1.基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述圖像融合模塊包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述光學(xué)修正模塊包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述預(yù)處理模塊包括:
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述初步缺陷檢測(cè)模塊包括:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述精細(xì)缺陷分析模塊包括:
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述自適應(yīng)過濾模塊包括:
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述動(dòng)態(tài)坐標(biāo)映射模塊包括:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng),其特征在于,所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)與分析模塊包括:
10.基于工業(yè)相機(jī)檢測(cè)的織帶質(zhì)量檢測(cè)方法,其特征在于,應(yīng)用于如權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)中,所述方法包括以下步驟: