本發(fā)明涉及觸控技術領域，特別是涉及一種觸控顯示面板及其制備方法。

背景技術：

觸控顯示面板，一般由觸控面板搭配顯示面板組成，以便用戶可以直接點選圖像操作，以達改善人機界面操作的目的。其中觸控面板依其運作原理與結構不同，可分為電阻式、電容式、紅外線式及超音波式等。以目前主流性的觸控面板均為電容式。

電容式觸控面板，一般具有多個導線(即線路)，多個導線彼此平行或交錯而絕緣設置，從而形成各個感應單元布設在該觸控面板的工作區(qū)域之內。通常線路是采用如下方法制成，將透明導電薄膜利用蝕刻工藝產生線路并劃分出各個感應單元。透明導電薄膜，例如氧化銦錫(Indium Tin Oxide，ITO)、納米碳管或有機導電高分子材料，雖為透明材料，不過相對于基材的透光度仍較低。而各該導線間彼此保持適當寬度的間隙，以達絕緣目的，而對于感應這些設置導線的感應單元的電極區(qū)和導線間非線路區(qū)域(亦即該透明導電薄膜的鏤空部位)具有不同的透光率(Transmittance)，所以造成穿透該導電薄膜的光線折射不均，這樣的結果將會導致人眼觀察時會有明顯的圖形產生，尤其是當安置在顯示幕前使用時，就會造成屏幕影像變形、模糊失真的困擾。

為避免前述缺失，目前有些做法是將透明導電薄膜上導線間的非線路區(qū)域內的原導電材料保留不去除，以降低該導電薄膜各部透光率的差異性，上述手段雖有助提升透明導電薄膜的透光率均一性，但是造成線路區(qū)和非線路區(qū)之間的刻痕明顯。特別是在On-cell結構中，透明導電膜的阻值要求低，導致透明導電膜厚度增加，刻痕更加明顯，視覺感受不好，影響顯示效果。

技術實現(xiàn)要素：

基于此，有必要針對現(xiàn)有的觸控顯示面板刻痕明顯的問題，提供一種弱化刻痕、改善視覺感受的觸控顯示面板。

一種觸控顯示面板，包括：

顯示面板，具有封裝蓋板；

以及觸控面板，位于所述顯示面板上；

所述觸控面板包括形成于所述封裝蓋板上的觸控感應結構層；

所述觸控感應結構層具有用于形成觸控線路的第一刻痕以及用于形成仿真線路的第二刻痕；

所述第一刻痕與所述第二刻痕均呈鋸齒狀。

上述觸控顯示面板，由于在觸控線路區(qū)(即有效線路區(qū)，該區(qū)域的線路參與觸控)與仿真線路區(qū)(即非有效線路區(qū)，該區(qū)域的線路不參與觸控，不傳輸觸控信號，形成孤島線路)均有刻痕，這樣在整個觸控顯示面板上都分布有刻痕，從而使觸控線路區(qū)與仿真線路區(qū)的差異較小，從視覺感受上弱化刻痕。另外，在上述觸控顯示面板中，觸控線路區(qū)的的第一刻痕與仿真線路區(qū)的第二刻痕均采用鋸齒狀設計，這樣第一刻痕和第二刻痕采用同種設計，使整個觸控顯示面板的刻痕更加統(tǒng)一，也有利于從視覺上弱化刻痕；還有，相對直線狀的刻痕，鋸齒狀的刻痕從視覺感受上，也可以使刻痕變得不明顯，具有弱化刻痕的效果。

