本技術(shù)涉及電鍍，具體為一種新型可提高電鍍均勻性的裝置。

背景技術(shù)：

1、電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程。

2、經(jīng)檢索，中國專利授權(quán)號為cn219951247u的專利公開了一種新型電鍍設(shè)備，涉及電鍍設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，現(xiàn)有技術(shù)雖然能夠通過穿桿將待鍍件穿過，通過電機(jī)帶動鍍件下降至電鍍液的內(nèi)部，在鍍件完成后再由電機(jī)將鍍件上升，并通過靜置的方式來對電鍍件進(jìn)行掛晾，使得可能存在的電鍍液被晾干，進(jìn)而降低了取出鍍件時(shí)的危險(xiǎn)性，但現(xiàn)有技術(shù)中被電鍍件在電鍍過程中處于靜止?fàn)顟B(tài)，而電鍍液中的金屬離子在各個部分其濃度不均勻，這就溶液導(dǎo)致被電鍍件上附著的金屬膜不均勻，從而使得電鍍不夠均勻。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種新型可提高電鍍均勻性的裝置，解決了背景技術(shù)中所提出的現(xiàn)有技術(shù)中被電鍍件在電鍍過程中處于靜止?fàn)顟B(tài)，而電鍍液中的金屬離子在各個部分其濃度不均勻，這就溶液導(dǎo)致被電鍍件上附著的金屬膜不均勻，從而使得電鍍不夠均勻問題。

2、為實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：一種新型可提高電鍍均勻性的裝置，包括底板、支撐桿、電鍍池、豎桿、滑塊以及承接桿，所述底板底部四角固定安裝支撐桿，所述底板頂部固定連接電鍍池，所述底板頂部活動連接豎桿，所述豎桿上部設(shè)有滑槽，所述豎桿通過滑槽活動連接滑塊，所述滑塊前端固定連接承接桿，所述承接桿前端底部固定連接l形桿一端，所述l形桿另一端固定連接電機(jī)，所述電機(jī)輸出端連接轉(zhuǎn)動軸，所述轉(zhuǎn)動軸底部固定連接矩形桿，所述矩形桿側(cè)部安裝攪拌桿，上述零部件之間配合使用，能夠?qū)崿F(xiàn)攪拌桿對電鍍池中電鍍液進(jìn)行攪拌，進(jìn)而能夠使得電鍍液中的金屬離子均勻分布，從而能夠?qū)崿F(xiàn)對被電鍍件進(jìn)行均勻電鍍。

3、優(yōu)選的，所述矩形桿兩側(cè)開設(shè)第一螺紋孔，所述攪拌桿側(cè)部固定連接螺絲桿，所述螺絲桿穿插第一螺紋孔，上述零部件之間配合使用，能夠?qū)崿F(xiàn)攪拌桿的拆卸。

4、優(yōu)選的，所述豎桿上端滑槽兩側(cè)開設(shè)第一通孔，所述第一通孔設(shè)有兩對共計(jì)四個，所述兩對第一通孔之間具有一定距離，所述滑塊中部開設(shè)第二通孔，所述第一通孔與第二通孔之間穿插固定螺絲，所述固定螺絲上連接螺帽，上述零部件之間配合使用，能夠?qū)崿F(xiàn)攪拌桿在電鍍池中上下移動。

5、優(yōu)選的，所述豎桿底部固定連接轉(zhuǎn)動桿，所述底板頂部開設(shè)穿孔，所述穿孔活動連接轉(zhuǎn)動桿，所述豎桿前端底部固定連接金屬板，所述金屬板中部開設(shè)連接孔，所述底板上開設(shè)兩個第二螺紋孔，所述第二螺紋孔分別位于穿孔前端以及右端，所述連接孔與第二螺紋孔之間穿插蝶形螺絲，上述零部件之間配合使用，能夠帶動豎桿以及其連接部件進(jìn)行轉(zhuǎn)動，從而便于將被電鍍件放入以及取出電鍍池。

