技術(shù)編號：12466171
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種高分子熒光納米材料用于顯現(xiàn)潛指紋的方法，特別涉及一種對膠帶粘性面上的潛指紋進(jìn)行顯影的方法，屬于痕量檢測技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)一直以來，指紋識別技術(shù)作為一種生物識別技術(shù)而受到研究人員的極大關(guān)注，其中對于潛指紋的顯現(xiàn)尤為重要。潛指紋不同于明顯紋和成型紋，肉眼不可見，但卻是案發(fā)現(xiàn)場最常見的一類指紋，因此對此類指紋的顯現(xiàn)成為指紋工作者的最基礎(chǔ)工作。目前已經(jīng)有許多方法可以對潛指紋進(jìn)行顯影工作，比如粉末法、502熏顯法、茚三酮染色法以及真空鍍膜法等，但是這些方法對于膠帶粘性面潛指紋的顯現(xiàn)效果很難達(dá)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。