本文中公開的主題的實施例涉及用于清潔由多個分開部件組裝的裝備的系統(tǒng)和方法，該裝備諸如發(fā)動機(jī)和渦輪。
背景技術(shù)：
諸如發(fā)動機(jī)和渦輪的裝備可隨時間而積累沉積物。例如，與飛機(jī)機(jī)翼聯(lián)接的發(fā)動機(jī)和渦輪可在外部表面和或內(nèi)部表面上積累沉積物(例如，由砂、塵土、和/或其他材料形成的石英或其他沉積物)。這些和其他類型的沉積物可使部件耐久性和發(fā)動機(jī)性能退化。最終，必須從發(fā)動機(jī)和發(fā)動機(jī)部件清潔沉積物。
現(xiàn)有清潔系統(tǒng)和方法從較大的渦輪系統(tǒng)(例如，飛機(jī))移除發(fā)動機(jī)和/或渦輪，以便可清潔發(fā)動機(jī)和/或發(fā)動機(jī)部件。發(fā)動機(jī)和渦輪被分解或以其他方式分離成分開部件，其先前連接以形成發(fā)動機(jī)和渦輪。分開部件然后被清潔且重新組裝成發(fā)動機(jī)和渦輪。清潔且重新組裝的發(fā)動機(jī)和渦輪然后被放回渦輪系統(tǒng)上，以用于推進(jìn)渦輪系統(tǒng)時的額外操作。
飛機(jī)發(fā)動機(jī)和高性能渦輪具有非常細(xì)小的冷卻孔，其允許燃燒器和渦輪中的更高的燃?xì)鉁囟取Ｔ陲w機(jī)發(fā)動機(jī)在含細(xì)小尺寸塵土，諸如根據(jù)pm10水平測量的塵土(例如，小于10微米的顆粒物質(zhì))的環(huán)境中操作期間，塵土可積累在細(xì)小尺寸冷卻孔中且降低發(fā)動機(jī)和渦輪的冷卻效率。
塵土還沉積在被冷卻的表面上且形成表面與冷卻介質(zhì)之間的隔離層，這可降低發(fā)動機(jī)和渦輪的冷卻效率。降低的冷卻效率可提高構(gòu)件操作溫度且減少構(gòu)件的有用壽命期限。此外，夾帶在進(jìn)入渦輪發(fā)動機(jī)和冷卻通道的空氣中的顆粒物質(zhì)可包含可腐蝕構(gòu)件的含硫組分。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
在一個實施例中，清潔方法包括：將由多個部件形成的飛機(jī)發(fā)動機(jī)組件浸入儲槽中的流體清潔劑中，使該飛機(jī)發(fā)動機(jī)組件暴露于具有大于40khz的頻率的超聲波，和生成流體清潔劑的氣穴(cavitation)，以移除飛機(jī)發(fā)動機(jī)組件的部件中的一個或更多個上的沉積物，而不損傷飛機(jī)發(fā)動機(jī)組件。
在另一個實施例中，另一清潔方法包括：將裝備組件放置成與流體清潔劑接觸，該裝備組件由連結(jié)在一起以形成該裝備組件的多個分立構(gòu)件形成，且在裝備組件與流體清潔劑接觸時通過使裝備組件暴露于高頻超聲波來移除裝備組件上的一個或更多個沉積物。
在另一個實施例中，清潔系統(tǒng)包括：儲槽，其構(gòu)造成保持流體清潔劑和由連結(jié)在一起的多個分立構(gòu)件形成的裝備組件；和一個或更多個超聲換能器，其構(gòu)造成在裝備組件與流體清潔劑接觸時通過將高頻超聲波生成且傳播到該流體清潔劑中來移除裝備組件上的一個或更多個沉積物。
技術(shù)方案1.一種方法，其包括：
將由多個部件形成的發(fā)動機(jī)組件浸入儲槽中的流體清潔劑中；
使所述發(fā)動機(jī)組件暴露于具有大于40khz的頻率的超聲波；和
生成所述流體清潔劑的氣穴，以移除所述發(fā)動機(jī)組件的部件中的一個或更多個上的沉積物而不損傷所述發(fā)動機(jī)組件。
技術(shù)方案2.根據(jù)技術(shù)方案1所述的方法，其中，生成所述流體清潔劑的氣穴來移除所述沉積物而不將所述超聲波聚焦在所述沉積物所位于的部位處。
技術(shù)方案3.根據(jù)技術(shù)方案1所述的方法，其中，所述流體清潔劑包括檸檬酸清潔劑。
技術(shù)方案4.根據(jù)技術(shù)方案1所述的方法，還包括在使所述發(fā)動機(jī)組件暴露于所述超聲波之前將屏蔽及衰減裝置(1500)放置成與所述發(fā)動機(jī)組件接觸，其中，所述屏蔽及衰減裝置(1500)防止由所述超聲波造成的對所述發(fā)動機(jī)組件的損傷。
技術(shù)方案5.一種方法，其包括：
將裝備組件放置成與流體清潔劑接觸；和
在所述裝備組件與所述流體清潔劑接觸時，通過使所述裝備組件暴露于具有大于40khz的頻率的超聲波來移除所述裝備組件上的一個或更多個沉積物。
技術(shù)方案6.根據(jù)技術(shù)方案5所述的方法，其中，從所述裝備組件移除所述一個或更多個沉積物包括利用所述超聲波導(dǎo)致所述流體清潔劑中的氣穴。
技術(shù)方案7.根據(jù)技術(shù)方案5所述的方法，其中，從所述裝備組件移除所述一個或更多個沉積物包括使所述裝備組件暴露于所述超聲波而不將所述超聲波聚焦在所述一個或更多個沉積物所位于的部位處。
技術(shù)方案8.根據(jù)技術(shù)方案5所述的方法，其中，所述流體清潔劑包括具有檸檬酸的清潔劑。
技術(shù)方案9.一種系統(tǒng)，其包括：
儲槽，其構(gòu)造成保持流體清潔劑和裝備組件；和
一個或更多個超聲換能器，其構(gòu)造成在所述裝備組件與所述流體清潔劑接觸時通過使具有大于40khz的頻率的超聲波生成和傳播到所述流體清潔劑中來移除所述裝備組件上的一個或更多個沉積物。
技術(shù)方案10.根據(jù)技術(shù)方案9所述的系統(tǒng)，其中，所述裝備組件由連結(jié)在一起的兩個或更多個分開構(gòu)件形成，并且所述一個或更多個沉積物在不將所述構(gòu)件彼此分開的情況下移除。
技術(shù)方案11.根據(jù)技術(shù)方案9所述的系統(tǒng)，其中，所述一個或更多個換能器構(gòu)造成生成頻率為至少80khz的超聲波。
技術(shù)方案12.根據(jù)技術(shù)方案9所述的系統(tǒng)，其中，所述一個或更多個超聲換能器構(gòu)造成通過利用所述超聲波導(dǎo)致所述流體清潔劑中的氣穴而從所述裝備組件移除所述一個或更多個沉積物。
技術(shù)方案13.根據(jù)技術(shù)方案9所述的系統(tǒng)，其中，所述一個或更多個超聲換能器構(gòu)造成通過使所述裝備組件暴露于所述超聲波來從所述裝備組件移除所述一個或更多個沉積物，而不將所述超聲波聚焦在所述一個或更多個沉積物所位于的部位處。
技術(shù)方案14.根據(jù)技術(shù)方案9所述的系統(tǒng)，其中，所述流體清潔劑包括檸檬酸。
