本發(fā)明涉及電子裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種殼體，該殼體的制備方法及應(yīng)用該殼體的電子裝置。
背景技術(shù)：
目前，手機等電子裝置通常采用鋁合金殼體，通過對鋁合金殼體進行陽極氧化處理，來提高鋁合金殼體的硬度。由于大部分的電子裝置外殼均采用陽極氧化處理，導(dǎo)致現(xiàn)有的電子裝置外殼的外觀同質(zhì)化嚴重，不能提升電子裝置的品牌屬性。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
本發(fā)明的主要目的在于提供一種殼體的制備方法，旨在提供一種可制得具有黑亮外觀、陶瓷質(zhì)感的殼體的制備方法。
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供的殼體的制備方法包括以下步驟：
提供鋁基材；
對鋁基材進行硬質(zhì)陽極氧化處理，于所述鋁基材的表面形成第一氧化鋁層，所述第一氧化鋁層具有微孔，所述硬質(zhì)陽極氧化處理自動調(diào)節(jié)硬質(zhì)陽極氧化處理過程中的電壓和電流；
對鋁基材進行染色處理；
對經(jīng)染色處理后的鋁基材進行拋光處理，得到所述殼體。
優(yōu)選地，對鋁基材進行硬質(zhì)陽極氧化處理包括以下步驟：
提供一陽極氧化裝置，所述陽極氧化裝置包括可編程邏輯控制器和電解槽；
提供電解液，所述電解液包括濃度為100～150g/l的硫酸；
將所述電解液置于所述電解槽；
將所述鋁基材置入所述電解槽，對所述鋁基材進行硬質(zhì)陽極氧化處理，其中，所述陽極氧化時間為55～75min，所述電解液的溫度為13～17℃，初始電壓為9～11v，初始電流為1.4～1.7a/dm2；15～25min后，所述可編程邏輯控制器控制電壓為6～8v，電流為0.7～0.9a/dm2；40～50min后，所述可編程邏輯控制器控制電壓為6～8v，電流為0.4～0.6a/dm2。
優(yōu)選地，所述染色處理為吸附著色，或于所述硬質(zhì)陽極氧化處理過程中進行電解著色。
優(yōu)選地，所述拋光處理包括：采用布輪對第一氧化鋁層進行粗拋處理；采用拋光液對經(jīng)布輪拋光后的第一氧化鋁層進行精拋處理。
優(yōu)選地，所述染色處理后，所述拋光處理前，還包括對第一氧化鋁層進行封孔處理的步驟。
優(yōu)選地，對鋁基材進行拋光處理后，還包括：去除部分第一氧化鋁層，露出部分鋁基材；對所述露出的鋁基材進行鐳雕處理，形成顯示區(qū)，所述顯示區(qū)具有標(biāo)簽；對顯示區(qū)依次進行另一硬質(zhì)陽極氧化處理、另一染色處理、及另一拋光處理。
本發(fā)明還提供一種殼體，所述殼體包括鋁基材、形成于所述鋁基材表面的第一氧化鋁層、及著色件，所述第一氧化鋁層形成有若干第一微孔，所述著色件容納于所述第一微孔，所述第一氧化鋁層呈現(xiàn)鏡面、黑色。
優(yōu)選地，所述第一氧化鋁層的厚度為20～30微米，所述第一微孔的直徑為20～30nm。
優(yōu)選地，所述殼體還包括顯示區(qū)，所述顯示區(qū)覆蓋有第二氧化鋁層，所述第二氧化鋁層形成有若干第二微孔，所述第二微孔內(nèi)容納有著色件，所述第二氧化鋁層呈現(xiàn)鏡面、黑色。
優(yōu)選地，所述第二氧化鋁層的厚度為3～5微米，所述第二微孔的直徑為20～30nm。
本發(fā)明還提供一種電子裝置，上述電子裝置包括所述殼體。