6、本實(shí)用新型提供了一種新型可提高電鍍均勻性的裝置。具備以下有益效果：

7、該一種新型可提高電鍍均勻性的裝置，通過在承接桿前端底部固定連接l形桿一端，且l形桿另一端固定連接電機(jī)，在電機(jī)輸出端連接轉(zhuǎn)動軸，同時(shí)在轉(zhuǎn)動軸底部固定連接矩形桿，且矩形桿側(cè)部安裝攪拌桿，上述零部件之間配合使用，能夠?qū)崿F(xiàn)攪拌桿對電鍍池中電鍍液進(jìn)行攪拌，進(jìn)而能夠使得電鍍液中的金屬離子均勻分布，從而能夠?qū)崿F(xiàn)對被電鍍件進(jìn)行均勻電鍍。

技術(shù)特征：

1.一種新型可提高電鍍均勻性的裝置，包括底板(1)、支撐桿(2)、電鍍池(3)、豎桿(4)、滑塊(5)以及承接桿(6)，所述底板(1)底部四角固定安裝支撐桿(2)，所述底板(1)頂部固定連接電鍍池(3)，所述底板(1)頂部活動連接豎桿(4)，所述豎桿(4)上部設(shè)有滑槽(401)，所述豎桿(4)通過滑槽(401)活動連接滑塊(5)，所述滑塊(5)前端固定連接承接桿(6)，其特征在于：所述承接桿(6)前端底部固定連接l形桿(7)一端，所述l形桿(7)另一端固定連接電機(jī)(8)，所述電機(jī)(8)輸出端連接轉(zhuǎn)動軸(9)，所述轉(zhuǎn)動軸(9)底部固定連接矩形桿(10)，所述矩形桿(10)側(cè)部安裝攪拌桿(11)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型可提高電鍍均勻性的裝置，其特征在于：所述矩形桿(10)兩側(cè)開設(shè)第一螺紋孔(12)，所述攪拌桿(11)側(cè)部固定連接螺絲桿(13)，所述螺絲桿(13)穿插第一螺紋孔(12)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型可提高電鍍均勻性的裝置，其特征在于：所述豎桿(4)上端滑槽(401)兩側(cè)開設(shè)第一通孔(14)，所述第一通孔(14)設(shè)有兩對共計(jì)四個，所述兩對第一通孔(14)之間具有一定距離，所述滑塊(5)中部開設(shè)第二通孔(15)，所述第一通孔(14)與第二通孔(15)之間穿插固定螺絲(16)，所述固定螺絲(16)上連接螺帽(17)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種新型可提高電鍍均勻性的裝置，其特征在于：所述豎桿(4)底部固定連接轉(zhuǎn)動桿(18)，所述底板(1)頂部開設(shè)穿孔(19)，所述穿孔(19)活動連接轉(zhuǎn)動桿(18)，所述豎桿(4)前端底部固定連接金屬板(20)，所述金屬板(20)中部開設(shè)連接孔(21)，所述底板(1)上開設(shè)兩個第二螺紋孔(22)，所述第二螺紋孔(22)分別位于穿孔(19)前端以及右端，所述連接孔(21)與第二螺紋孔(22)之間穿插蝶形螺絲(23)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種新型可提高電鍍均勻性的裝置，涉及電鍍技術(shù)領(lǐng)域，用以解決現(xiàn)有電鍍設(shè)備電鍍不均勻問題，包括底板、支撐桿、電鍍池、豎桿、滑塊以及承接桿，所述底板底部四角固定安裝支撐桿，所述底板頂部固定連接電鍍池，所述底板頂部活動連接豎桿，所述豎桿上部設(shè)有滑槽，所述豎桿通過滑槽活動連接滑塊，所述滑塊前端固定連接承接桿，所述承接桿前端底部固定連接L形桿一端，所述L形桿另一端固定連接電機(jī)，所述電機(jī)輸出端連接轉(zhuǎn)動軸，所述轉(zhuǎn)動軸底部固定連接矩形桿，所述矩形桿側(cè)部安裝攪拌桿，本技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)攪拌桿對電鍍池中電鍍液進(jìn)行攪拌，進(jìn)而能夠使得電鍍液中的金屬離子均勻分布，從而能夠?qū)崿F(xiàn)對被電鍍件進(jìn)行均勻電鍍。

技術(shù)研發(fā)人員：顧建芬,吳杰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：永新電子（常熟）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240202
技術(shù)公布日：2024/12/19