技術(shù)方案15.根據(jù)技術(shù)方案9所述的系統(tǒng)，其中，所述儲槽構(gòu)造成保持所述流體清潔劑和所述裝備組件二者，使得所述裝備組件至少部分地浸沒在所述儲槽中的所述流體清潔劑中。
實施方案1.一種方法，其包括：
將由多個部件形成的發(fā)動機(jī)組件浸入儲槽中的流體清潔劑中；
使所述發(fā)動機(jī)組件暴露于具有大于40khz的頻率的超聲波；和
生成所述流體清潔劑的氣穴，以移除所述發(fā)動機(jī)組件的部件中的一個或更多個上的沉積物而不損傷所述發(fā)動機(jī)組件。
實施方案2.根據(jù)實施方案1所述的方法，其中，所述超聲波具有至少80khz的頻率。
實施方案3.根據(jù)實施方案1所述的方法，其中，生成所述流體清潔劑的氣穴來移除所述沉積物而不將所述超聲波聚焦在所述沉積物所位于的部位處。
實施方案4.根據(jù)實施方案1所述的方法，其中，所述流體清潔劑包括檸檬酸清潔劑。
實施方案5.根據(jù)實施方案1所述的方法，還包括在使所述發(fā)動機(jī)組件暴露于所述超聲波之前將屏蔽及衰減裝置放置成與所述發(fā)動機(jī)組件接觸，其中，所述屏蔽及衰減裝置防止由所述超聲波造成的對所述發(fā)動機(jī)組件的損傷。
實施方案6.一種方法，其包括：
將裝備組件放置成與流體清潔劑接觸；和
在所述裝備組件與所述流體清潔劑接觸時，通過使所述裝備組件暴露于具有大于40khz的頻率的超聲波來移除所述裝備組件上的一個或更多個沉積物。
實施方案7.根據(jù)實施方案6所述的方法，其特征在于，所述裝備組件由連結(jié)在一起以形成所述裝備組件的多個分立構(gòu)件形成。
實施方案8.根據(jù)實施方案6所述的方法，其中，所述超聲波具有至少80khz的頻率。
實施方案9.根據(jù)實施方案6所述的方法，其中，從所述裝備組件移除一個或更多個沉積物包括利用所述超聲波導(dǎo)致所述流體清潔劑中的氣穴。
實施方案10.根據(jù)實施方案6所述的方法，其中，從所述裝備組件移除一個或更多個沉積物包括使所述裝備組件暴露于所述超聲波而不將所述超聲波聚焦在所述一個或更多個沉積物所位于的部位處。
實施方案11.根據(jù)實施方案6所述的方法，其中，所述流體清潔劑包括具有檸檬酸的清潔劑。
實施方案12.根據(jù)實施方案6所述的方法，其中，將所述裝備組件放置成與所述流體清潔劑接觸包括將所述裝備組件浸入至少部分地填充有所述流體清潔劑的儲槽中。
實施方案13.根據(jù)實施方案6所述的方法，其中，利用所述超聲波從所述裝備組件移除所述一個或更多個沉積物，而不在所述裝備組件的任一構(gòu)件中生成裂紋、不損傷所述裝備組件的構(gòu)件中的任一個上的涂層、并且不損傷所述裝備組件的構(gòu)件中的兩個或更多個之間的任何密封件。
實施方案14.根據(jù)實施方案6所述的方法，其中，所述裝備組件包括渦輪發(fā)動機(jī)模塊組件。
實施方案15.根據(jù)實施方案6所述的方法，還包括在使所述裝備組件暴露于所述超聲波之前將屏蔽及衰減裝置放置成與所述裝備組件接觸，其中，所述屏蔽及衰減裝置防止由所述超聲波造成的對所述裝備組件的損傷。
實施方案16.一種系統(tǒng)，其包括：
儲槽，其構(gòu)造成保持流體清潔劑和裝備組件；和
一個或更多個超聲換能器，其構(gòu)造成在所述裝備組件與所述流體清潔劑接觸時通過使具有大于40khz的頻率的超聲波生成和傳播到所述流體清潔劑中來移除所述裝備組件上的一個或更多個沉積物。
實施方案17.根據(jù)實施方案16所述的系統(tǒng)，其中，所述裝備組件由連結(jié)在一起的兩個或更多個分開構(gòu)件形成，并且在不將所述構(gòu)件與彼此分開的情況下移除所述一個或更多個沉積物。
實施方案18.根據(jù)實施方案16所述的系統(tǒng)，其中，所述一個或更多個超聲換能器構(gòu)造成生成頻率為至少80khz的超聲波。
實施方案19.根據(jù)實施方案16所述的系統(tǒng)，其中，所述一個或更多個超聲換能器構(gòu)造成通過利用所述超聲波導(dǎo)致所述流體清潔劑中的氣穴從所述裝備組件移除所述一個或更多個沉積物。
實施方案20.根據(jù)實施方案16所述的系統(tǒng)，其中，所述一個或更多個超聲換能器構(gòu)造成通過使所述裝備組件暴露于超聲波來從所述裝備組件移除所述一個或更多個沉積物，而不將所述超聲波聚焦在所述一個或更多個沉積物所位于的部位處。
實施方案21.根據(jù)實施方案16所述的系統(tǒng)，其中，所述流體清潔劑包括檸檬酸。
實施方案22.根據(jù)實施方案16所述的系統(tǒng)，其中，所述儲槽構(gòu)造成保持所述流體清潔劑和所述裝備組件二者，使得所述裝備組件至少部分地浸沒在所述儲槽中的所述流體清潔劑中。
實施方案23.根據(jù)實施方案16所述的系統(tǒng)，其中，所述清潔劑是用于所述超聲波的超聲耦合介質(zhì)。
實施方案24.根據(jù)實施方案16所述的系統(tǒng)，還包括屏蔽及衰減裝置，所述屏蔽及衰減裝置構(gòu)造成在使所述裝備組件暴露于所述超聲波之前被放置成與所述裝備組件接觸，其中，所述屏蔽及衰減裝置防止由所述超聲波造成的對所述裝備組件的損傷。
附圖說明
參照附圖，在附圖中，示出本發(fā)明的具體實施例和其他益處，如在下面的說明更詳細(xì)地說明的那樣，在附圖中：
圖1示出裝備清潔系統(tǒng)的一個實施例；
圖2示出根據(jù)一個實施例的、被降低到圖1所示的清潔系統(tǒng)的儲槽中的裝備組件的立體圖；
圖3示出根據(jù)一個實施例的、在圖1所示的儲槽中的流體清潔劑中的圖2所示的裝備組件的俯視圖；
圖4示出根據(jù)一個實施例的、圖1所示的清潔系統(tǒng)的超聲換能器的部分立體圖；
圖5示出用于超聲清潔裝備組件的方法的一個實施例的流程圖；
圖6示出在本文所述的清潔發(fā)動機(jī)組件之前和之后的、通過不同的飛機(jī)渦輪發(fā)動機(jī)組件的測得空氣流；
圖7是根據(jù)一個實例的、在利用本文所述的清潔系統(tǒng)和方法清潔之前的、圖2所示的裝備組件的轉(zhuǎn)子盤密封件的外部表面的部分視圖；
圖8是根據(jù)一個實例的、在利用本文所述的清潔系統(tǒng)和方法清潔之后的、圖7所示的裝備組件的同一轉(zhuǎn)子盤密封件的外部表面的部分視圖；
圖9示出根據(jù)一個實例的、在利用高頻超聲波和基于檸檬酸的清潔劑清潔之前的、代表飛機(jī)渦輪發(fā)動機(jī)組件的試樣的表面的照片(100x放大率)；
圖10示出根據(jù)一個實例的、在利用較低頻的超聲波和基于檸檬酸的清潔劑清潔之后的、代表飛機(jī)渦輪發(fā)動機(jī)組件的試樣的表面的另一照片(100x放大率)；