本發(fā)明提出的殼體的制備方法先對鋁基材進行硬質(zhì)陽極氧化處理，于所述鋁基材的表面形成第一氧化鋁層，所述第一氧化鋁層具有第一微孔，所述第一氧化鋁層由硬質(zhì)陽極氧化處理制得，使得所述第一微孔的密度和硬度均增加，再通過染色處理于所述第一微孔內(nèi)形成著色件，以使第一氧化鋁層具有黑色外觀；進一步對第一氧化鋁層進行拋光處理，以使鋁基材具有陶瓷、鏡面的外觀，使得獲得的殼體具有亮黑、陶瓷外觀。
進一步地，由于硬質(zhì)陽極氧化處理可自動調(diào)節(jié)硬質(zhì)陽極氧化處理過程中的電壓和電流，使得第一氧化鋁層的厚度均勻、致密、微孔密度大。
具體實施方式
下面將對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
需要說明，本發(fā)明實施例中所有方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)僅用于解釋在某一特定姿態(tài)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運動情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。
另外，在本發(fā)明中涉及“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。另外，各個實施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實現(xiàn)時應(yīng)當(dāng)認為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本發(fā)明要求的保護范圍之內(nèi)。
本發(fā)明提供一種殼體的制備方法，包括以下步驟：
通過鋁擠的方式制備鋁基材；
對鋁基材進行硬質(zhì)陽極氧化處理，于所述鋁基材的表面形成第一氧化鋁層，所述第一氧化鋁層具有第一微孔，所述硬質(zhì)陽極氧化處理自動調(diào)節(jié)硬質(zhì)陽極氧化處理過程中的電壓和電流；
對鋁基材進行染色處理；
對經(jīng)染色處理后的鋁基材進行拋光處理，得到所述殼體。
所述染色處理為吸附著色，或于所述硬質(zhì)陽極氧化處理過程中進行電解著色。
可以理解的，于所述硬質(zhì)陽極氧化處理過程中進行電解著色為：于硬質(zhì)陽極氧化的電解液中加入色料，色料進入第一微孔，使得第一氧化鋁層呈現(xiàn)黑色。
可以理解的，所述吸附著色為：將經(jīng)硬質(zhì)陽極氧化后的鋁基材置于一染色劑中，以使第一氧化鋁層呈黑色。
對鋁基材進行硬質(zhì)陽極氧化處理前，所述殼體的制備方法還包括以下步驟：
對鋁基材的外表面進行自動拋光處理，以除去鋁基材外表面的雜質(zhì)和氧化層；
于拋光后的鋁基材的外表面貼覆保護膜，優(yōu)選為聚乙烯膜；
對鋁基材的另一表面進行cnc處理，從而形成電子裝置殼體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)；
去除保護膜；
對鋁基材進行清洗處理，以除去cnc處理時帶來的雜質(zhì)；
對鋁基材進行自動化鏡面拋光處理，所述自動化鏡面拋光處理可為分別用型號為400#的布輪粗拋，型號為800#的拋光液中拋，型號為1200#的拋光液鏡面拋；
對鋁基材進行超聲清洗。