在其中一個實施例中，

所述第一刻痕中鋸齒的寬度為所述顯示面板的像素寬度的1～4倍；

所述第一刻痕中鋸齒的高度為所述顯示面板的像素高度的1～4倍；

所述第二刻痕中鋸齒的寬度為所述顯示面板的像素寬度的1～4倍；

所述第二刻痕中鋸齒的高度為所述顯示面板的像素高度的1～4倍。

采用上述鋸齒與像素的關系，可以使鋸齒狀的刻痕繞著像素設置，進一步使像素發(fā)出的光，基本不受刻痕影響，從而降低刻痕對顯示效果的影響，有利于提高顯示效果。

在其中一個實施例中，所述觸控感應結構層包括：

消影層，形成于所述封裝蓋板上；所述第二刻痕位于所述消影層；

感應層，所述第一刻痕位于所述感應層；

以及透明絕緣層，位于所述感應層與所述消影層之間。

在其中一個實施例中，所述消影層接地。

在其中一個實施例中，所述透明絕緣層的厚度為50～300nm。

在其中一個實施例中，所述透明絕緣層為二氧化硅層或氮化硅層。

在其中一個實施例中，所述消影層為氧化銦錫層，所述感應層為氧化銦錫層。

本發(fā)明還提供了一種觸控顯示面板的制備方法。

一種觸控顯示面板的制備方法，包括如下步驟：

在所述封裝蓋板上形成所述觸控感應結構層；其中，所述觸控感應結構層具有用于形成觸控線路的第一刻痕以及用于形成仿真線路的第二刻痕；

所述第一刻痕與所述第二刻痕均呈鋸齒狀。

上述觸控顯示面板的制備方法，可以從視覺感受上弱化刻痕；并且降低刻痕對顯示效果的影響。

在其中一個實施例中，形成所述觸控感應結構層的步驟包括：

在所述封裝蓋板形成透明導電薄膜；

在所述透明導電薄膜上蝕刻出所述第一刻痕以及所述第二刻痕，以形成所述觸控感應結構層。在其中一個實施例中，形成所述觸控感應結構層的步驟包括：

在所述封裝蓋板形成第一透明導電薄膜；

在所述第一透明導電薄膜上蝕刻出所述第二刻痕，以形成消影層；

在所述消影層上形成透明絕緣層；

在所述透明絕緣層上形成第二透明導電薄膜；

在所述第二透明導電薄膜上蝕刻出所述第一刻痕，以形成感應層。

附圖說明

圖1為本發(fā)明一實施方式的觸控顯示面板的結構示意圖。

圖2為本發(fā)明一實施方式的刻痕布局設計局部示意圖。

圖3為圖2中A處的放大圖。

圖4為本發(fā)明另一實施方式的刻痕布局設計局部示意圖。

圖5為圖4中圓圈處的放大圖。

圖6為本發(fā)明另一實施方式的觸控顯示面板的結構示意圖。

具體實施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

需要說明的是，當元件被稱為“設置于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當一個元件被認為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。本文所使用的術語“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的，并不表示是唯一的實施方式。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術和科學術語與屬于本發(fā)明的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本發(fā)明的說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施方式的目的，不是旨在于限制本發(fā)明。本文所使用的術語“及/或”包括一個或多個相關的所列項目的任意的和所有的組合。

參見圖1，本發(fā)明實施例一的觸控顯示面板100，包括：顯示面板200以及位于顯示面板200上的觸控面板300。

其中，顯示面板200為觸控顯示面板100的顯示部分；其主要作用是，用于顯示圖像。觸控面板300為觸控顯示面板100的觸控部分；其主要作用是，用于檢測用戶觸摸以獲取位置信息。

具體地，顯示面板200包括封裝蓋板210，觸控面板300形成于該封裝蓋板210上。也就是說，封裝蓋板210同時還作為觸控面板300基材，觸控面板300不單獨設置基材，也即顯示面板200的封裝蓋板210與觸控面板300的基板合二為一。整個觸控顯示面板100為on-cell結構。這樣可以有利于降低整個觸控顯示面板100的厚度。

當然，顯示面板200除了封裝蓋板210，還包括襯底220以及形成于襯底220上的像素結構層230。在像素結構層230中含有若干像素單元(未示出)。顯示面板200的具體結構可以采用本領域技術人員所公知的結構，在此不再贅述。