圖11示出根據(jù)一個實例的、在利用較高頻的超聲波和基于檸檬酸的清潔劑清潔之后的、代表飛機(jī)渦輪發(fā)動機(jī)組件的試樣的表面的另一照片(100x放大率)；
圖12示出根據(jù)一個實例的、由圖1示出的換能器生成的具有80khz的目標(biāo)頻率的超聲波的頻譜強(qiáng)度；
圖13是根據(jù)一個實例的、在利用本文所述的清潔系統(tǒng)和方法清潔之前的、圖2所示的裝備組件的轉(zhuǎn)子盤的密封件的外部表面的另一部分視圖；
圖14是根據(jù)一個實例的、在利用本文所述的清潔系統(tǒng)和方法清潔之后的、圖13所示的裝備組件的同一轉(zhuǎn)子盤的密封件的外部表面的另一部分視圖；
圖15示出根據(jù)一個實施例的屏蔽及衰減裝置的立體圖；
圖16示出根據(jù)一個實施例的圖15所示的屏蔽及衰減裝置的另一立體圖；
圖17示出根據(jù)一個實施例的圖15所示的屏蔽及衰減裝置的另一立體圖；
圖18示出根據(jù)一個實施例的屏蔽及衰減裝置的截面圖；以及
圖19示出根據(jù)一個實施例的配置在圖2所示的裝備組件上的屏蔽及衰減裝置。
具體實施方式
本文中描述的發(fā)明主題的一個或更多個實施例提供用于對系統(tǒng)的組裝裝備(諸如渦輪驅(qū)動的系統(tǒng)(例如車輛)的發(fā)動機(jī)或渦輪)進(jìn)行清潔的系統(tǒng)和方法。該系統(tǒng)和方法可在發(fā)動機(jī)、渦輪、或裝備保持組裝時清潔發(fā)動機(jī)、渦輪、或其他裝備。例如，該裝備可被超聲地清潔，而無需將形成裝備的不同部件從彼此拆開。發(fā)動機(jī)和發(fā)動機(jī)部件可被清潔，以移除發(fā)動機(jī)部件上的砂積聚物或其他沉積物，發(fā)動機(jī)部件諸如渦輪葉片(例如，高壓渦輪葉片)、護(hù)罩、噴嘴、靜葉、密封構(gòu)件、閥桿、噴嘴箱等。
在一個方面中，本文所述的系統(tǒng)和方法可用于提供具有精密且復(fù)雜的幾何形狀的飛機(jī)(或其他運(yùn)載系統(tǒng))發(fā)動機(jī)合金和構(gòu)件(包括具有涂層的構(gòu)件)的超聲清潔。構(gòu)件和具有涂層的構(gòu)件可包括渦輪葉片、渦輪噴嘴、盤、軸、和密封件。并非本文所述且要求保護(hù)的發(fā)明主題的所有實施例都限于發(fā)動機(jī)、發(fā)動機(jī)合金、渦輪葉片、渦輪噴嘴、盤、軸、密封件、飛機(jī)、或運(yùn)載系統(tǒng)。發(fā)明主題的至少一個實施例可以與其他類型的裝備、系統(tǒng)等結(jié)合地使用。
本文所述的系統(tǒng)和方法可清潔組裝裝備，同時維持組裝裝備的整體性。該組裝裝備是由若干分立、分開的部件或構(gòu)件形成，這些部件或構(gòu)件與彼此連接以形成組裝裝備。可清潔裝備而不使所有構(gòu)件與彼此完全分離。在一個方面中，部件可在形成組裝裝備之前與彼此分開，但可通過粘附劑、緊固件、密封件等連結(jié)在一起。
在一個方面中，本文所述的系統(tǒng)和方法利用高頻超聲波以用于清潔組裝裝備。高頻超聲波清潔組裝裝備，而不損害裝備的疲勞壽命，諸如因生成或蔓延內(nèi)部裂紋、外部裂紋、點(diǎn)蝕、晶間氧化、晶間侵蝕等。清潔途徑可涉及構(gòu)件、具有涂層的構(gòu)件、具有薄涂層(包括涂料)的構(gòu)件、和組裝裝備的模塊/部分組件。一些其他超聲系統(tǒng)和方法可通過生成或蔓延內(nèi)部裂紋、外部裂紋、凹陷、晶間氧化、晶間侵蝕等損傷裝備的部件。備選地，本文所述的發(fā)明主題的一個或更多個實施例可用于清潔組裝裝備的與彼此分開的單獨(dú)部件或構(gòu)件。
高頻超聲波(例如，具有大于40khz，至少80khz、直到100khz、直到120khz等的頻率的波)可與基于檸檬酸的清潔劑結(jié)合地使用，以清潔組裝裝備(諸如飛機(jī)發(fā)動機(jī))內(nèi)的大范圍的構(gòu)件。飛機(jī)發(fā)動機(jī)中的飛機(jī)發(fā)動機(jī)構(gòu)件可具有精密外部幾何形狀和復(fù)雜內(nèi)部幾何形狀，其原本使構(gòu)件和發(fā)動機(jī)難以清潔。為了提供均勻的清潔，組裝裝備可在超聲清潔期間在超聲儲槽中旋轉(zhuǎn)且平移，以改善受清潔劑和超聲換能器影響的清潔動作的均勻性。在一個方面中，組裝裝備可被超聲地清潔，而不使用任何含氯氟烴，諸如1,1,1-三氯乙烷。
圖1示出裝備清潔系統(tǒng)100的一個實施例。清潔系統(tǒng)100可用于超聲地清潔裝備組件(諸如由兩個或更多個分立構(gòu)件形成的裝備)的表面(內(nèi)部和/或外部表面)。被清潔的裝備可包括例如發(fā)動機(jī)、渦輪、發(fā)動機(jī)的部件、渦輪的部件等，而裝備的兩個或更多個分開的部件保持連接或附連于彼此。在一個實施例中，被清潔的裝備組件可包括渦輪動葉、盤等，而動葉與盤等連接。
清潔系統(tǒng)100包括儲槽102，儲槽102保持流體清潔劑104。儲槽102限定室，諸如來自清潔劑的源106(圖1中的“清潔劑源”)的流體清潔劑104置于該室中?？蛇x地，儲槽102可形成為封殼，該封殼卷繞裝備組件，以將組件包封在儲槽102內(nèi)側(cè)且提供圍繞組件的空間，在該空間中放置清潔劑104。例如，儲槽102可具有可撓主體，該可撓主體在組件與較大系統(tǒng)(例如，飛機(jī)的機(jī)翼)連接時卷繞該組件，以允許清潔該組件。
源106可代表容器、軟管等，清潔劑104從其分配到儲槽102中。清潔劑104可包括基于檸檬酸的清潔劑，諸如具有按重量計算百分之0.1到0.5的檸檬酸的清潔劑。清潔劑104的ph可小于七。發(fā)明人已發(fā)現(xiàn)基于檸檬酸的清潔劑相對于其他清潔劑在清潔機(jī)械地復(fù)雜的裝備組件的外部和內(nèi)部表面方面更成功。清潔劑104包括一種或更多種水溶性表面活性劑，這些水溶性表面活性劑與沉積物結(jié)合以使沉積物更可溶以用于從裝備組件的表面移除。在一個實施例中，清潔劑104和超聲波從裝備組件移除外來沉積物，且不移除涂層。沉積物可在以下方面與涂層不同：沉積物可在沉積物和涂層的大小(例如，表面積)方面、在沉積物對涂層的厚度方面、在包括的化學(xué)組成和礦物等方面比涂層更廣地變化。此外，沉積物可在以下方面與涂層不同：涂層可在制造、檢查、或修復(fù)期間提供在裝備組件上，而沉積物因使用或靜止隨時間而積累在裝備組件上。