對鋁基材進行染色處理后，對經(jīng)染色處理后的鋁基材進行拋光處理前，還包括采用cnc的方式于鋁基材的側(cè)壁開孔的步驟，獲得音量孔、開關(guān)孔等必要結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明技術(shù)方案的殼體的制備方法先對鋁基材進行硬質(zhì)陽極氧化處理，于所述鋁基材的表面形成第一氧化鋁層，所述第一氧化鋁層具有第一微孔，所述第一氧化鋁層由硬質(zhì)陽極氧化處理制得，使得所述第一氧化鋁層的第一微孔密度和硬度均增加，再通過染色處理于所述第一微孔內(nèi)形成著色件，以使第一氧化鋁層具有黑色外觀；進一步對第一氧化鋁層進行拋光處理，以使鋁基材具有陶瓷、鏡面的外觀，使得獲得的殼體具有亮黑、陶瓷外觀。
進一步地，由于硬質(zhì)陽極氧化處理可自動調(diào)節(jié)硬質(zhì)陽極氧化處理過程中的電壓和電流，使得第一氧化鋁層的厚度均勻、致密、微孔密度大。
對鋁基材進行硬質(zhì)陽極氧化處理包括以下步驟：
提供一陽極氧化裝置，所述陽極氧化裝置包括可編程邏輯控制器和電解槽；
提供電解液，所述電解液包括濃度為100～150g/l的硫酸；
將所述電解液置于所述電解槽；
將所述鋁基材置入所述電解槽，對所述鋁基材進行硬質(zhì)陽極氧化處理，其中，所述陽極氧化時間為55～75min，所述電解液的溫度為13～17℃，初始電壓為9～11v，初始電流為1.4～1.7a/dm2；15～25min后，所述可編程邏輯控制器控制電壓為6～8v，電流為0.7～0.9a/dm2；40～50min后，所述可編程邏輯控制器控制電壓為6～8v，電流為0.4～0.6a/dm2。
可以理解的，所述第一氧化鋁層形成后，該可編程邏輯控制器控制反應(yīng)終止。
本發(fā)明技術(shù)方案的陽極氧化裝置中設(shè)置有可編程邏輯控制器，可編程邏輯控制器可根據(jù)時間來控制電壓和電流，避免電流過大，局部第一氧化鋁層溶解。使得生產(chǎn)的第一氧化鋁層膜厚均勻、致密，且微孔均勻、密度大。
所述拋光處理包括：采用布輪對第一氧化鋁層進行粗拋處理；采用拋光液對經(jīng)布輪拋光后的第一氧化鋁層進行精拋處理。
布輪為型號2000#的布輪。
精拋處理中使用的精拋液包括水、剛玉顆粒和氫氧化鈉。也就是在水與剛玉粉形成的剛玉拋光懸濁液中加入化學(xué)侵蝕劑氫氧化鈉，不僅消除了機械拋光存在的擾動層、劃痕問題，也消除了電解、化學(xué)拋光中存在的部分相溶蝕消失或凸起問題，從而避免出現(xiàn)觀察假象的情況，同時還可以大幅縮短精拋光時間，實現(xiàn)快速制備高質(zhì)量的金相試樣。
進行精拋處理時，在機械拋光劑中添加化學(xué)浸蝕劑氫氧化鈉，利用產(chǎn)生的機械磨削與化學(xué)浸蝕作用，實現(xiàn)高質(zhì)量無擾動層金相試樣的制備。機械拋光劑是含有可有效切割鋁合金表面的剛玉懸濁液，利用剛玉顆粒對第一氧化鋁層表面的機械切割作用，起到機械拋光的作用；化學(xué)浸蝕劑氫氧化鈉的加入，對機械拋光表面產(chǎn)生輕微的腐蝕，起到去除表層擾動層和補充化學(xué)拋光的作用。
其中，剛玉顆粒的粒度為1.0μm，以實現(xiàn)更好的拋光效果。
本發(fā)明技術(shù)方案采用布輪和精拋液對鋁基材進行拋光處理，以使鋁基材呈鏡面。
所述染色處理后，所述拋光處理前，還包括對第一氧化鋁層進行封孔處理的步驟。
所述密封件容納于所述第一微孔，以將容納于所述第一微孔的著色件密封，防止著色件從所述第一微孔脫出。
本發(fā)明技術(shù)方案的殼體還包括密封件，密封件容納于所述第一微孔，使得殼體的顏色不會褪去。
對鋁基材進行拋光處理后，還包括：去除部分第一氧化鋁層，露出部分鋁基材；對所述露出的鋁基材進行鐳雕處理，形成顯示區(qū)，所述顯示區(qū)具有標(biāo)簽；對顯示區(qū)依次進行另一硬質(zhì)陽極氧化處理、另一染色處理、及另一拋光處理。
