電解銅箔表面處理添加劑、制備方法、處理方法及裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及銅錐制造技術(shù)領(lǐng)域，具體設(shè)及用于電解銅錐表面處理的添加劑、添加 劑的制備方法、銅錐的表面處理方法及實(shí)施銅錐表面處理方法的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 銅錐英文為61日(3化0(169〇3；[16(1(30996計0；[1，是覆銅板(〔化)及印制電路板。〔8)制 造的重要的材料。在當(dāng)今電子信息產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展中，電解銅錐被稱為：電子產(chǎn)品信號與電力 傳輸、溝通的"神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)"。2002年起，中國印制電路板的生產(chǎn)值已經(jīng)越入世界第3位，作為 PCB的基板材料一一覆銅板也成為世界上第3大生產(chǎn)國。由此也使中國的電解銅錐產(chǎn)業(yè)在近 幾年有了突飛猛進(jìn)的發(fā)展。
[0003] 工業(yè)用銅錐可常見分為壓延銅錐(RA銅錐)與電解銅錐化D銅錐)兩大類，其中壓延 銅錐具有較好的延展性等特性，是早期軟板制程所用的銅錐，而電解銅錐則是具有制造成 本較壓延銅錐低的優(yōu)勢。由于壓延銅錐是軟板的重要原物料，所W壓延銅錐的特性改良和 價格變化對軟板產(chǎn)業(yè)有一定的影響。
[0004] 由于壓延銅錐的生產(chǎn)廠商較少，且技術(shù)上也掌握在部份廠商手中，因此客戶對價 格和供應(yīng)量的掌握度較低，故在不影響產(chǎn)品表現(xiàn)的前提下，用電解銅錐替代壓延銅錐是可 行的解決方式。但若未來數(shù)年因為銅錐本身結(jié)構(gòu)的物理特性將影響蝕刻的因素，在細(xì)線化 或薄型化的產(chǎn)品中，另外高頻產(chǎn)品因電訊考量，壓延銅錐的重要性有可能將再次提升。
[0005] 然而，無論是壓延銅錐(RA銅錐)與電解銅錐化D銅錐），其在應(yīng)用之前，為了得到更 好的應(yīng)用性能，一般都需要進(jìn)行表面處理，也就是后續(xù)的二次處理，獲得合適的表面性能， 而運(yùn)種后續(xù)的表面處理，一般是電解方式，也即是銅錐的表面電解處理，獲得預(yù)期的表面光 滑度或粗糖度。銅錐的表面處理主要分為雙面光、單面光兩種。雙面光即同時對銅錐的兩面 進(jìn)行處理，工藝較為容易控制，只需要將銅錐進(jìn)入處理槽內(nèi)處理液的電場環(huán)境中，讓兩面都 接觸處理液即可，置于追后獲得的光滑效果，則因不同處理液和不同的處理工藝而異。但在 某些應(yīng)用上，一面光滑處理、而另一面粗糖處理的銅錐比雙面處理的銅錐性能更優(yōu)，因為毛 面具有較高且均勻的粗糖度，會有更好的、均勻的貼合性能。
[0006] 傳統(tǒng)的電解銅錐表面添加劑，一般分為明膠添加類及纖維素添加類，運(yùn)兩類添加 劑各有優(yōu)劣，然而，在工業(yè)銅錐處理應(yīng)用中發(fā)現(xiàn)，運(yùn)兩類添加劑都存在共同的不足，那便是 隨著處理時間的推移，前后處理出來的銅錐表面質(zhì)量存在差異。