專利名稱：巷控供氣側(cè)線地下氣化爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及煤炭地下氣化領(lǐng)域，特別涉及地下氣化爐技術(shù)。
背景技術(shù)：
煤炭地下氣化技術(shù)是將埋藏在地下的煤炭就地進(jìn)行有控制的燃燒,通過煤的化學(xué)反應(yīng) 與熱作用產(chǎn)生可燃?xì)怏w并將其輸送應(yīng)用的潔凈煤技術(shù)。以集建井、釆煤、氣化三大工藝為 一體的工藝特征，被譽(yù)為第二代采煤法，深受世界各國的重視。但是，煤炭地下氣化工程 技術(shù)還很不完善，有氣化強(qiáng)度、產(chǎn)氣連續(xù)穩(wěn)定、產(chǎn)氣組分、氣化率等許多需要進(jìn)一步研究、 優(yōu)化和改進(jìn)的問題。
現(xiàn)有氣化采煤技術(shù)氣化效果差、產(chǎn)氣欠連續(xù)、穩(wěn)定，產(chǎn)氣量少、氣化率低。本發(fā)明是 在總結(jié)世界上現(xiàn)有地下氣化技術(shù)和燃燒控制技術(shù)基礎(chǔ)上，結(jié)合最新的建礦技術(shù)有機(jī)融和而 成。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的技術(shù)任務(wù)是針對現(xiàn)有技術(shù)中的不足提供一種煤炭地下氣化爐以及相應(yīng)的造 爐、供氣和運行新工藝系統(tǒng)，該系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單、設(shè)置容易、運行可靠，能多點同時氣化， 有提高產(chǎn)量，實現(xiàn)供氣保護(hù)、可控、按需調(diào)整等優(yōu)點，可以同時解決氣化效果差、產(chǎn)氣欠 連續(xù)、穩(wěn)定，產(chǎn)氣量少、氣化率低等多個問題。
本發(fā)明所釆用的技術(shù)方案是巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，包括煤氣通道、在煤氣通道 內(nèi)定向鉆進(jìn)的煤層底部的排鉆 L、設(shè)于煤層底板巖石內(nèi)的供氣巷道、供氣管道以及各類溫 度、壓力流量測試儀表儀器閥門、供氣巷道與排鉆孔之間的供氣支管等。本發(fā)明地下氣化 爐的供氣巷道、供氣管道、供氣控制點均位于氣化爐底部巖石內(nèi)，并通過向上鉆孔與設(shè)置 在爐內(nèi)靠近煤層底板處的排鉆孔相通，后與煤氣通道相通。不同質(zhì)的氣化劑被有控制地直 接供入各氣化面。
由在煤氣通道內(nèi)定向鉆進(jìn)的排鉆孔形成氣化工作面，生產(chǎn)時，可以多個氣化工作面同 時生產(chǎn)。排鉆孔由平行布置的相同或不同孔徑的數(shù)個鉆孔組成，也可由一條斷面較小的盲 巷在相應(yīng)位置替代。
為提高煤層氣化率，使供氣點及燃燒區(qū)盡量在煤層底部，排鉆孔設(shè)置于煤層底板上方 約0.5m處，且排鉆孔的鉆孔數(shù)量、孔徑、各排鉆孔的間距均根據(jù)具體情況可以調(diào)整，排 鉆孔的布置應(yīng)便于供氣鉆孔與其溝通。
供氣鉆孔在排鉆孔內(nèi)的供氣點個數(shù)根據(jù)具體情況一般為1 3個。 煤氣通道底部埋設(shè)熱電偶及其導(dǎo)線，熱電偶外露于煤氣通道底部。 供氣巷道、供氣鉆孔、供氣管、排鉆孔、煤氣通道溝通，構(gòu)成本發(fā)明氣化爐主體。 本發(fā)明地下氣化爐和現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下突出的有益效果-
(1) 本系統(tǒng)運行后，氣化爐內(nèi)的氣化區(qū)域變?yōu)榭煽?，供氣點變?yōu)榭煽?，能有效提高氣?強(qiáng)度，達(dá)到連續(xù)、穩(wěn)定產(chǎn)氣的目的。
(2) 本系統(tǒng)運行后可形成供氣點及燃燒區(qū)盡量保持在煤層底部，有利于提高氣化效率， 提高資源利用率。
(3) 本系統(tǒng)的供氣控制位于氣化爐底板巖石的供氣巷道內(nèi)，既能較好的保護(hù)供氣管路和 控制系統(tǒng)，又與氣化爐距離近，方便檢測氣化爐內(nèi)狀況，準(zhǔn)確控制和調(diào)節(jié)供氣參數(shù)，有效 提高氣化效果及產(chǎn)氣品質(zhì)。


圖1巷控供氣側(cè)線地下氣化爐結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2巷控供氣側(cè)線地下氣化爐i -1 、 n-ii 、 m-in截面圖。
圖中，l-供氣鉆孔、2-出氣鉆孔、3-供氣巷道、4-煤氣通道、5-氣化通道、6-進(jìn)風(fēng)通 道、7-回風(fēng)通道、8-排鉆孔、9-供氣支管、10-供氣點、11-密閉墻、12-噴淋硐室、13-熱交換裝置。
其中，圖l為摘要附圖。
具體實施例方式
以下僅為本發(fā)明的較佳實施例，不能以此限定本發(fā)明的范圍。即大凡依本發(fā)明申請專 利范圍所作的均等變化與修飾，皆應(yīng)仍屬本發(fā)明專利涵蓋的范圍內(nèi)。
