技術(shù)特征：

1.一種聚對亞苯基亞乙烯共軛高分子熒光納米材料在潛指紋顯現(xiàn)中的應(yīng)用，其特征在于：所述潛指紋為直接按壓于膠帶粘性面的指紋；潛指紋的顯現(xiàn)方法包括如下步驟：

（1）將聚對亞苯基亞乙烯熒光共軛高分子納米粒子懸浮液稀釋、分散于去離子水中，制得顯影劑；

（2）將負(fù)載指紋的膠帶浸入顯影劑中，顯影處理 5～10 min，得到指紋顯影后的膠帶；

（3）經(jīng)去離子水漂洗、干燥后，再在365 nm的紫外光條件下，得到顯現(xiàn)的膠帶粘性面的潛指紋。