本發(fā)明技術(shù)方案對鋁基材進行拋光處理后，還于鋁基材的表面形成顯示區(qū)，顯示區(qū)形成logo，同時，對顯示區(qū)依次進行另一硬質(zhì)陽極氧化處理、另一染色處理、及另一拋光處理后，于顯示區(qū)形成第二氧化鋁層，該第二氧化鋁層形成有第二微孔，所述第二氧化鋁層具有冰涼觸感、硬度高、陶瓷質(zhì)感、黑亮外觀、厚度均勻、及致密等優(yōu)點。
可以理解的，所述第二氧化鋁層形成后，該可編程邏輯控制器控制反應(yīng)終止。
可以理解的，所述第二微孔內(nèi)也容納有著色件和密封件。
可采用鐳雕的方式形成logo。
可對鋁基材進行全檢，以找出不良品，再對鋁基材進行鐳雕處理，獲得外觀佳的殼體。
本發(fā)明還提供一種殼體，所述殼體包括鋁基材、形成于所述鋁基材表面的第一氧化鋁層、及著色件，所述第一氧化鋁層形成有若干第一微孔，所述著色件容納于所述第一微孔，所述第一氧化鋁層呈現(xiàn)鏡面、黑色。
所述殼體表面的光潔度達到0.2nm。粗糙度小于ra0.1。
本發(fā)明技術(shù)方案的第一氧化鋁層通過硬質(zhì)陽極氧化處理制得，使得所述第一氧化鋁層的厚度較厚，且第一微孔的密度較大，該第一氧化鋁層經(jīng)拋光處理后，呈透亮、光滑外觀，具有陶瓷質(zhì)感，同時，還呈現(xiàn)出表面陽極金屬的紋理、材質(zhì)，使得殼體不僅具有五金的冰涼觸感、硬度高，還具有陶瓷質(zhì)感。同時，該第一氧化鋁層還有黑亮外觀。
所述第一氧化鋁層的厚度為20～30微米，所述第一微孔的直徑為20～30nm。
本發(fā)明技術(shù)方案的第一氧化鋁層的厚度較大且均勻，使得殼體的硬度較高。第一微孔的直徑為20-～30nm，且第一微孔的密度較大，使得第一氧化鋁層致密。
所述殼體還包括顯示區(qū)，所述顯示區(qū)覆蓋有第二氧化鋁層，所述第二氧化鋁層形成有若干第二微孔，所述微孔內(nèi)容納有著色件，所述第二氧化鋁層呈現(xiàn)鏡面、黑色。
所述第二氧化鋁層的厚度為3～5微米，所述第二微孔的直徑為20～30nm。
本發(fā)明技術(shù)方案的殼體還包括顯示區(qū)，顯示區(qū)可包括logo。該顯示區(qū)的第二氧化鋁層也由硬質(zhì)陽極氧化的方式制得，所述第二氧化鋁層具有冰涼觸感、硬度高、陶瓷質(zhì)感、黑亮外觀、厚度均勻、及致密等優(yōu)點。
所述殼體還包括密封件，所述密封件容納于所述第一微孔和所述第二微孔，以將容納于所述第一微孔和所述第二微孔內(nèi)的著色件密封，防止著色件從所述第一微孔和所述第二微孔脫出。
本發(fā)明技術(shù)方案的殼體還包括密封件，密封件容納于所述第一微孔和所述第二微孔，使得殼體的顏色不會褪去。
本發(fā)明還提供一種電子裝置，上述電子裝置包括所述殼體。由于該電子裝置采用了上述所有實施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實施例的技術(shù)方案所帶來的所有有益效果，在此不再一一贅述。
以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是在本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思下，利用本發(fā)明說明書所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域均包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。