專利名稱：背光模擬治具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及背光源技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種背光模擬治具。
背景技術(shù)：
直下式背光源的結(jié)構(gòu)參數(shù)，如混光高度、光源間距等是顯示器中的重要技術(shù)指標(biāo)。目前，現(xiàn)有技術(shù)是通過計算機的光學(xué)軟件模擬背光源的狀態(tài)來測量背光源的結(jié)構(gòu)參數(shù)。然而，通過計算機軟件模擬出的背光源狀態(tài)與實際的背光源狀態(tài)會有一定的偏差，無法準(zhǔn)確測量實際的背光源結(jié)構(gòu)參數(shù)。·
實用新型內(nèi)容本實用新型的實施例提供一種背光模擬治具，實現(xiàn)通過實際部件來模擬背光源狀態(tài)，進而使得測量背光源的結(jié)構(gòu)參數(shù)的結(jié)果更加準(zhǔn)確。為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的實施例采用如下技術(shù)方案一種背光模擬治具，其特征在于，包括底部反射片；設(shè)置于所述底部反射片上方的多個可移動光源；設(shè)置于所述光源上方的可移動光學(xué)膜材，所述光學(xué)膜材用于將所述多個光源轉(zhuǎn)化為面光源；設(shè)置于所述光學(xué)膜材上方的光學(xué)測量儀，所述光學(xué)測量儀用于測量所述光學(xué)膜材的出光均勻度和/或亮度。具體地，每個所述光源為線光源或點光源。進一步地，上述的背光模擬治具，還包括用于測量所述反射片、光源和光學(xué)膜材三者中任意兩者之間距離的高度測量尺；用于測量兩個相鄰所述光源之間距離的水平測量尺。具體地，所述高度測量尺為用于支撐所述光學(xué)膜材的支撐柱，所述支撐柱上設(shè)置有刻度。具體地，每個所述光源上設(shè)置有用于使所述光源移動的光源高度調(diào)節(jié)裝置和水平調(diào)節(jié)裝置；所述光學(xué)膜材上設(shè)置有用于使所述光學(xué)膜材垂直移動的膜材高度調(diào)節(jié)裝置。進一步地，還包括用于支撐所述反射片的底部支撐板。本實用新型實施例中的背光模擬治具，與現(xiàn)有技術(shù)通過計算機的光學(xué)軟件模擬背光源的狀態(tài)相比，由于通過實際部件來模擬背光源狀態(tài)，避免了計算機軟件模擬出的背光源狀態(tài)與實際的背光源狀態(tài)之間的偏差，進而使得測量背光源的結(jié)構(gòu)參數(shù)的結(jié)果更加準(zhǔn)確。

[0019]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖I為本實用新型實施例中一種背光模擬治具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型實施例中另一種背光模擬治具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實用新型實施例中另一種背光模擬治具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實用新型實施例中另一種背光模擬治具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本實用新型實施例中另一種背光模擬治具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本實用新型實施例中另一種背光模擬治具的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記說明I-底部支撐板；2_底部反射片；3_光源；31-光源高度調(diào)節(jié)裝置；32_水平調(diào)節(jié)裝置；4_光學(xué)膜材；41_膜材高度調(diào)節(jié)裝置；5_光學(xué)測量儀；6_高度測量尺；7_水平測量尺；8-旋鈕。
具體實施方式
下面將結(jié)合本實用新型實 施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。如圖I所示，本實用新型實施例提供了一種背光模擬治具，包括底部支撐板1，設(shè)置于底部支撐板I上的底部反射片2，底部支撐板I用于支撐底部反射片2及其他部件；設(shè)置于底部反射片2上方的多個可移動光源3 ;設(shè)置于光源3上方的可移動光學(xué)膜材4，光學(xué)膜材4用于將多個光源轉(zhuǎn)化為面光源；設(shè)置于光學(xué)膜材4上方的光學(xué)測量儀5，光學(xué)測量儀5用于測量光學(xué)膜材4的出光均勻度和/或亮度。上述背光模擬治具模擬實際的背光源狀態(tài)的方法具體為調(diào)節(jié)光源3與底部反射片2之間的距離，即調(diào)節(jié)光源3的高度；調(diào)節(jié)光源3與光源3之間的間距，即調(diào)節(jié)光源3的水平位置；調(diào)節(jié)光學(xué)膜材4與光源3之間的距離，即調(diào)節(jié)光學(xué)膜材4的高度。上述三個調(diào)節(jié)步驟之后，點亮光源3，此時通過光學(xué)測量儀5對光學(xué)膜材4上顯示的畫面進行評判，即測量光學(xué)膜材4的出光均勻度和/或亮度，若光學(xué)膜材4的出光均勻度和/或亮度沒有達到標(biāo)準(zhǔn)，則重復(fù)上述三個步驟對光源3或光學(xué)膜材4的位置進行調(diào)節(jié)，直到光學(xué)膜材4的出光均勻度和/或亮度達到標(biāo)準(zhǔn)，則完成了模擬背光源狀態(tài)。另外，還可以更換不同材料的光學(xué)膜材4，并通過光學(xué)測量儀5對不同的光學(xué)膜材4上顯示的畫面進行評判，以選擇較佳的光學(xué)膜材來模擬背光源狀態(tài)。