技術(shù)特征：

1.一種疏水抗腐蝕涂層，其特征在于，成分包括cu、ni和gr，晶粒尺寸呈梯度分布，自下而上減小。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的疏水抗腐蝕涂層，其特征在于，與基體的結(jié)合力不小于15n，腐蝕電位為-185mv，最佳疏水角為156°。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的疏水抗腐蝕涂層，其特征在于，cu、ni和gr的摩爾質(zhì)量分數(shù)分別為80-90％、10-20％、0.5-3％。

4.一種疏水抗腐蝕涂層制備方法，其特征在于，工藝過程為：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的疏水抗腐蝕涂層制備方法，其特征在于，具體工藝過程為：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的疏水抗腐蝕涂層，其特征在于，刻蝕介質(zhì)的括氫氟酸和硝酸，質(zhì)量分數(shù)分別為10-20％和30-50％。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的疏水抗腐蝕涂層，其特征在于，硫酸銅為五水硫酸銅，濃度為120-180g/l，硫酸鎳的濃度為60-100g/l，硫酸鈉為十二烷基硫酸鈉，濃度為1-2g/l，石墨烯的濃度為0.05-2g/l，添加劑包括明膠，濃度為5-15mg/l，余量為去離子水。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的疏水抗腐蝕涂層，其特征在于，動態(tài)脈沖電沉積的參數(shù)：占空比為40-60％，單個周期內(nèi)正向電鍍時間為20ms，反向電鍍時間為1-5ms，平均電流密度為60-300ma/cm2，溫度為35-55℃，極間距為20-50mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求5-8中任一項所述的疏水抗腐蝕涂層制備方法，其特征在于，通過控制動態(tài)脈沖電沉積工藝參數(shù)，使涂層的晶粒尺寸自基體到頂部逐漸變小，梯度結(jié)構(gòu)能夠提升涂層表面的力學性能，增大涂層與基體之間的結(jié)合強度。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于抗腐蝕涂層技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種梯度結(jié)構(gòu)的Cu?Ni?Gr疏水抗腐蝕涂層及其制備方法，在鈦合金基體表面依次進行化學刻蝕和脈沖電沉積，得到的“自上而下”的梯度納米結(jié)構(gòu)，由表層到底部、由細晶到粗晶再到納米晶逐漸過渡的梯度結(jié)構(gòu)變化，物理性能呈梯度連續(xù)變化；在電鍍液中加入的石墨烯能夠使涂層結(jié)構(gòu)更加完整、分布均勻，抑制了晶粒的生長，細化了晶粒，且石墨烯分布在晶界，阻礙了錯位運動和水分子滲透，提高了涂層的力學性能與疏水性能；在電鍍液中加入的硫酸鈉和添加劑，能夠顯著提高石墨烯在電鍍液中的分散能力，避免電沉積過程中石墨烯的團聚；不僅具有良好的疏水抗腐蝕性能，力學性能也得到了提高，進一步延長了涂層的防護壽命。

技術(shù)研發(fā)人員：賈靖龍,劉長松,栗心明,付永強,展玉珍,閆旭
受保護的技術(shù)使用者：青島理工大學
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19