在一個實施例中，清潔劑104包括反應(yīng)物成分，該反應(yīng)物成分選擇性地溶解形成沉積物的外來材料的組分，同時物理地移除沉積物中的硅酸鹽材料。例如，清潔劑104可具有選擇性地溶解外來材料中的基于氧化物、基于氯化物、基于硫酸鹽、和基于碳的組分中的至少一種的配方。更具體而言，清潔劑104可具有選擇性地溶解外來材料的包括鈣、硫、鈉、鉀、鎂、硅、和/或鋁的基于氧化物的組分的配方。基于氧化物和基于硫酸鹽的組分的示例包括但不限于硫酸鈣、硫酸鎂、二氧化硅(例如，石英)、長石、云母、和粘土。清潔劑104還選擇性地溶解外來材料的包括鈉和/鉀的或基于氯化物的組分?；诼然锏慕M分的示例包括但不限于氯化鈉和氯化鉀。反應(yīng)物成分還選擇性地溶解外來材料的包括鈣、氧、和/或鎂的基于碳的組分?；谔嫉慕M分的示例包括但不限于碳酸鈣和碳酸鎂。
清潔劑104還可具有與形成沉積物的外來材料的基于氧化物、基于氯化物、基于硫酸鹽、和基于碳的組分之外的材料基本上不反應(yīng)的配方。更具體而言，清潔劑104可與金屬材料基本上不反應(yīng)，金屬材料諸如但不限于鎳、鈦、鋁、釩、鉻、鐵、和鈷。類似地，清潔劑104可與用于制作在本文所述的裝備組件的保護(hù)涂層和/或底層材料的非金屬材料基本上不反應(yīng)，非金屬材料包括但不限于稀土元素陶瓷氧化物、陶瓷基質(zhì)復(fù)合物、聚合物基質(zhì)復(fù)合物、和其他非金屬復(fù)合物材料。因此，顯著地限制或避免對渦輪構(gòu)件的保護(hù)涂層和/或底層材料的損傷。
在一個實施例中，清潔劑104包括反應(yīng)物成分，該反應(yīng)物成分具有在清潔劑104的按體積計算大約百分之25和大約百分之70之間的范圍內(nèi)的水、在清潔劑104的按體積計算大約百分之1和大約百分之50的范圍內(nèi)的酸性組分、和在清潔劑104的按體積計算大約百分之1和百分之40的范圍內(nèi)的胺組分。清潔劑104的酸性組分可為有助于形成沉積物的外來材料的基于氧化物、基于氯化物、基于硫酸鹽、和基于碳的組分的選擇性溶解的主驅(qū)動力。酸性組分的示例包括但不限于檸檬酸、乙醇酸、聚丙烯酸、和它們的組合。胺組分可作用為表面活性劑，其有助于降低清潔劑104與形成沉積物的外來材料之間的表面張力。此種胺組分的示例包括但不限于單異丙醇胺和三乙醇胺。清潔劑104可通過在如本文所述將裝備組件浸入清潔劑104中之前用水稀釋反應(yīng)物成分來形成。在一個示例實施例中，清潔溶液的ph值小于大約5。
在一個實施例中，用于形成清潔劑104的第一反應(yīng)物成分包括：在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之40和大約百分之60之間的范圍內(nèi)的水、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之20和大約百分之30之間的范圍內(nèi)的二丙二醇單乙醚、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之1和大約百分之10之間的范圍內(nèi)的丙二醇正丁醚、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之1和大約百分之5之間的范圍內(nèi)的單異丙醇胺、和在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之1和大約百分之5之間的范圍內(nèi)的乙醇酸。在該實施例中，反應(yīng)物成分包括luminox?(“l(fā)uminox”是紐約whiteplains的alconox,inc.的注冊商標(biāo))。清潔劑104可通過用水以高達(dá)大約18的因數(shù)來稀釋第一反應(yīng)物而形成，其中鈉是有限稀釋因子。
在另一個實施例中，用于形成清潔劑104的第二反應(yīng)物成分包括：在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之25和大約百分之35之間的范圍內(nèi)的水、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之15和大約百分之25之間的范圍內(nèi)的二丙二醇單乙醚、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之30和大約百分之40之間的范圍內(nèi)的單異丙醇胺、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之1和大約百分之5之間的范圍內(nèi)的醇烷氧基化物、和在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之5和大約百分之10之間的范圍內(nèi)的乙二醇丁醚。在該實施例中，反應(yīng)物成分為detergent8?(“detergent8”是紐約whiteplains的alconox,inc.的注冊商標(biāo))。清潔劑104可通過用水以高達(dá)大約3的因數(shù)來稀釋第二反應(yīng)物成分而形成，其中氟是有限稀釋因子。
在另一個實施例中，用于形成清潔劑104的第三反應(yīng)物成分包括：在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之50和大約百分之70之間的范圍內(nèi)的水、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之5和大約百分之15之間的范圍內(nèi)的乙醇酸、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之5和大約百分之15之間的范圍內(nèi)的檸檬酸、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之2和大約百分之7之間的范圍內(nèi)的三乙醇胺、和在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之1和大約百分之5之間的范圍內(nèi)的醇烷氧基化物。在該實施例中，反應(yīng)物成分可包括citrajet?(“citrajet”是紐約whiteplains的alconox,inc.的注冊商標(biāo))。清潔劑104可通過用水以高達(dá)大約32的因數(shù)來稀釋第三反應(yīng)物成分而形成，其中鈉是有限稀釋因子。
