一種新型微凹涂布機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及薄膜涂布設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種新型微凹涂布機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]涂布技術(shù)是將一層或多層具有特定功能的液體材料涂布到基材表面上，用來改善基材表面功能，增強(qiáng)基材的利用價值，或者直接利用涂層表面特性，提高產(chǎn)品的使用價值。涂布技術(shù)通常以卷對卷的形式生產(chǎn)特定功能的產(chǎn)品，與其他高分子加工技術(shù)相比，涂布技術(shù)為高效率、高投資、高報酬率、技術(shù)密集的加工方法。涂布技術(shù)是包含多學(xué)科的復(fù)合技術(shù)，包括流體、化學(xué)、物理、機(jī)械等學(xué)科。涂布方式多達(dá)上百種，主要分為四類:自計量涂布方式、計量修飾涂布方式、預(yù)計量涂布、混合涂布。涂布機(jī)是實(shí)現(xiàn)涂布工藝的設(shè)備，主要由放卷單元、張力控制系統(tǒng)、糾偏系統(tǒng)、基材處理單元、涂布單元、真空吸附裝置、干燥單元、儲料架、收卷單元等部分構(gòu)成。由于市場要求的提高和高新材料的發(fā)展，涂層的均勻度要求越來越高，厚度要求越來越薄，因此，涂布機(jī)向超薄涂層、高速、更加精密的方向發(fā)展。在超薄涂層領(lǐng)域中，常用的涂布方法有凹版涂布、鋼絲刮棒涂布、擠出涂布等方式。在實(shí)際生產(chǎn)中，鋼絲刮棒涂布、逆向凹版涂布、背輥凹版涂布的涂布質(zhì)量容易出現(xiàn)多種問題。例如使用背輥凹版涂布時，因背輥壓力調(diào)節(jié)不好等問題，容易產(chǎn)生肉眼容易看到的涂布表面不均勻，即“橘皮”現(xiàn)象;使用鋼絲刮棒時，由于操作參數(shù)不準(zhǔn)及刮棒本身問題，容易產(chǎn)生的條紋現(xiàn)象。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]針對以上問題，本實(shí)用新型提供了一種新型微凹涂布機(jī)，解決了傳統(tǒng)凹版涂布造成的褶皺、涂布不均勻等問題。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:一種新型微凹涂布機(jī)，包括工作臺，涂布單元、放卷裝置、烘箱、基材、真空吸附輥與收卷裝置，所述涂布單元與放卷裝置位于工作臺下，所述涂布單元包括溶液槽與微凹導(dǎo)輥，所述溶液槽內(nèi)裝有涂布液，所述微凹輥輪設(shè)在溶液槽內(nèi)，所述溶液槽的上部還設(shè)有兩個導(dǎo)輥，所述基材一端連接放卷裝置另一端連接收卷裝置，所述基材穿在導(dǎo)輥與微凹導(dǎo)輥之間，所述烘箱安裝固定在工作臺上，所述烘箱上設(shè)有傳送輥，所述真空吸附輥固定在工作臺的一端。
[0005]進(jìn)一步地，所述工作臺上設(shè)有張力傳感器。
[0006]進(jìn)一步地，所述工作臺上設(shè)有糾編裝置。
[0007]進(jìn)一步地，所述基材采用電暈處理法進(jìn)行預(yù)處理。
[0008]本實(shí)用新型的有益效果:
[0009]本實(shí)用新型的關(guān)鍵環(huán)節(jié)在于準(zhǔn)確控制影響涂布厚度的主要因素，得到預(yù)設(shè)的涂布厚度，精確控制涂布的均勻性，獲得精密涂布產(chǎn)品，解決了傳統(tǒng)凹版涂布造成的褶皺、涂布不均勻等問題。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011 ]圖2為本實(shí)用新型涂布單元結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖中標(biāo)號為:1_工作臺，2-涂布單元，3-放卷裝置，4-烘箱，5-基材，6-真空吸附輥，7-收卷裝置，8-溶液槽，9-微凹導(dǎo)輥，10-涂布液，11-導(dǎo)輥，12-傳送輥，13-張力傳感器，14-糾編裝置。
【具體實(shí)施方式】
[0013]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0014]如圖1和圖2所示，一種新型微凹涂布機(jī)，包括工作臺I，涂布單元2、放卷裝置3、烘箱4、基材5、真空吸附輥6與收卷裝置7，所述涂布單元2與放卷裝置3位于工作臺I下，所述涂布單元2包括溶液槽8與微凹導(dǎo)輥9，所述溶液槽8內(nèi)裝有涂布液10，所述微凹輥輪9設(shè)在溶液槽8內(nèi)，所述溶液槽8的上部還設(shè)有兩個導(dǎo)輥11，所述基材5—端連接放卷裝置3另一端連接收卷裝置7，所述基材5穿在導(dǎo)輥11與微凹導(dǎo)輥9之間，所述烘箱4安裝固定在工作臺I上，所述烘箱4上設(shè)有傳送輥12，所述真空吸附輥6固定在工作臺I的一端。
