本發(fā)明是有關于一種金屬基材的處理方法，且特別是有關于一種金屬基材的表面處理方法。

背景技術：
由于現(xiàn)在產(chǎn)品的趨勢都在追求輕薄，在產(chǎn)品中所采用的金屬材料也以輕薄的材料為優(yōu)先考慮。舉例來說，鋁材已開始被大量應用。當在對鋁材進行上色處理時，陽極處理為鋁材主要的表面上色處理方式。傳統(tǒng)的鋁陽極氧化處理是以鋁為基材，經(jīng)過陽極氧化后產(chǎn)生多孔性陽極鋁，再在孔隙中填入色料然后將其封口，而形成現(xiàn)在常見的陽極氧化鋁表面。然而，陽極氧化鋁表面仍無法如涂料的表面般具有豐富的光澤、透明感，也無法獲得多重反射、折射的效果，只能呈現(xiàn)出單純擁有金屬質(zhì)感的色彩，且色彩的飽和度低，其相較于由涂料所呈現(xiàn)外觀仍單調(diào)許多。

技術實現(xiàn)要素：
本發(fā)明提供一種金屬基材的表面處理方法，其可使得金屬基材表面具有更豐富的表面質(zhì)感。本發(fā)明提出一種金屬基材的表面處理方法，包括下列步驟：提供金屬基材；在金屬基材上形成皮膜層，其中皮膜層上具有多個孔隙；將帶負電的多個反射粒子提供至金屬基材，且使金屬基材帶正電，通過帶負電的反射粒子與帶正電的金屬基材之間的吸引力將反射粒子吸附于孔隙中，使反射粒子帶負電的方法包括以永久磁鐵摩擦反射粒子或?qū)Ψ瓷淞Ｗ舆M行通電處理。根據(jù)本發(fā)明的一實施例所述，在上述金屬基材的表面處理方法中，皮膜層的形成方法例如是對金屬基材進行陽極處理。根據(jù)本發(fā)明的一實施例所述，在上述金屬基材的表面處理方法中，將帶負電的反射粒子提供至金屬基材的方法例如是將金屬基材浸入含有帶負電的反射粒子的溶液中。根據(jù)本發(fā)明的一實施例所述，在上述金屬基材的表面處理方法中，溶液的溫度例如是20℃至30℃，浸泡時間例如是3秒至10秒。根據(jù)本發(fā)明的一實施例所述，在上述金屬基材的表面處理方法中，使金屬基材帶正電的方法例如是對金屬基材進行通電處理。根據(jù)本發(fā)明的一實施例所述，在上述金屬基材的表面處理方法中，通電處理的電壓例如是15V至20V。根據(jù)本發(fā)明的一實施例所述，在上述金屬基材的表面處理方法中，反射粒子的粒徑例如是10-3mm至10-8mm。根據(jù)本發(fā)明的一實施例所述，在上述金屬基材的表面處理方法中，反射粒子的形狀例如是片狀。根據(jù)本發(fā)明的一實施例所述，在上述金屬基材的表面處理方法中，將反射粒子吸附于孔隙中之后，還包括對金屬基材進行上色處理，而將色料填入孔隙中。根據(jù)本發(fā)明的一實施例所述，在上述金屬基材的表面處理方法中，將反射粒子吸附于孔隙中之后，還包括對金屬基材進行封孔處理，而形成密封住孔隙的封孔層?；谏鲜?，在本發(fā)明所提出的金屬基材的表面處理方法中，可通過帶負電的反射粒子與帶正電的金屬基材之間的吸引力將反射粒子吸附于孔隙中，因此能夠利用反射粒子在金屬基材的表面產(chǎn)生更豐富的表面質(zhì)感，而可提高產(chǎn)品價值及與其他產(chǎn)品有所區(qū)別，進而創(chuàng)造更高的產(chǎn)品利潤。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合所附圖作詳細說明如下。附圖說明圖1為本發(fā)明一實施例的金屬基材的表面處理方法的流程圖；圖2A至圖2E為本發(fā)明一實施例對金屬基材進行表面處理的剖面圖。附圖標記說明：100：金屬基材；102：皮膜層；104：孔隙；106：封孔層；200：反射粒子；300：色料；S100～S108：步驟。具體實施方式圖1為本發(fā)明一實施例的金屬基材的表面處理方法的流程圖。圖2A至圖2E為本發(fā)明一實施例對金屬基材進行表面處理的剖面圖。請同時參照圖1與圖2A，進行步驟S100，提供金屬基材100。金屬基材100的材料例如是鋁、鎂、上述材料的合金或其組合。在本實施例中，金屬基材100是以鋁板為例進行說明，但本發(fā)明并不以此為限。請同時參照圖1與圖2B，進行步驟S102，在金屬基材100上形成皮膜層102，其中皮膜層102上具有多個孔隙104。也就是，在金屬基材100上形成具有多孔性結(jié)構的皮膜層102。皮膜層102的形成方法例如是對金屬基材100進行陽極處理。陽極處理的優(yōu)點在于具有表面硬度高、環(huán)保及可逆性的特性。