在另一個實施例中，用于形成清潔劑104的第四反應(yīng)物成分包括：在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之50和大約百分之70之間的范圍內(nèi)的水、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之5和大約百分之15之間的范圍內(nèi)的乙醇酸、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之5和大約百分之15之間的范圍內(nèi)的檸檬酸、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之1和大約百分之5之間的范圍內(nèi)的三乙醇胺、在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之1和大約百分之5之間的范圍內(nèi)的醇烷氧基化物、和在反應(yīng)物成分的按體積計算大約百分之1和大約百分之10之間的范圍內(nèi)的磺酸異丙胺。在該實施例中，反應(yīng)物成分可包括citranox?(“citranox”是紐約whiteplains的alconox,inc.的注冊商標(biāo))。清潔劑104可通過用水以高達(dá)大約35的因數(shù)來稀釋第四反應(yīng)物成分而形成，其中硫是有限稀釋因子。
清潔劑104的使用通過改善通過組件的空氣流，而不只是組件對其他種類清潔劑(諸如基于堿的清潔劑)的暴露來去除裝備組件(諸如飛機(jī)渦輪發(fā)動機(jī)組件)上的沉積物。將組件浸入基于檸檬酸的清潔劑140而不使組件暴露于高頻超聲波導(dǎo)致很少到?jīng)]有去除沉積物，且作為結(jié)果，導(dǎo)致很少到?jīng)]有對通過組件的空氣流的改善。
儲槽102示為具有開口頂側(cè)108的五面箱，通過該開口頂側(cè)108放入清潔劑104和/或待清潔的裝備組件。儲槽102可保持打開，使得清潔劑104和裝備組件不被密封或容納在儲槽102內(nèi)側(cè)，且清潔劑104不在儲槽102內(nèi)側(cè)被加壓。備選地，儲槽102可被密封并且/或者清潔劑104在儲槽102內(nèi)被加壓。
一個或更多個超聲換能器110配置在儲槽102中。換能器110示為沿著兩個維度比第三維度大，且沿儲槽102的相反側(cè)配置。備選地，可使用不同數(shù)量的換能器110和/或不同形狀的換能器110。儲槽102足夠大，以保持流體清潔劑104和裝備組件二者，使得裝備組件至少部分地浸沒(或完全地浸沒)在儲槽102中的流體清潔劑104中。換能器110生成超聲波，該超聲波在儲槽102中穿過流體清潔劑104朝裝備組件傳播。如本文所述，超聲波和清潔劑104從裝備組件的內(nèi)部和/或外部表面清潔沉積物，而不損傷組件或組件上的涂層。
換能器110與控制器112和功率源114可控制地鏈接?？刂破?12可代表包括硬件電路的超聲控制器，硬件電路具有控制來自換能器110的超聲波的生成的一個或更多個處理器(例如，微處理器、集成電路、場可編程門陣列等)并且/或者與它們連接?？刂破?12命令從功率源114到換能器110的電能(例如電壓和/或電流)的流。功率源114可代表供應(yīng)電能的公用電網(wǎng)、一個或更多個電池等。換能器110包括被(由控制器112命令的)功率源114激勵以生成超聲波的壓電元件。
控制器112可指示換能器110振動且生成進(jìn)入到清潔劑104中的高頻超聲波。高頻超聲波可包括具有大于40khz的平均或峰值頻率的超聲波?？蛇x地，這些波可具有至少80khz的平均或峰值頻率。波可具有不超過上限的頻率，諸如100khz、200khz、300khz、400khz等。高頻超聲波傳播通過流體清潔劑104且通過導(dǎo)致流體清潔劑104中的氣穴來移除裝備組件上的沉積物。沉積物可包括在裝備組件的使用或暴露期間隨時間而在裝備組件上堆積的塵土、砂、或其他材料。
在一個實施例中，控制器112可指示換能器110生成具有在目標(biāo)頻率的指定范圍(諸如80khz)內(nèi)的峰值強(qiáng)度的超聲波。超聲波可以不都具有相同頻率的目標(biāo)頻率，但可具有不同頻率處的若干強(qiáng)度峰值，其中最大峰值強(qiáng)度在目標(biāo)頻率的指定范圍(例如，5khz、10khz等)處或內(nèi)。
圖12示出根據(jù)一個實例的、由圖1示出的換能器110生成的具有80khz的目標(biāo)頻率的超聲波的頻譜強(qiáng)度1200。超聲波的強(qiáng)度1200示為在表示超聲波頻率的水平軸線1202旁，且在表示不同頻率處的超聲波強(qiáng)度(例如，按照分貝)的豎直軸線1204旁。如圖12所示，超聲波可具有不同頻率處的強(qiáng)度峰值1206、1208、1210、1212、1214。例如，峰值1206發(fā)生在15khz附近，峰值1208發(fā)生在31khz附近，峰值1210發(fā)生在47khz附近，峰值1212發(fā)生在61khz附近，且峰值1214發(fā)生在78khz附近。盡管峰值發(fā)生在不同頻率處，但最大的峰值1214發(fā)生在80khz的目標(biāo)頻率的指定范圍內(nèi)。因此，盡管超聲波可具有各種不同的頻率，但具有最大強(qiáng)度、或大于其他峰值的至少指定百分比(例如80%)的強(qiáng)度的峰值頻率是由控制器112命令的目標(biāo)強(qiáng)度。
回到圖1所示的系統(tǒng)1100的描述，控制器112可不指示換能器110沿任何特定方向聚焦超聲波。例如，與聚焦的超聲波相反，超聲波可由換能器110生成，而不聚焦在裝備組件或流體清潔劑104內(nèi)的任何部位處，諸如待移除的沉積物的部位。未聚焦、高頻超聲波可傳播通過清潔劑104且利用高頻超聲波從裝備組件移除沉積物，而不在裝備組件的構(gòu)件中的任一個中生成裂紋、不損傷裝備組件的構(gòu)件中的任一個上的涂層、并且/或者不損傷裝備組件的構(gòu)件中的兩個或更多個之間的任何密封件。超聲波可生成流體清潔劑的氣穴，以移除沉積物而不損傷裝備組件。例如，超聲波可在沉積物和裝備組件的表面處或之間在清潔劑中形成氣泡，以從表面移除沉積物。
在示出的實施例中，清潔系統(tǒng)100包括攪拌器116，攪拌器116操作以使裝備組件在儲槽102中的清潔劑104內(nèi)移動。攪拌器116可包括聯(lián)接機(jī)構(gòu)118，諸如活塞、桿、夾具等，聯(lián)接機(jī)構(gòu)118接合裝備組件以允許攪拌器116使裝備組件在儲槽102內(nèi)移動。攪拌器116可包括一個或更多個馬達(dá)、帶、齒輪等，其由功率源114(或另一功率源)供能并且由控制器112控制以旋轉(zhuǎn)、降低、升高、或以其他方式使裝備組件平移到儲槽102中或平移出儲槽102或在儲槽102內(nèi)平移?？刂破?12可指示攪拌器116使裝備組件在儲槽102內(nèi)旋轉(zhuǎn)或以其他方式平移，以從裝備組件的各種表面移除沉積物。