經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn)，主要原因有 如下兩點(diǎn)：一，添加劑里溶質(zhì)的濃度會隨著添加劑的使用，慢慢產(chǎn)生變化，導(dǎo)致電解處理的 效果出現(xiàn)前后不一的情況，也就是說，剛開始調(diào)好的處理液濃度最為合理，所W表面處理質(zhì) 量最好，然而隨后處理的銅錐便會慢慢不如前面，運(yùn)樣便導(dǎo)致了銅錐表面處理質(zhì)量的前后 不一，影響銅錐的整體品質(zhì)(銅錐使需要根據(jù)表面的光滑度分等級的，不同光滑度的銅錐往 往應(yīng)用不同）；二，傳統(tǒng)的處理液，由于有濃度過高的溶膠、纖維素之類的溶質(zhì)存在，容易導(dǎo) 致處理液不穩(wěn)定，特別是隨著銅錐不斷電解處理，滲入其他雜質(zhì)，慢慢便會導(dǎo)致渾濁、絮狀 物、沉淀等情況出現(xiàn)，影響表面處理效果。
[0007] 綜上所述，要解決相應(yīng)的問題，需要考慮一些情況。第一:一種相對穩(wěn)定的電解銅 錐表面添加劑，減少明膠或纖維素的濃度，使處理液經(jīng)得起攬拌、振動動、溫度變化、靜置等 影響，始終保持活性與均勻，盡量避免出現(xiàn)渾濁、沉淀物等情況。第二，改進(jìn)相關(guān)表面處理設(shè) 備及工藝，淘汰傳統(tǒng)的相對密封的槽體及相對靜置的處理液，想辦法提高處理液的流動性， 及時更替，想辦法促進(jìn)處理液的活性，避免靜置沉淀物出現(xiàn)。第=，針對一面光滑而另一面 粗糖的銅錐，要進(jìn)行合理的構(gòu)造設(shè)計。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 針對現(xiàn)有技術(shù)不足，本發(fā)明的目的是，提供一種電解銅錐表面處理添加劑，其為一 種纖維素添加類的添加劑，減少纖維素溶質(zhì)的濃度，同時增加相關(guān)輔助溶質(zhì)或溶液，使之在 具有良好的電解銅錐表面處理性能的同時，能夠表面處理工藝過程中始終保持穩(wěn)定，避免 渾濁、沉淀物等情況出現(xiàn)。該纖維素添加類的添加劑可單獨(dú)使用作為處理液，也可W和其他 傳統(tǒng)添加劑混合使用作為處理液。
[0009] 本發(fā)明還提供電解銅錐表面處理添加劑的制備方法。
[0010] 本發(fā)明還提供一種銅錐表面處理的方法，其采用上述電解銅錐表面處理添加劑時 效果最佳，當(dāng)然，即使不采用上述電解銅錐表面處理添加劑而采用傳統(tǒng)的添加劑亦可，只是 質(zhì)量稍差。該種銅錐表面處理的方法能夠獲得一面光滑而另一面粗糖的銅錐，特別是粗糖 面的粗糖度十分均勻，而且凹凸不平的形狀為由均勻分布棱角的正四棱錐體構(gòu)成。
[0011] 本發(fā)明還提供實(shí)施銅錐表面處理的方法的裝置。
[0012] 本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)上述目的所采用的技術(shù)方案為:一種電解銅錐表面處理添加劑，其 特征在于，每升添加劑溶液中，包括下列質(zhì)量的組分： 纖維素 葡萄糖 30-40mg; 硫酸鐵 6-8mg; 鶴酸鋼 8-IOmg;
[0013] 丙H醇 20-25mg; 乙醇 500-600mg; 聚兩二醇 S-IOrng; 氷 余量。
[0014] -種制備權(quán)利要求1所述電解銅錐表面處理添加劑的制備方法，其特征在于，其包 括W下步驟：
[0015] 1)按如下質(zhì)量份數(shù)稱取各溶質(zhì)組分:纖維素1-2;葡萄糖30-40;硫酸鐵6-8;鶴酸鋼 8-10;丙S醇20-25;乙醇500-600;聚丙二醇5-10;
[0016] 2)將步驟1)所稱取的各溶質(zhì)組分溶解于水中，使各溶質(zhì)的濃度范圍是:纖維素1-葡萄糖30-40mg/l;硫酸鐵6-8mg/l;鶴酸鋼S-lOmg/M丙^醇20-25mg/l;乙醇500- 600mg/l;聚丙二醇 5-10mg/l;