當金屬基材100的材料為鋁時，皮膜層102的材料例如是氧化鋁?？紫?04例如是納米級孔隙。各孔隙104的俯視形狀例如是六角形。舉例來說，陽極處理的操作條件如下。電解液例如是15％至20％的硫酸。陽極處理的電壓值例如是16V至20V。陽極處理的電流密度例如是1A/dm2至2A/dm2。陽極處理的操作溫度例如是25℃至30℃。陽極處理的時間例如是15分鐘至30分鐘。上述陽極處理的操作條件僅為舉例說明，本發(fā)明并不以此為限，本領域技術人員可根據(jù)處理需求對陽極處理的操作條件進行調(diào)整。請參照圖1與圖2C，進行步驟S104，將帶負電的多個反射粒子200提供至金屬基材100，且使金屬基材100帶正電，通過帶負電的反射粒子200與帶正電的金屬基材100之間的吸引力將反射粒子200吸附于孔隙104中。使反射粒子200帶負電的方法包括以永久磁鐵摩擦反射粒子200或?qū)Ψ瓷淞Ｗ?00進行通電處理。使金屬基材100帶正電的方法例如是對金屬基材100進行通電處理。所選用的反射粒子200可具有以下特點：具有可控制且均勻的粒子尺寸、粒子表面均勻平滑、粒子透光色彩純凈閃亮和/或在強光或展示燈下可發(fā)出如鉆石般耀眼的色彩。反射粒子200的材料例如是鋁、氧化鋁、二氧化硅、云母、硼硅酸鋁、二氧化鈦、氧化鐵或其組合。反射粒子200的粒徑例如是10-3mm至10-8mm。反射粒子200的形狀例如是片狀。此外，將帶負電的反射粒子200提供至金屬基材100的方法例如是將金屬基材100浸入含有帶負電的反射粒子200的溶液中。將反射粒子200吸附于孔隙104的步驟若在溶液的環(huán)境中進行，溶液的溫度例如是20℃至30℃，浸泡時間例如是3秒至10秒，對金屬基材100進行通電處理的電壓例如是15V至20V。另外，將反射粒子200吸附于孔隙104的步驟可在與陽極處理相同的反應槽中進行。在另一實施例中，將反射粒子200吸附于孔隙104的步驟也可在與陽極處理不同的反應槽中進行。此時，通過帶負電的反射粒子200與帶正電的金屬基材100之間的吸引力可將反射粒子200吸附于皮膜層102的孔隙104中且不易脫落。此外，若采用各種不同反射、折射或散射的反射粒子200可在金屬基材100的表面產(chǎn)生多樣化的表面質(zhì)感。請參照圖1與圖2D，可選擇性地進行步驟S106，對金屬基材100進行上色處理，而將色料300填入孔隙104中。色料300例如是染料或顏料。上色處理例如是將金屬基材100浸入色料溶液中進行上色，處理時間例如是30分鐘至40分鐘，而使色料300附著于皮膜層102的孔隙104中。請參照圖1與圖2E，可選擇性地進行步驟S108，對金屬基材100進行封孔處理，而形成密封住孔隙104的封孔層106。封孔處理例如是醋酸鎳封孔處理、熱水封孔處理或鉻酸鹽封孔處理。在封孔過程中，可溶解氧化物和/或氫氧化物使其沉積在孔隙104內(nèi)，或?qū)⑵渌镔|(zhì)沉積在孔隙104內(nèi)，而使得金屬基材100具有致密表面，不會再進行氧化。基于上述實施例可知，在金屬基材100的表面處理方法中，可通過帶負電的反射粒子200與帶正電的金屬基材100之間的吸引力將反射粒子200吸附于孔隙104中，因此能夠利用反射粒子200的反射、折射或散射等特性在金屬基材100的表面產(chǎn)生更豐富的表面質(zhì)感。如此一來，可提高產(chǎn)品價值及與其他產(chǎn)品有所區(qū)別，進而創(chuàng)造更高的產(chǎn)品利潤。此外，由于可將反射粒子200粘著于孔隙104且不易脫落，因此不會對后續(xù)的上色處理與封口處理造成不良的影響。綜上所述，上述實施例至少具有以下特點。上述金屬基材的表面處理方法可通過帶負電的反射粒子與帶正電的金屬基材之間的吸引力將反射粒子吸附于孔隙中，因此能夠利用反射粒子在金屬基材的表面產(chǎn)生更豐富的表面質(zhì)感，而可提高產(chǎn)品價值及與其他產(chǎn)品有所區(qū)別，進而創(chuàng)造更高的產(chǎn)品利潤。最后應說明的是：以上各實施例僅用以說明本發(fā)明的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述各實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解：其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術方案的范圍。