在一個方面中，攪拌器116和聯(lián)接機(jī)構(gòu)118可防止裝備組件接觸儲槽102的一個或更多個內(nèi)部表面。攪拌器116和聯(lián)接機(jī)構(gòu)118可在如下部位中定位在儲槽102上方，該部位防止裝備組件觸碰超聲換能器110、儲槽102內(nèi)側(cè)的底表面、或儲槽102的內(nèi)部豎直或側(cè)表面。
圖2示出根據(jù)一個實施例的、被降低到清潔系統(tǒng)100的儲槽102中的裝備組件200的立體圖。繼續(xù)參照圖2，圖3示出了根據(jù)一個實施例的在儲槽102的清潔劑104中的裝備組件200的俯視圖。裝備組件200是由渦輪盤202和與盤202相連接的若干渦輪葉片204形成的渦輪發(fā)動機(jī)模塊組件。整個裝備組件200可通過攪拌器116(圖1示出)和聯(lián)接機(jī)構(gòu)118降低到儲槽102中。一旦裝備組件200浸在包括清潔劑104的浴槽中，換能器110就可被激勵，以在清潔劑104中生成高頻超聲波。裝備組件200可浸在浴槽中，此時要求清潔的區(qū)域的至少部分在浴槽中。備選地，裝備組件200可浸在浴槽中，此時裝備組件200的至少一半在浴槽中。備選地，裝備組件200可浸在浴槽中，此時裝備組件200全部在浴槽中。
這些超聲波可傳播通過清潔劑104，以導(dǎo)致裝備組件200上的沉積物上或附近的氣穴。該氣穴從裝備組件200移除沉積物。在清潔裝備組件200之后，裝備組件200可被從儲槽102移除、干燥、且放回渦輪系統(tǒng)(例如飛機(jī))中，在該渦輪系統(tǒng)中，裝備組件200操作以用于額外的使用。如本文所述，裝備組件200可以此方式得到清潔，而無需將裝備組件200拆開，諸如通過從盤202移除葉片204且分開地清潔葉片204和/或盤202。
圖4示出根據(jù)一個實施例的，清潔系統(tǒng)100的超聲換能器110中的一個的部分立體圖。換能器110可通過圖4所示的一個或更多個線纜400與功率源114和/或控制器112傳導(dǎo)地聯(lián)接。圖4所示的換能器110可稱為板式換能器，因為換能器110具有超聲發(fā)射表面402，該超聲發(fā)射表面402在兩個正交方向(例如，沿圖4所示的x和y方向)上比在第三正交方向(例如沿圖4所示的z方向)上大。換能器110可生成從表面402離開換能器110且傳播通過儲槽102中的清潔劑104的超聲波。超聲波可從表面402的所有或多于大部分的表面積發(fā)射，且可以不是聚焦的超聲波。表面402面對裝備組件所置于的儲槽102的內(nèi)部，以導(dǎo)致超聲波朝裝備組件傳播，以用于清潔裝備組件。
圖5示出用于超聲清潔裝備組件的方法500的一個實施例的流程圖。方法500可用于移除由在裝備組件內(nèi)連結(jié)在一起的若干構(gòu)件(例如，葉片)形成的裝備組件的一個或更多個外部和或內(nèi)部表面上的沉積物，同時構(gòu)件仍連結(jié)。方法500在一個實施例中可通過圖1所示的清潔系統(tǒng)100的一個或更多個實施例執(zhí)行。
在502處，裝備組件被放置為與流體清潔劑接觸。裝備組件可浸在保持流體清潔劑的儲槽中，以便流體清潔劑能夠進(jìn)入裝備組件的內(nèi)部室中并且/或者以其他方式接觸裝備組件的沉積物位于其上的表面。在504處，在清潔劑中生成高頻超聲波。超聲波可具有比其他系統(tǒng)使用的大的頻率，以清潔裝備組件。例如，超聲波可具有大于40khz、至少80khz的頻率、或另一頻率的頻率。
在506處，在裝備組件上的沉積物周圍生成氣穴。超聲波可在清潔劑中生成氣穴，以輔助從裝備組件的表面抬起沉積物。在508處，可選地使裝備組件在保持清潔劑的儲槽中移動。裝備組件可被旋轉(zhuǎn)、平移、抬起、降低等，以導(dǎo)致超聲波傳播到裝備組件的許多不同表面且在其附近生成氣穴。備選地，裝備組件可在儲槽中的清潔劑中保持靜止。
在510處，確定沉積物是否被從裝備組件移除。在一個實施例中，該確定可基于裝備組件在清潔劑中暴露于超聲波的時間的長度來自動地進(jìn)行。例如，裝備組件可保持在清潔劑中達(dá)指定的時間段，且在該時間段結(jié)束之后，被從清潔劑移除。備選地，在沉積物已被移除的檢查和驗證之后，可從清潔劑移除裝備組件。
如果沉積物已被移除，則可朝512進(jìn)行方法500的流程。但是，如果更多的沉積物剩余(或用于清潔裝備組件的時間段未屆滿)，那么方法500的流程可朝504返回，以用于裝備組件的額外清潔。在512處，將裝備組件從清潔劑移除。裝備組件可被從保持清潔劑的儲槽抬起，且被干燥或以其他方式準(zhǔn)備以用在較大驅(qū)動系統(tǒng)，諸如渦輪驅(qū)動的系統(tǒng)中。
本文所述的清潔系統(tǒng)和方法可用于從飛機(jī)渦輪發(fā)動機(jī)組件的表面移除沉積物，以改善通過組件的空氣流。在如本文所述清潔之前(例如，帶有在發(fā)動機(jī)組件的內(nèi)部和/或外部表面上的沉積物)和在如本文所述清潔之后，可測量空氣流作為流過渦輪發(fā)動機(jī)組件的空氣的體積和/或速度。
圖6示出在如本文所述清潔發(fā)動機(jī)組件之前和之后，通過不同的飛機(jī)渦輪發(fā)動機(jī)組件的測得空氣流600、602(例如，空氣流600a-g、602a-g)?？諝饬?00、602示為在代表不同發(fā)動機(jī)組件的水平軸線602和代表因發(fā)動機(jī)組件上和/或內(nèi)側(cè)的沉積物的存在而減少的空氣流百分比的豎直軸線606旁。各組空氣流600、602(例如，一個組中的空氣流600a、602a、另一組中的空氣流600b、602b等)代表清潔之前和之后的減少的空氣流(按照百分比)。空氣流600代表空氣流中的清潔前減少，而空氣流602代表空氣流中的清潔后減少。用于清潔不同發(fā)動機(jī)組件的超聲波以80khz頻率發(fā)射。
如圖6所示，在根據(jù)本文所述的清潔系統(tǒng)和方法的一個或更多個實施例的清潔之后，對于不同發(fā)動機(jī)組件中的各個，空氣流得到改善。例如，與空氣流600a、602a相關(guān)的發(fā)動機(jī)組件通過清潔改善空氣流，因為空氣流的減少從清潔前的近似-5.25%(例如，空氣流600a)減少到清潔后的近似-1.75%(例如，空氣流602a)。其他發(fā)動機(jī)組件在清潔后空氣流中呈現(xiàn)甚至更大的改善，諸如與空氣流600d、602d的組、空氣流600e、602e的組、和空氣流600f、602f相關(guān)的發(fā)動機(jī)組件。