在完成了模擬背光源狀態(tài)之后，可以進一步通過測量尺對背光源結(jié)構(gòu)參數(shù)進行測量，背光源結(jié)構(gòu)參數(shù)具體包括光源3與底部反射片2之間的距離、光源3與光源3之間的間距、光學(xué)膜材4與光源3之間的距離以及混光高度，混光高度為光學(xué)膜材4與底部反光片2之間的距離。本實用新型實施例中的背光模擬治具，與現(xiàn)有技術(shù)通過計算機的光學(xué)軟件模擬背光源的狀態(tài)相比，由于通過實際部件來模擬背光源狀態(tài)，避免了計算機軟件模擬出的背光源狀態(tài)與實際的背光源狀態(tài)之間的偏差，進而使得測量背光源的結(jié)構(gòu)參數(shù)的結(jié)果更加準(zhǔn)確。進一步地，每個光源3可以為如圖2所示的線光源，例如燈管，每個光源3還可以為如圖3所示的點光源,例如發(fā)光二極管(Light Emitting Diode, LED)。進一步地，如圖4所示，上述的背光模擬治具，還包括用于測量反射片I、光源3和光學(xué)膜材4三者中任意兩者之間距離的高度測量尺6 ;用于測量兩個相鄰光源3之間距離的水平測量尺7，具體地，若光源3為線光源，由于多個線光源平行設(shè)置，只需要一個方向上的水平測量尺7即可測量兩個相鄰線光源之間的距離，若光源3為點光源，由于多個點光源呈矩陣排列，則需要相互垂直的兩個方向上都設(shè)置 水平測量尺來測量兩個方向上相鄰點光源之間的距離。由于可以直接通過高度測量尺6和水平測量尺7來讀取背光源的結(jié)構(gòu)參數(shù)，無需另外使用測量工具，使得測量更加簡單。具體地，高度測量尺6可以為用于支撐光學(xué)膜材4的支撐柱，支撐柱上設(shè)置有刻度。具體地,如圖5和圖6所不,每個光源3上設(shè)置有用于使光源3移動的光源高度調(diào)節(jié)裝置31和水平調(diào)節(jié)裝置32 ;光學(xué)膜材4上設(shè)置有用于使光學(xué)膜材4垂直移動的膜材高度調(diào)節(jié)裝置41。水平調(diào)節(jié)裝置32和膜材高度調(diào)節(jié)裝置41上分別設(shè)置有旋鈕8，通過旋鈕8可以方便地控制調(diào)節(jié)裝置使光源3水平移動或使光學(xué)膜材4上下移動。使得各部件的位置調(diào)節(jié)更加方便。需要說明的是，圖5和圖6只示意了線光源的調(diào)節(jié)裝置，點光源同樣可以通過調(diào)節(jié)裝置進行移動。背光模擬治具模擬實際的背光源狀態(tài)的方法以及背光源結(jié)構(gòu)參數(shù)的測量方法與上述實施例相同，在此不再贅述。本實用新型實施例中的背光模擬治具，與現(xiàn)有技術(shù)通過計算機的光學(xué)軟件模擬背光源的狀態(tài)相比，由于通過實際部件來模擬背光源狀態(tài)，避免了計算機軟件模擬出的背光源狀態(tài)與實際的背光源狀態(tài)之間的偏差，進而使得測量背光源的結(jié)構(gòu)參數(shù)的結(jié)果更加準(zhǔn)確。以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式
，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種背光模擬治具，其特征在于，包括 底部反射片； 設(shè)置于所述底部反射片上方的多個可移動光源； 設(shè)置于所述光源上方的可移動光學(xué)膜材，所述光學(xué)膜材用于將所述多個光源轉(zhuǎn)化為面光源； 設(shè)置于所述光學(xué)膜材上方的光學(xué)測量儀，所述光學(xué)測量儀用于測量所述光學(xué)膜材的出光均勻度和/或亮度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的背光模擬治具，其特征在于， 每個所述光源為線光源或點光源。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的背光模擬治具，其特征在于，還包括 用于測量所述反射片、光源和光學(xué)膜材三者中任意兩者之間距離的高度測量尺； 用于測量所述光源之間距離的水平測量尺。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的背光模擬治具，其特征在于， 所述高度測量尺為用于支撐所述光學(xué)膜材的支撐柱，所述支撐柱上設(shè)置有刻度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的背光模擬治具，其特征在于， 每個所述光源上設(shè)置有用于使所述光源移動的光源高度調(diào)節(jié)裝置和水平調(diào)節(jié)裝置； 所述光學(xué)膜材上設(shè)置有用于使所述光學(xué)膜材垂直移動的膜材高度調(diào)節(jié)裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5中任意一項所述的背光模擬治具，其特征在于，還包括 用于支撐所述反射片的底部支撐板。
專利摘要本實用新型公開了一種背光模擬治具，涉及背光源顯示器技術(shù)領(lǐng)域，實現(xiàn)通過實際部件來模擬背光源狀態(tài)，進而使得測量背光源的結(jié)構(gòu)參數(shù)的結(jié)果更加準(zhǔn)確。該背光模擬治具包括底部反射片；設(shè)置于所述底部反射片上方的多個可移動光源；設(shè)置于所述光源上方的可移動光學(xué)膜材，所述光學(xué)膜材用于將所述多個光源轉(zhuǎn)化為面光源；設(shè)置于所述光學(xué)膜材上方的光學(xué)測量儀，所述光學(xué)測量儀用于測量所述光學(xué)膜材的出光均勻度和/或亮度。
文檔編號G01J1/00GK202793745SQ201220446000
公開日2013年3月13日 申請日期2012年9月3日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月3日
發(fā)明者楊陽, 劉同敏 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 合肥京東方顯示光源有限公司