[0015]在上述實(shí)施例上優(yōu)選，所述工作臺I上設(shè)有張力傳感器13，檢測基材在涂布的過程中的狀態(tài)，使其保持適中繃緊程度。
[0016]在上述實(shí)施例上優(yōu)選，所述工作臺I上設(shè)有糾編裝置14，糾偏裝置14的作用是將走偏的運(yùn)行中的基材放到正常軌跡中。
[0017]在上述實(shí)施例上優(yōu)選，所述基材5采用電暈處理法進(jìn)行預(yù)處理，有些基材5本身吸附涂布液的能力不高，例如存在表面能量不足、表面張力不夠等問題。這使得涂布液不能與基材良好的結(jié)合，進(jìn)而造成涂布表面不均勻、花紋、點(diǎn)子等問題，采用電暈處理法進(jìn)行預(yù)處理后，能讓基材5的表面層的功能團(tuán)有更高的吸附能力。
[0018]本實(shí)用新型的真空吸附輥6它的作用是避免在后續(xù)的運(yùn)輸、加工過程中保證涂布層不會受到磨損、劃傷等問題。真空吸附輥6的原理是通過真空栗抽氣從而形成局部負(fù)壓，使涂布過的基材5能夠牢靠的吸附在輥?zhàn)颖砻嫔?，并且被牽引，這樣不會出現(xiàn)料膜滑移現(xiàn)象，避免了輥?zhàn)颖砻鎸ν坎籍a(chǎn)品表面的磨損。
[0019]基于上述，本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)在于:本實(shí)用新型的關(guān)鍵環(huán)節(jié)在于準(zhǔn)確控制影響涂布厚度的主要因素，得到預(yù)設(shè)的涂布厚度，精確控制涂布的均勻性，獲得精密涂布產(chǎn)品，解決了傳統(tǒng)凹版涂布造成的褶皺、涂布不均勻等問題。
[0020]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種新型微凹涂布機(jī)，包括工作臺，涂布單元、放卷裝置、烘箱、基材、真空吸附輥與收卷裝置，所述涂布單元與放卷裝置位于工作臺下，其特征在于:所述涂布單元包括溶液槽與微凹導(dǎo)輥，所述溶液槽內(nèi)裝有涂布液，所述微凹輥輪設(shè)在溶液槽內(nèi)，所述溶液槽的上部還設(shè)有兩個導(dǎo)輥，所述基材一端連接放卷裝置另一端連接收卷裝置，所述基材穿在導(dǎo)輥與微凹導(dǎo)輥之間，所述烘箱安裝固定在工作臺上，所述烘箱上設(shè)有傳送輥，所述真空吸附輥固定在工作臺的一端。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型微凹涂布機(jī)，其特征在于:所述工作臺上設(shè)有張力傳感器。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型微凹涂布機(jī)，其特征在于:所述工作臺上設(shè)有糾編裝置。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型微凹涂布機(jī)，其特征在于:所述基材采用電暈處理法進(jìn)行預(yù)處理。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及薄膜涂布設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種新型微凹涂布機(jī)，包括工作臺，涂布單元、放卷裝置、烘箱、基材、真空吸附輥與收卷裝置，所述涂布單元與放卷裝置位于工作臺下，所述涂布單元包括溶液槽與微凹導(dǎo)輥，所述溶液槽內(nèi)裝有涂布液，所述微凹輥輪設(shè)在溶液槽內(nèi)，所述溶液槽的上部還設(shè)有兩個導(dǎo)輥，基材一端連接放卷裝置另一端連接收卷裝置，所述基材穿在導(dǎo)輥與微凹導(dǎo)輥之間，所述烘箱安裝固定在工作臺上，所述烘箱上設(shè)有傳送輥，所述真空吸附輥固定在工作臺的一端，本實(shí)用新型的關(guān)鍵環(huán)節(jié)在于準(zhǔn)確控制影響涂布厚度的主要因素，得到預(yù)設(shè)的涂布厚度，精確控制涂布的均勻性，獲得精密涂布產(chǎn)品，解決了傳統(tǒng)凹版涂布造成的褶皺、涂布不均勻問題。
【IPC分類】B05C13/02, B05C11/02, B05C9/14
【公開號】CN205361859
【申請?zhí)枴緾N201520973051
【發(fā)明人】陳灝渠
【申請人】惠州市浩明科技股份有限公司
【公開日】2016年7月6日
【申請日】2015年11月27日