圖7是根據(jù)一個實例的、在利用本文所述的清潔系統(tǒng)100和方法清潔之前的、圖2所示的裝備組件200的轉(zhuǎn)子盤密封件的外部表面的部分視圖。圖8是根據(jù)一個實例的、在利用本文所述的清潔系統(tǒng)100和方法清潔之后的、圖7所示的裝備組件200的同一轉(zhuǎn)子盤密封件的外部表面的部分視圖。若干沉積物700(圖7所示)存在于清潔前轉(zhuǎn)子盤的外部上，但被移除以留下清潔的表面800(圖8所示)。通過在存在基于檸檬酸的清潔劑的情況下使用高頻超聲波，移除沉積物700，而不損傷裝備組件200的表面。
圖9到11示出代表根據(jù)若干示例的飛機(jī)渦輪發(fā)動機(jī)組件的試樣的表面的照片900、1000、1100。照片900、1000、1100是100x放大照片，其示出當(dāng)使用不同頻率以用于生成超聲波時對發(fā)動機(jī)組件的表面導(dǎo)致的損傷(例如腐蝕)。圖9至11所示的表面都包括相同的合金涂層。在照片900中，被照相的表面未被本文所述的清潔系統(tǒng)100或方法超聲地清潔。在照片1000中，被照相的表面已被通過將發(fā)動機(jī)組件放置在具有基于檸檬酸的清潔劑104的儲槽102中且使發(fā)動機(jī)組件暴露于具有40khz或更小的頻率的超聲波而被超聲地清潔。在照片1100中，被照相的表面已被通過將發(fā)動機(jī)組件放置在具有與照片1000相同的基于檸檬酸的清潔劑104的相同儲槽102中，但使發(fā)動機(jī)組件暴露于具有80khz頻率的超聲波而被超聲地清潔。
如通過照片900、1000、1100的比較示出的，使照片900中的表面暴露于具有不大于40khz的頻率的超聲波可導(dǎo)致對表面的損傷，諸如通過在表面中生成剝落1002(圖10示出)。剝落1002指示表面上的涂層已被超聲波損傷。相反，使表面暴露于具有至少80khz的頻率的超聲波不會損傷涂層，因為如圖11所示，在清潔之后在表面上不存在剝落或其他損傷。
圖13是根據(jù)一個實例的、在利用本文所述的清潔系統(tǒng)100和方法清潔之前的、圖2所示的裝備組件200的轉(zhuǎn)子盤的密封件的外部表面的另一部分視圖。圖14是根據(jù)一個實例的、在利用本文所述的清潔系統(tǒng)100和方法清潔之后的、圖13所示的裝備組件200的同一轉(zhuǎn)子盤的密封件的外部表面的另一部分視圖。圖13和14所示的轉(zhuǎn)子盤被利用40khz的目標(biāo)頻率清潔，而沒有超聲波的任何屏蔽或衰減。如圖14所示，利用40khz的目標(biāo)頻率清潔可導(dǎo)致轉(zhuǎn)子盤涂層的一些不可接受的剝落1400。該剝落1400指示對轉(zhuǎn)子盤涂層的損傷，其在將轉(zhuǎn)子盤放置成重新使用之前可能需要被修復(fù)。
為了防止在超聲清潔期間對裝備組件的損傷，可使用一個或更多個屏蔽及衰減裝置。屏蔽及衰減裝置可用于具有精密和復(fù)雜幾何形狀的飛機(jī)發(fā)動機(jī)合金和構(gòu)件(包括具有涂層的構(gòu)件)的超聲清潔。構(gòu)件和具有涂層的構(gòu)件可包括渦輪葉片、渦輪噴嘴、盤、軸、和密封件。屏蔽及衰減裝置確保在清潔期間在構(gòu)件的任何區(qū)中都不激勵損傷性超聲波共振，其在原本將導(dǎo)致對構(gòu)件和/或涂層的損傷。
屏蔽及衰減裝置有效地在壓縮應(yīng)變下在構(gòu)件和組裝規(guī)模二者下保護(hù)金屬構(gòu)件、接合涂層、防腐蝕材料、密封件、和熱涂層的整體性。屏蔽及衰減裝置在一定范圍的功率強(qiáng)度(諸如從1到20瓦特每公升)和從環(huán)境到80攝氏度(或另一溫度)的溫度內(nèi)是有效的。屏蔽及衰減裝置對具有低于中性的ph的流體具有化學(xué)抵抗力。
圖15到17示出根據(jù)一個實施例的屏蔽及衰減裝置1500的立體圖。裝置1500可被放置于裝備組件200上，且在裝備組件200的超聲清潔期間保持與裝備組件200接觸。裝置1500防止超聲波中的目標(biāo)頻率的共振頻率到達(dá)并且/或者損傷裝備組件200，諸如通過防止裝備組件200的金屬構(gòu)件、接合涂層、防腐蝕材料、密封件、和熱涂層的剝落、開裂、點(diǎn)蝕等。
裝置1500可由可撓的彈性體材料形成，諸如橡膠、氯丁橡膠、丁基橡膠、天然橡膠等。備選地，裝置1500可由剛性或半剛性材料形成，諸如熱塑性聚合物。裝置1500形成為環(huán)形，以圍繞裝備組件的外周邊或周圍延伸。聯(lián)接機(jī)構(gòu)1502，諸如線纜、夾具(例如，軟管夾具)等，可將裝置1500固連于裝備組件。
圖18示出根據(jù)一個實施例的裝置1500的截面圖。裝置1500包括面對裝備組件200的內(nèi)部表面1800。如圖18所示，內(nèi)部表面1800具有與裝備組件200的外部表面1802互補(bǔ)的形狀。例如，外部表面1802可具有被接收到裝置1500的內(nèi)部表面1800的谷部內(nèi)的突出環(huán)。內(nèi)部表面1800的互補(bǔ)形狀允許裝置1500抵接裝備組件200的外部表面1802。
圖19示出根據(jù)一個實施例的配置在裝備組件200上的裝置1500。裝置1500可在裝備組件200浸到超聲浴槽中之前或期間被放置于裝備組件200周圍。裝備組件200然后可暴露于在本文所述的高頻超聲波，以清潔裝備組件200。如圖19所示，裝置1500可不覆蓋整個裝備組件200。作為代替，裝置1500可被置于裝備組件200的一些但非所有區(qū)域上或周圍。裝備組件200和裝置1500可暴露于高頻超聲波，以便清潔裝備組件200，包括裝備組件200的由裝置1500覆蓋的區(qū)域，同時避免對裝備組件200的損傷。
在一個實施例中，清潔方法包括將由多個部件形成的飛機(jī)發(fā)動機(jī)組件浸入儲槽中的流體清潔劑中，使該飛機(jī)發(fā)動機(jī)組件暴露于具有大于40khz的頻率的超聲波，和生成流體清潔劑的氣穴，以移除飛機(jī)發(fā)動機(jī)組件的部件中的一個或更多個上的沉積物，而不損傷飛機(jī)發(fā)動機(jī)組件。
在一個方面中，超聲波具有至少80khz的頻率。
在一個方面中，生成流體清潔劑的氣穴移除沉積物而不將超聲波聚焦在沉積物所位于的部位處。
在一個方面中，流體清潔劑包括檸檬酸清潔劑。
在另一個實施例中，另一清潔方法將裝備組件放置成與流體清潔劑接觸，該裝備組件由連結(jié)在一起以形成該裝備組件的多個分立構(gòu)件形成，且在裝備組件與流體清潔劑接觸時通過使裝備組件暴露于高頻超聲波來移除裝備組件上的一個或更多個沉積物。
在一個方面中，高頻超聲波具有大于40khz的頻率。
在一個方面中，高頻超聲波具有至少80khz的頻率。