在本實施例中，顯示面板200為OLED屏，當然可以理解的是，顯示面板200并不局限于OLED屏，還可以其它顯示屏，例如LCD屏。

具體地，觸控面板300包括形成于封裝蓋板210上的觸控感應結構層；觸控感應結構層，在觸摸時檢測電容變化并獲取該點的位置信息。

在本實施例中，觸控感應結構層為單層結構。也就是說，觸控感應結構層由一層透明導電薄膜在其上刻蝕出刻痕形成。

在本實施例中，觸控感應結構層由氧化銦錫薄膜刻蝕得到。當然，可以理解的是，還可以由其它透明導電薄膜刻蝕得到，例如氧化銦鋅層、氧化鋅鋁層、聚乙撐二氧噻吩層等。

結合圖1參見圖2-5，具體地，觸控感應結構層具有用于形成觸控線路的第一刻痕301以及用于形成仿真線路的第二刻痕302。也就是說，觸控感應結構層劃分為觸控線路區(qū)300a和仿真線路區(qū)300b，觸控線路區(qū)300a即有效線路區(qū)，其中的線路與外部控制線路連接，用于獲得觸摸點的位置信息；仿真線路區(qū)300b即非有效線路區(qū)，其中的線路不與外部控制線路連接，不參與觸控；而是形成孤島線路，不傳輸觸摸信號電流。在觸控線路區(qū)300a的透明導電薄膜利用第一刻痕301刻畫出觸控線路，在仿真線路區(qū)300b的透明導電薄膜利用第二刻痕302刻畫出仿真線路。

具體地，第一刻痕301與第二刻痕302均呈鋸齒狀。相對直線狀的刻痕，鋸齒狀的刻痕從視覺感受上，也可以使刻痕變得不明顯，具有弱化刻痕的效果。

優(yōu)選地，第一刻痕301中鋸齒的寬度為顯示面板的像素寬度的1～4倍；第一刻痕301中鋸齒的高度為顯示面板的像素高度的1～4倍；第二刻痕302中鋸齒的寬度為顯示面板的像素寬度的1～4倍；第二刻痕302中鋸齒的高度為顯示面板的像素高度的1～4倍。

其中，刻痕中鋸齒的寬度是指一個鋸齒中兩條斜線在像素寬度方向的跨度，也即圖中一個鋸齒最左側到最右側的距離。刻痕中鋸齒的高度是指一個鋸齒中兩條斜線在像素高度方向上跨度，也即圖中一個鋸齒的齒根到齒尖的距離。

由于上述特殊的刻痕設計，第一刻痕301與第二刻痕302可以繞著像素設置，進一步使像素發(fā)出的光，基本不受刻痕影響，從而降低刻痕對顯示效果的影響，有利于提高顯示效果。

在本實施例中，第二刻痕302中鋸齒的寬度為像素寬度的2倍；第二刻痕302中鋸齒的高度為像素高度的4倍。

圖2和圖3為本發(fā)明一種刻痕的布局設計。在圖2和圖3中，為了方便顯示，只對其中一個仿真線路區(qū)300b及其附近的第一刻痕301進行了顯示，其它部分的刻痕未示出。

在圖2和圖3的設計中，第二刻痕302基本以平行狀態(tài)排布，也即第二刻痕302的鋸齒朝向一直，即沿垂直于鋸齒的延伸方向，不同的第二刻痕302中，鋸齒的齒尖對齒尖，齒凹對齒凹。

圖4和圖5為本發(fā)明另一種第二刻痕的布局設計。在圖4和圖5的設計中，間隔的第二刻痕302的鋸齒朝向相對。即沿垂直于鋸齒的延伸方向，不同的第二刻痕302中，鋸齒的齒尖對齒凹，齒凹對齒尖。

參見圖6，圖6為本發(fā)明實施例二的觸控顯示面板的結構示意圖。本實施例的觸控顯示面板400與實施例一的觸控顯示面板100基本相同，與實施例一所不同的是，觸控感應結構層為復合層結構。

具體地，觸控感應結構層包括感應層310、消影層320、以及位于感應層310和消影層320之間的透明絕緣層330。

結合參見圖2-6，其中，感應層310的主要作用是，感應觸摸并獲取觸摸點的位置信息。也就是說，觸控線路設置在感應層310上，對應地，第一刻痕301位于感應層310上。感應層310的觸控線路區(qū)300a的透明導電薄膜被第一刻痕301蝕刻出觸控線路。

其中，消影層320的主要作用是，設置第二刻痕302，從而從視覺上弱化第一刻痕301。也就是說，第二刻痕302位于消影層320上，對應地，仿真線路設置在消影層320上。消影層320的仿真線路區(qū)300b的透明導電薄膜被第二刻痕302蝕刻出仿真線路。

其中，透明絕緣層330的主要作用是，將感應層310和消影層320絕緣。在本實施例中，透明絕緣層330的厚度為50～300nm。這樣既可以保證感應層310和消影層320之間具有良好的絕緣效果，同時有利于光線穿過，減少透明絕緣層330對光的吸收。