[0017] 3)將混合溶液置于防止揮發(fā)的密封容器中，在1.5-2個大氣壓的條件下，往復(fù)地從 (TC到100°C升降溫3-5次，自然冷卻后，過濾不容物，制得電解銅錐表面處理添加劑。
[0018] -種采用所述添加劑的電解銅錐表面處理方法，其特征在于，包括如下步驟：
[0019] 1)設(shè)置銅錐表面處理裝置，包括處理槽、電極機(jī)構(gòu)、進(jìn)料導(dǎo)漉及出料導(dǎo)漉，所述進(jìn) 料導(dǎo)漉、出料導(dǎo)漉位于處理槽上方兩側(cè)，分別對應(yīng)銅錐的進(jìn)料方向與出料方向，引導(dǎo)銅錐 進(jìn)、出槽體，所述電極機(jī)構(gòu)包括負(fù)電極滾筒及正電極板件，所述負(fù)電極滾筒設(shè)于處理槽上部 位置，所述正電極板件設(shè)于處理槽下部位置，所述正電極板件的上側(cè)與負(fù)電極滾筒的下側(cè) 相對應(yīng)，兩者之間形成電場，所述負(fù)電極滾筒的表面為凹凸不平的粗糖面，其粗糖度Ra為 300-500;所述處理槽為長條狀槽體，槽體的兩端分別設(shè)有進(jìn)液口及出液口，槽體的側(cè)壁內(nèi) 部均勻布設(shè)有電熱絲；
[0020] 2)將電解銅錐表面處理添加劑形成處理液，由進(jìn)液口流進(jìn)，經(jīng)過處理槽的槽體，然 后由出液口流出，保持處理液流動，且將正電極板件全部淹沒覆蓋，及將負(fù)電極滾筒下部分 淹沒覆蓋，使負(fù)電極滾筒的上部分露于處理液的液面之外;開啟槽體側(cè)壁內(nèi)部的電熱絲，使 之進(jìn)行加熱工作，保證槽體內(nèi)的處理液的溫度在40-50°C ;
[0021] 3)將銅錐由進(jìn)料導(dǎo)漉導(dǎo)入槽體，緊貼負(fù)電極滾筒進(jìn)入處理液，經(jīng)過正電極板件與 負(fù)電極滾筒之間的電場后，由出料導(dǎo)漉導(dǎo)出槽體，離開處理液，完成對銅錐的表面處理。
[0022] 進(jìn)一步，步驟1)中，所述處理槽與振動器相連接;步驟2)中，保證處理槽的槽體W 200監(jiān)/S的振動頻率、0.3mm振動幅度持續(xù)震動。
[0023] 進(jìn)一步，步驟1)中，所述負(fù)電極滾筒的凹凸不平的粗糖面，為由多個均勻分布的金 字塔狀凸起形成，該金字塔狀凸起為正四棱錐體，高300-500mm，寬300-500mm(底部正四邊 形寬度）。
[0024] 進(jìn)一步，步驟1)中，所述負(fù)電極滾筒的兩側(cè)設(shè)有擋緣結(jié)構(gòu)，使負(fù)電極滾筒的表面呈 內(nèi)凹狀，所述擋緣結(jié)構(gòu)為的內(nèi)側(cè)面為向內(nèi)傾斜的棱面，所述棱面上套有密封套;步驟3)中， 所述銅錐的寬度與負(fù)電極滾筒的粗糖面相適配，且銅錐的兩側(cè)邊緣與擋緣結(jié)構(gòu)內(nèi)棱面上的 密封套相對應(yīng)，形成密封結(jié)構(gòu)，使槽體內(nèi)的處理液無法進(jìn)入負(fù)電極滾筒的粗糖面與銅錐接 觸面之間的空隙中。
[0025] 進(jìn)一步，步驟1)中，所述處理槽的槽體底部設(shè)有將處理過程中產(chǎn)生的沉淀物吸附 在底部的吸附裝置，該吸附裝置為活性炭吸附裝置。
[0026] 一種實(shí)施所述方法的電解銅錐表面處理裝置，其特征在于，包括處理槽、電極機(jī) 構(gòu)、進(jìn)料導(dǎo)漉及出料導(dǎo)漉，所述進(jìn)料導(dǎo)漉、出料導(dǎo)漉位于處理槽上方兩側(cè)，分別對應(yīng)銅錐的 進(jìn)料方向與出料方向，引導(dǎo)銅錐進(jìn)、出槽體，所述電極機(jī)構(gòu)包括負(fù)電極滾筒及正電極板件， 所述負(fù)電極滾