在一個方面中，從裝備組件移除一個或更多個沉積物包括利用超聲波導(dǎo)致流體清潔劑中的氣穴。
在一個方面中，從裝備組件移除一個或更多個沉積物包括使裝備組件暴露于高頻超聲波而不將高頻超聲波聚焦在該一個或更多個沉積物所位于的部位處。
在一個方面中，流體清潔劑包括檸檬酸。
在一個方面中，將裝備組件放置成與流體清潔劑接觸包括將裝備組件浸入至少部分地填充由該流體清潔劑的儲槽中。
在一個方面中，利用高頻超聲波從裝備組件移除該一個或更多個沉積物，而不在裝備組件的構(gòu)件中的任一個中生成裂紋、不損傷裝備組件的構(gòu)件中的任一個上的涂層、并且不損傷裝備組件的構(gòu)件中的兩個或更多個之間的任何密封件。
在一個方面中，裝備組件包括渦輪發(fā)動機(jī)模塊組件。
在另一個實施例中，清潔系統(tǒng)包括：儲槽，其構(gòu)造成保持流體清潔劑和由連結(jié)在一起的多個分立構(gòu)件形成的裝備組件；和一個或更多個超聲換能器，其構(gòu)造成在裝備組件與流體清潔劑接觸時通過將高頻超聲波生成且傳播到該流體清潔劑中來移除裝備組件上的一個或更多個沉積物。
在一個方面中，該一個或更多個換能器構(gòu)造成生成頻率大于40khz的高頻超聲波。
在一個方面中，該一個或更多個換能器構(gòu)造成生成頻率為至少80khz的高頻超聲波。
在一個方面中，該一個或更多個超聲換能器構(gòu)造成通過利用超聲波導(dǎo)致流體清潔劑中的氣穴來從裝備組件移除一個或更多個沉積物。
在一個方面中，該一個或更多個超聲換能器構(gòu)造成通過使裝備組件暴露于高頻超聲波而不將高頻超聲波聚焦在該一個或更多個沉積物所位于的部位處來從裝備組件移除一個或更多個沉積物。
在一個方面中，流體清潔劑包括檸檬酸。
在一個方面中，儲槽構(gòu)造成保持流體清潔劑和裝備組件二者，使得裝備組件至少部分地浸沒在儲槽中的流體清潔劑中。
在一個方面中，該一個或更多個超聲換能器構(gòu)造成利用高頻超聲波從裝備組件移除該一個或更多個沉積物，而不在裝備組件的構(gòu)件中的任一個中生成裂紋、不損傷裝備組件的構(gòu)件中的任一個上的涂層、并且不損傷裝備組件的構(gòu)件中的兩個或更多個之間的任何密封件。
在一個方面中，裝備組件包括渦輪發(fā)動機(jī)模塊組件。
要理解的是，上面的描述意圖為示意性的且不是限制性的。例如，上述實施例(和/或其方面)可以與彼此結(jié)合地使用。此外，可進(jìn)行許多修改以使具體的情形或材料適應(yīng)本發(fā)明主題的教導(dǎo)而不脫離其范疇。雖然在本文所述的材料的尺寸和類型意圖限定本發(fā)明主題的參數(shù)，但是它們決不意圖為限制的且是示范實施例。在回顧上面的描述后，許多其它實施例對本領(lǐng)域技術(shù)人員而言將是顯而易見的。本發(fā)明主題的范圍因此應(yīng)當(dāng)參照所附權(quán)利要求、以及這種權(quán)利要求授權(quán)的等同物的全部范圍而確定。在所附權(quán)利要求中，用語“包括”和“在其中”用作相應(yīng)用語“包含”和“其中”的通俗易懂的英語等同物。而且，在下列權(quán)利要求中，用語“第一”、“第二”、和“第三”等僅僅用作標(biāo)注，并且不意圖對它們的對象強(qiáng)加數(shù)字要求。此外，下列權(quán)利要求的限制不書寫成裝置加功能格式，并且不意圖根據(jù)35u.s.c.§112(f)來解釋，除非或直至這種權(quán)利要求限制清楚地使用短語“裝置，其用于”，后面跟著沒有其他結(jié)構(gòu)的功能陳述。
本書面說明使用示例來公開本發(fā)明主題的若干實施例，且還使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)嵺`本發(fā)明主題的實施例，包括制造和使用任何裝置或系統(tǒng)且執(zhí)行任何合并的方法。本發(fā)明主題的可申請專利的范圍可包括由本領(lǐng)域技術(shù)人員想到的其它實例。如果此種其他示例包括不與權(quán)利要求的字面語言不同的結(jié)構(gòu)元件，或者如果這些其他示例包括與權(quán)利要求的字面語言無顯著差別的等同結(jié)構(gòu)元件，則這些其他示例意圖在權(quán)利要求的范圍內(nèi)。
本發(fā)明主題的某些實施例的下列詳細(xì)描述將在結(jié)合附圖閱讀時更好地理解。在附圖示出各種實施例的功能框圖方面來說，功能框不一定指示硬件電路之間的分開。因此，例如，功能框(例如，處理器或存儲器)中的一個或更多個可實現(xiàn)在單件硬件(例如，通用信號處理器、微控制器、隨機(jī)存取存儲器、硬盤等)中。類似地，程序可為獨(dú)立程序、可作為子例程并入操作系統(tǒng)中、可為安裝的軟件包中的功能，等等。各種實施例不限于附圖所示的布置和工具。
如在本文中使用的，以單數(shù)形式敘述且前綴詞語“一”或“一個”的元件或步驟應(yīng)當(dāng)理解為不排除復(fù)數(shù)個所述元件或步驟，除非明確地陳述這種排除。此外，對本發(fā)明主題的“實施例”或“一個實施例”的引用不意圖被解釋為排除存在也包括所敘述特征的附加實施例。而且，除非相反明確地陳述，否則“包括”、“包含”、或“具有”帶特定特性的一個元件或多個元件的實施例可包括附加的不具有該特性的此種元件。
因為可在本文所述的系統(tǒng)和方法中作出某些改變，而不脫離在本文中包括的本發(fā)明主題的精神和范圍，因而意圖為，上面的描述或在附圖中顯示的全部主題應(yīng)當(dāng)僅僅解釋為示出本文所述發(fā)明構(gòu)思的實例，并且不應(yīng)解釋為限制本發(fā)明主題。
如在本文中使用的，“構(gòu)造成”執(zhí)行任務(wù)或操作的結(jié)構(gòu)、限制、或元素是以與該任務(wù)或操作對應(yīng)的方式特別地在結(jié)構(gòu)上形成、構(gòu)造、編程、或改裝的。為了清楚和避免疑問，僅能夠修改以執(zhí)行該任務(wù)或操作的對象并不“構(gòu)造成”執(zhí)行在本文中使用的任務(wù)或操作。相反，本文中使用的“構(gòu)造成”的使用指示以與不被編程以執(zhí)行任務(wù)或操作的“不用定制(off-the-shelf)”的結(jié)構(gòu)或元素不同的方式執(zhí)行對應(yīng)任務(wù)或操作的結(jié)構(gòu)或元件的結(jié)構(gòu)適應(yīng)性或特性、編程，并且/或者指示被描述為“構(gòu)造成”執(zhí)行任務(wù)或操作的任何結(jié)構(gòu)、限制、或元素的結(jié)構(gòu)要求。