1.一種觸控顯示面板，其特征在于，包括：
顯示面板，具有封裝蓋板；
以及觸控面板，位于所述顯示面板上；
所述觸控面板包括形成于所述封裝蓋板上的觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)層；
所述觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)層具有用于形成觸控線路的第一刻痕以及用于形成仿真線路的第二刻痕；
所述第一刻痕與所述第二刻痕均呈鋸齒狀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控顯示面板，其特征在于，
所述第一刻痕中鋸齒的寬度為所述顯示面板的像素寬度的1～4倍；
所述第一刻痕中鋸齒的高度為所述顯示面板的像素高度的1～4倍；
所述第二刻痕中鋸齒的寬度為所述顯示面板的像素寬度的1～4倍；
所述第二刻痕中鋸齒的高度為所述顯示面板的像素高度的1～4倍。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控顯示面板，其特征在于，所述觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)層包括：
消影層，形成于所述封裝蓋板上；所述第二刻痕位于所述消影層；
感應(yīng)層；所述第一刻痕位于所述感應(yīng)層；
以及透明絕緣層，位于所述感應(yīng)層與所述消影層之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控顯示面板，其特征在于，所述消影層接地。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控顯示面板，其特征在于，所述透明絕緣層的厚度為50～300nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控顯示面板，其特征在于，所述透明絕緣層為二氧化硅層或氮化硅層。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控顯示面板，其特征在于，所述消影層為氧化銦錫層，所述感應(yīng)層為氧化銦錫層。
8.一種觸控顯示面板的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
在所述封裝蓋板上形成所述觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)層；其中，所述觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)層具有用于形成觸控線路的第一刻痕以及用于形成仿真線路的第二刻痕；
所述第一刻痕與所述第二刻痕均呈鋸齒狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸控顯示面板的制備方法，其特征在于，形成所述觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)層的步驟包括：
在所述封裝蓋板形成透明導(dǎo)電薄膜；
在所述透明導(dǎo)電薄膜上蝕刻出所述第一刻痕以及所述第二刻痕，以形成所述觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)層。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸控顯示面板的制備方法，其特征在于，形成所述觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)層的步驟包括：
在所述封裝蓋板形成第一透明導(dǎo)電薄膜；
在所述第一透明導(dǎo)電薄膜上蝕刻出所述第二刻痕，以形成消影層；
在所述消影層上形成透明絕緣層；
在所述透明絕緣層上形成第二透明導(dǎo)電薄膜；
在所述第二透明導(dǎo)電薄膜上蝕刻出所述第一刻痕，以形成感應(yīng)層。