本發(fā)明創(chuàng)造涉及硅晶片測試技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種硅晶片測試探針臺。
背景技術(shù):
硅晶片是由硅錠加工而成,通過專門的工藝可以在硅晶片上刻蝕出數(shù)以百萬計的晶體管,被廣泛應用于集成電路的制造,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓,對晶圓進行電氣測試的機器就是探針臺?,F(xiàn)有的探針臺只能對圓形的硅晶片(晶圓)進行測試,無法測試一些特殊形狀的硅晶片,泛用性不足。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明創(chuàng)造的目的在于避免上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處而提供一種硅晶片測試探針臺,使探針臺不僅能測試圓形的硅晶片,還能對特殊形狀的硅晶片進行測試。
本發(fā)明創(chuàng)造的目的通過以下技術(shù)方案實現(xiàn):
一種硅晶片測試探針臺,包括控制器和分別與控制器通訊連接的真空吸盤、探針卡和顯示裝置,真空吸盤受控制器觸發(fā)以吸緊待測硅晶片,控制器把探針卡的測試數(shù)據(jù)傳輸至顯示裝置,還包括設置于真空吸盤和待測硅晶片之間的圓形導電承載板,導電承載板頂面設有放置待測硅晶片的放置區(qū),放置區(qū)上開有貫穿到導電承載板底面的空氣通道,放置區(qū)覆蓋有與待測硅晶片貼接的導電膠層。
其中,所述導電承載板底面設有電控開關(guān),電控開關(guān)的一端電連接導電承載板,另一端接地,控制器控制電控開關(guān)的導通或斷開。
其中,所述電控開關(guān)為繼電器。
其中,所述電控開關(guān)為場效應管,場效應管柵極經(jīng)電阻R2連接至控制器控制端,場效應管漏極電連接所述導電承載板,場效應管源極接地,場效應管源極與柵極之間設有電阻R3,同時控制器控制端設有上拉電阻R1。
其中,所述導電承載板底面還設有硬度加強架,硬度加強架與導電承載板膠接。
其中,所述導電承載板為銅板。
其中,所述空氣通道包括多個通槽,各個通槽均勻分布于所述放置區(qū)。
其中,所述導電膠層設置有定位孔。
其中,所述導電承載板頂面非放置區(qū)設有絕緣層。
其中,還包括可拆卸的下墨裝置,控制器根據(jù)探針卡的測試數(shù)據(jù)控制下墨裝置下墨。
外加所述導電承載板不僅不會妨礙原有真空吸盤工作(真空吸盤通過空氣通道照常將待測硅晶片機吸緊,通過設置導電膠層使真空吸盤照常與待測硅晶片電連接),還可以使不同形狀的待測硅晶片通過導電承載板放置在傳統(tǒng)真空吸盤的圓形吸口上,再由控制器控制探針卡進行測試。與現(xiàn)有的探針臺相比,本發(fā)明創(chuàng)造的探針臺不僅能測試傳統(tǒng)的圓形硅晶片,還能對特殊形狀的硅晶片進行測試,具有泛用性,且因為無需對傳統(tǒng)探針臺進行較大改動,僅需外加導電承載板就能實現(xiàn)上述目的,所以也就無需對探針臺進行更換,節(jié)約成本,也方便應用。
附圖說明
利用附圖對本發(fā)明創(chuàng)造創(chuàng)造作進一步說明,但附圖中的實施例不構(gòu)成對本發(fā)明創(chuàng)造創(chuàng)造的任何限制,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)以下附圖獲得其它的附圖。
圖1為本發(fā)明創(chuàng)造創(chuàng)造的一種硅晶片測試探針臺的系統(tǒng)示意圖。
圖2為本發(fā)明創(chuàng)造創(chuàng)造的一種硅晶片測試探針臺的導電承載板的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本發(fā)明創(chuàng)造創(chuàng)造的一種硅晶片測試探針臺的導電承載板的剖面示意圖。
圖4為本發(fā)明創(chuàng)造創(chuàng)造實施例2的場效應管的電路圖。
附圖標記:1——真空吸盤、 2——探針卡、 3——顯示裝置、41——導電承載板、 411——放置區(qū)、 42——通槽、 43——導電膠層、 44——電控開關(guān)、 45——硬度加強架、 46——絕緣層、 47——定位孔。
具體實施方式
結(jié)合以下實施例對本發(fā)明創(chuàng)造作進一步描述。
實施例1