優(yōu)選地，透明絕緣層330為二氧化硅層或氮化硅層。當然，可以理解的是，本發(fā)明的透明絕緣層330還可以是其它透明導電材料薄膜構成。

在本實施例中，消影層320形成于封裝蓋板210上。也就是說，在觸控感應結構層中，消影層320靠近顯示面板，而感應層310遠離顯示面板。這樣感應層310更靠近用戶一側，從而更有利于感應用戶觸摸，提高觸控面板300的靈敏度。

在本實施例中，消影層320接地。這樣消影層320的透明導電薄膜起到屏蔽層的作用，可以有效屏蔽顯示面板200的噪音干擾，進一步提高觸控面板300的性能。具體地，可以在透明絕緣層330中開設過孔(未示出)，將消影層320的透明導電薄膜通過過孔與接地電路連接以實現(xiàn)接地。

當然，可以理解的是，本發(fā)明的消影層320并不局限于接地，還可以是消影層320不接地。

在本實施例中，感應層310、以及消影層320均由氧化銦錫薄膜刻蝕得到。當然，可以理解的是，還可以由其它透明導電薄膜刻蝕得到，例如氧化銦鋅層、氧化鋅鋁層、聚乙撐二氧噻吩層等。還可以理解的是，感應層310與消影層320的透明導電薄膜的材料可以相同，也可以不同。

本發(fā)明所提供的觸控顯示面板，由于在觸控線路區(qū)(即有效線路區(qū)，該區(qū)域的線路參與觸控)與仿真線路區(qū)(即非有效線路區(qū)，該區(qū)域的線路不參與觸控，不傳輸觸控信號，形成孤島線路)均有刻痕，這樣在整個觸控顯示面板上都分布有刻痕，從而使觸控線路區(qū)與仿真線路區(qū)的差異較小，從視覺感受上弱化刻痕。另外，在上述觸控顯示面板中，觸控線路區(qū)的的第一刻痕與仿真線路區(qū)的第二刻痕均采用鋸齒狀設計，同時滿足與像素的之間關系，這樣第一刻痕和第二刻痕采用同種設計，使整個觸控顯示面板的刻痕更加統(tǒng)一，也有利于從視覺上弱化刻痕；并且鋸齒狀的刻痕可以繞著像素設置，像素發(fā)出的光，基本不受刻痕影響，從而降低刻痕對顯示效果的影響，有利于提高顯示效果，還有，相對直線狀的刻痕，鋸齒狀的刻痕從視覺感受上，也可以使刻痕變得不明顯，具有弱化刻痕的效果。

本發(fā)明還提供了一種觸控顯示面板的制備方法。

一種觸控顯示面板的制備方法，包括如下步驟：

在封裝蓋板上形成觸控感應結構層；其中，觸控感應結構層具有用于形成觸控線路的第一刻痕以及用于形成仿真線路的第二刻痕；

所述第一刻痕與所述第二刻痕均呈鋸齒狀。

當然，可以理解的是，觸控顯示面板的制備方法還包括其它步驟，其它步驟可以采用本領域技術人員所公知的步驟和步驟順序。

若觸控感應結構層為單層結構，則形成觸控感應結構層的具體步驟包括：

在封裝蓋板形成透明導電薄膜；在透明導電薄膜上蝕刻出第一刻痕以及第二刻痕，以形成所述觸控感應結構層。

優(yōu)選地，在透明導電薄膜上，采用一張掩膜板同時蝕刻出第一刻痕以及第二刻痕。

若觸控感應結構層為復合層結構，則形成觸控感應結構層的步驟包括：

在封裝蓋板形成第一透明導電薄膜；在第一透明導電薄膜上蝕刻出第二刻痕，以形成消影層；

在消影層上形成透明絕緣層；

在透明絕緣層上形成第二透明導電薄膜；在第二透明導電薄膜上蝕刻出第一刻痕，以形成感應層。

上述觸控顯示面板的制備方法，可以從視覺感受上弱化刻痕；并且降低刻痕對顯示效果的影響。

以上所述實施例的各技術特征可以進行任意的組合，為使描述簡潔，未對上述實施例中的各個技術特征所有可能的組合都進行描述，然而，只要這些技術特征的組合不存在矛盾，都應當認為是本說明書記載的范圍。

以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對發(fā)明專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明專利的保護范圍應以所附權利要求為準。