線對(duì)應(yīng)的參考圓柱的斷面(即與軸線垂直的剖面)為橢圓,橢圓的長(zhǎng)軸和短軸比例大于50:1。
本實(shí)用新型實(shí)施例中,第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03可以在平面纏繞結(jié)構(gòu)01兩側(cè)接收確定方向的輻射磁場(chǎng),使天線回路的磁場(chǎng)切割更高效,感應(yīng)電流功率更穩(wěn)定。
在本實(shí)用新型一實(shí)施例中,第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02為圓錐螺旋線,圓錐螺旋線對(duì)應(yīng)的參考圓錐的斷面(即與軸線垂直的剖面)為橢圓,橢圓的長(zhǎng)軸和短軸比例大于20:1。
本實(shí)用新型實(shí)施例中,采用圓錐螺旋線有利于避免與平面纏繞結(jié)構(gòu)01間產(chǎn)生微弱自激信號(hào)形成高頻諧振干擾。
在本實(shí)用新型上述實(shí)施例的基本結(jié)構(gòu)不變的基礎(chǔ)上,第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03的螺旋線沿指向平面纏繞結(jié)構(gòu)01中心的方向,導(dǎo)程逐漸擴(kuò)大。
本實(shí)用新型實(shí)施例中,導(dǎo)程變化有利于第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03避免與平面纏繞結(jié)構(gòu)01間產(chǎn)生微弱自激信號(hào)形成高頻諧振干擾。
圖3為本實(shí)用新型另一實(shí)施例的無(wú)線射頻標(biāo)簽的天線環(huán)路布設(shè)結(jié)構(gòu)的示意圖。如圖3所示,在本實(shí)用新型上述實(shí)施例的基本結(jié)構(gòu)不變的基礎(chǔ)上,第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03為圓錐螺旋線,圓錐螺旋線對(duì)應(yīng)的參考圓錐的斷面(即與軸線垂直的剖面)為橢圓,橢圓的長(zhǎng)軸和短軸比例大于20:1,圓錐螺旋線在長(zhǎng)軸方向向平面纏繞結(jié)構(gòu)01彎曲。
本實(shí)用新型實(shí)施例中,向平面纏繞結(jié)構(gòu)01彎曲的第一立體纏繞結(jié)構(gòu)02和第二立體纏繞結(jié)構(gòu)03,便于在二維平面的投影內(nèi)改變導(dǎo)線長(zhǎng)度,有利于調(diào)整天線環(huán)路的阻抗匹配調(diào)整。
在實(shí)用新型一實(shí)施例中在本實(shí)用新型上述實(shí)施例的基本結(jié)構(gòu)不變的基礎(chǔ)上,圓柱螺旋線在長(zhǎng)軸方向向平面纏繞結(jié)構(gòu)01彎曲。
本實(shí)用新型實(shí)施例的藝術(shù)品解說(shuō)系統(tǒng),包括上述實(shí)施例的無(wú)線射頻標(biāo)簽??梢赃m應(yīng)更復(fù)雜的布展主題和藝術(shù)品布設(shè)結(jié)構(gòu),可以針對(duì)同一件藝術(shù)品的不同位置進(jìn)行無(wú)線射頻標(biāo)簽的隨意隱蔽固定,不影響無(wú)線射頻標(biāo)簽的感應(yīng)電流功率,可以實(shí)現(xiàn)更精確的局部定位解說(shuō)。
以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。