如圖1所示的一種硅晶片測試探針臺,包括控制器、真空吸盤1、探針卡2、顯示裝置3和由銅制成的導電承載板41,其中控制器與真空吸盤1、探針卡2和顯示裝置3分別與控制器通訊連接,圓形的導電承載板41被設置于真空吸盤1和待測硅晶片之間,參考圖2,導電承載板41包括放置待測硅晶片的放置區(qū)411,該放置區(qū)411上開有貫穿到導電承載板41底面的空氣通道,參考圖3,放置區(qū)411頂面覆蓋有與待測硅晶片貼接的導電膠層43。導電承載板41底面設有作為電控開關(guān)44的繼電器,其中繼電器的一端電連接導電承載板41,另一端接地,繼電器的受控端與控制器電連接。需要說明的是,放置區(qū)411不局限于附圖中表示的形狀,也可以是其他應實際需要產(chǎn)生的形狀。
探針臺工作時,真空吸盤1上放置有導電承載板41,將待測硅晶片放置到放置區(qū)411的導電膠層43上后控制器啟動真空吸盤1,真空吸盤1通過空氣通道將待測硅晶片與導電膠層43之間的空氣抽出,使待測硅晶片緊緊貼合在導電膠層43上,在固定測硅晶片的同時實現(xiàn)測硅晶片上的每個點都能與導電承載板41良好的電接觸(測硅晶片和導電承載板41表面受制造工藝影響不可能到達理論上的平齊,而是微觀上凹凸不平,單純導電承載板41和待測硅晶片貼合有些點無法良好地電接觸)。利用探針臺的手動模式對控制器重新劃分測試區(qū)域后,再由控制器控制探針卡2進行測試,并將探針卡2的測試數(shù)據(jù)傳輸至顯示裝置3進行顯示。需要說明的是,與傳統(tǒng)的測試相比,本探針臺的探針卡2的探針在接觸待測硅晶片的過程中,控制器會控制繼電器先導通再斷開。由于待測硅晶片需要進行一次接地測試和一次懸空測試,傳統(tǒng)的做法是待測硅晶片接上地后測一次,測試完后待測硅晶片懸空再測一次,如此效率不高,而本探針臺的探針在接觸待測硅晶片的過程中,控制器會控制繼電器先導通(接地)再斷開(懸空),將接地測試和懸空測試在一次測試過程中都完成了,將以往的兩道工藝變成現(xiàn)在的一道工藝,效率更高。
參考圖3,進一步地,導電承載板41底面還設置有硬度加強架45,硬度加強架45與導電承載板41膠接,以加強導電承載板41的硬度,在真空吸的過程中更不易變形。
參考圖2,進一步地,空氣通道包括多個通槽42,各個通槽42均勻分布于所述放置區(qū)411,從而保證真空吸盤1對整個待測硅晶片的吸力均勻。
進一步地,導電膠層43設置有定位孔47,具體地,在導電膠層43的中心位置設置有下凹圓點,待測硅晶片貼合至導電膠層43時,其中心位置對準下凹圓點,保證測硅晶片貼在導電膠層43的正中位置,以避免探針卡2下針時出現(xiàn)下針偏離的情況。
參考圖3,進一步地,導電承載板41頂面非放置區(qū)411設有絕緣層46,避免探針卡2下針時電接觸到導電承載板41。
本探針臺還包括可拆卸的下墨裝置,下墨裝置與控制器通訊連接,控制器根據(jù)探針卡2的測試數(shù)據(jù)控制下墨裝置下墨。具體的,下墨裝置為INK機,INK機與探針臺螺栓連接,從而使得INK機可拆卸,由于INK機在探針卡2測試完成后才能進行工作,兩者不存在同時使用的需求,將INK機設成可拆卸結(jié)構(gòu),在探針卡2測試完成后在進行安裝以工作,可以大大減少探針臺的體積,且INK機非探針臺必需,可拆卸結(jié)構(gòu)使探針臺可以靈活銷售。
外加所述導電承載板41不僅不會妨礙原有真空吸盤1工作(真空吸盤1通過空氣通道照常將待測硅晶片機吸緊,通過設置導電膠層43使真空吸盤41照常與待測硅晶片電連接),還可以使不同形狀的待測硅晶片通過導電承載板41放置在傳統(tǒng)真空吸盤1的圓形吸口上,再由控制器控制探針卡2進行測試。與現(xiàn)有的探針臺相比,本發(fā)明創(chuàng)造的探針臺不僅能測試傳統(tǒng)的圓形硅晶片,還能對特殊形狀的硅晶片進行測試,具有泛用性,且因為無需對傳統(tǒng)探針臺進行較大改動,僅需外加導電承載板41就能實現(xiàn)上述目的,所以也就無需對探針臺進行更換,節(jié)約成本,也方便應用。
實施例2
在實施例1的基礎(chǔ)上,將電控開關(guān)44由繼電4器改為場效應管,具體地,參考圖4,場效應管柵極經(jīng)電阻R2連接至控制器控制端,場效應管漏極電連接所述導電承載板41,場效應管源極接地,場效應管源極與柵極之間設有電阻R3,同時控制器控制端設有上拉電阻R1。探針卡2的探針在接觸待測硅晶片的過程中,控制器控制場效應管先導通再斷開。
最后應當說明的是,以上實施例僅用以說明本發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案,而非對本發(fā)明創(chuàng)造保護范圍的限制,盡管參照較佳實施例對本發(fā)明創(chuàng)造作了詳細地說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應當理解,可以對本發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案進行修改或者等同替換,而不脫離本發(fā)明創(chuàng)造技術(shù)方案的實質(zhì)和范圍。