參照說明書附圖對本發(fā)明地下氣化爐可控供氣系統(tǒng)作以下詳細(xì)說明。 如附圖l所示，本發(fā)明的地下氣化爐，其結(jié)構(gòu)包括供氣鉆孔(1)、出氣鉆孔(2)、供 氣巷道(3)、煤氣通道(4)、氣化通道(5)、排鉆孔(8)、供氣支管(9)及供氣點(10)。 其中，供氣支管(9)是連接供氣管路與排鉆孔(8)的中間部分，其外露于供氣巷道部分設(shè)有控制閥門等，該處供給的氣化劑的流量及壓力均為可調(diào)。
為了保證供氣支管(9)與排鉆孔(8)能夠有效溝通，排鉆孔(8)的鉆孔數(shù)一般不 少于二個，覆蓋區(qū)域的外寬不小于0.6米。
為了提高煤層氣化率，排鉆(8) —般布置在煤層底板上方約0. 5米處，且與供氣巷 道(3)垂直布置。
供氣支管(9)與排鉆孔(8)的交點，即供氣點(10)布置于排鉆孔(8)內(nèi)，最外 側(cè)的供氣點與煤氣通道(4)的間距大于30米，各相鄰供氣點的間距約為30米。 供氣巷道(3)與氣化爐煤層底板的凈巖柱大于10米，采用錨網(wǎng)砼支護(hù)。 為了安全，供氣巷道(3)與進(jìn)風(fēng)巷接口處要設(shè)加強(qiáng)通風(fēng)局扇。
權(quán)利要求
1. 一種巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，包括煤氣通道、在煤氣通道內(nèi)定向鉆進(jìn)的排鉆孔(8)、設(shè)于煤層底板巖石內(nèi)的供氣巷道、供氣管道、供氣控制點以及供氣巷道與排鉆孔之間的供氣支管(9)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，其特征在于供氣巷道、供氣管道、 供氣控制點位于氣化爐底部巖石內(nèi)，并通過向上鉆孔與設(shè)置在爐內(nèi)靠近煤層底板處的排鉆 孔相通，后與煤氣通道相通。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，其特征在于由在煤氣通道內(nèi)定向鉆 進(jìn)的排鉆孔(8)形成氣化工作面，生產(chǎn)時，多個氣化工作面可同時生產(chǎn)；排鉆孔(8)由 平行布置的相同或不同孔徑的數(shù)個鉆孔組成或由一條斷面較小的盲巷在相應(yīng)位置替代。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，其特征在于排鉆孔(8)的鉆孔數(shù)不少于二個，覆蓋區(qū)域的外寬不小于0.6米。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1 4所述的任意一種巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，其特征在于包括供氣鉆孔(1)、出氣鉆孔(2)、供氣巷道(3)、煤氣通道(4)、氣化通道(5)、排鉆孔(8)、 供氣支管(9)及供氣點(10)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，其特征在于供氣支管(9)是連接 供氣管路與排鉆孔(8)的中間部分，其外露于供氣巷道部分設(shè)有控制閥門，該處供給的 氣化劑的流量及壓力均為可調(diào)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，其特征在于供氣點及燃燒區(qū)在 煤層底部，排鉆孔(8)設(shè)置于煤層底板上方0.5m處，且與供氣巷道(3)垂直布置。
8. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，其特征在于供氣支管(9)在排鉆 孔(8)內(nèi)的供氣點為1 3個。
9. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，其特征在于供氣支管(9)的鉆孔 與排鉆孔(8)的交點供氣點(10)布置于排鉆孔(8)內(nèi)，最外側(cè)的供氣點與煤氣通道(4) 的間距大于30米，各相鄰供氣點的間距約為30米。
10. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，其特征在于供氣巷道(3)與氣化 爐煤層底板的凈巖柱大于10米，采用錨網(wǎng)砼支護(hù)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種巷控供氣側(cè)線地下氣化爐，包括煤氣通道、在煤氣通道內(nèi)定向鉆進(jìn)的煤層底部的排鉆孔、設(shè)于煤層底板巖石內(nèi)的供氣巷、供氣管道以及各類溫度、壓力流量測試儀表儀器閥門、供氣巷與排鉆孔之間的供氣支管等。該系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單、設(shè)置容易、運行可靠，能多點同時氣化，有提高產(chǎn)量，實現(xiàn)供氣保護(hù)、可控、按需調(diào)整等優(yōu)點，可以同時解決氣化效果差、產(chǎn)氣欠連續(xù)、穩(wěn)定，產(chǎn)氣量少、氣化率低等多個問題。
文檔編號E21B43/00GK101382062SQ20071014603
公開日2009年3月11日 申請日期2007年9月7日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月7日
發(fā)明者吳華亭, 徐傳洲 申請人:新奧科技發(fā)展有限公司