槽9固定，蓋上真空蓋板3以使真空室I密封，接通真空泵、電磁閥的電源，調(diào)節(jié)電磁閥控制真空管的氣流量。真空泵的進(jìn)氣口抽進(jìn)負(fù)壓氣體，出氣口排出高壓氣體，霧化液體在真空室A和真空室B壓差作用下，由真空室A通過數(shù)碼產(chǎn)品5進(jìn)入到真空室B中，與此同時(shí)，霧化器2儲(chǔ)液罐內(nèi)的納米材料溶液在高壓下汽化并在通過所述霧化針孔后霧化，霧化液體在若干時(shí)間內(nèi)完成對(duì)數(shù)碼產(chǎn)品5的鍍膜操作。
[0027]處理數(shù)碼產(chǎn)品后，數(shù)碼產(chǎn)品能防水防潮抗腐蝕，抗刮耐磨(硬度達(dá)9H)，此外，該數(shù)碼產(chǎn)品還能防塵、抗指紋以及手感細(xì)膩，涂層肉眼看不到，厚度僅為發(fā)絲的千分之一，透光性強(qiáng)，手機(jī)屏幕畫面更艷麗，省電；此外，該數(shù)碼產(chǎn)品能抗輻射，減少手機(jī)輻射達(dá)到30%，針對(duì)人體無任何危害，安全高效。
[0028]在進(jìn)一步的實(shí)施過程中，為了使處理數(shù)碼產(chǎn)品上的納米液體盡快干燥，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置還包括加熱系統(tǒng)，所述加熱系統(tǒng)包括加熱室10、加熱管(省略視圖)以及風(fēng)扇，所述加熱室10內(nèi)設(shè)有加熱管及風(fēng)扇。
[0029]在本實(shí)用新型的實(shí)際應(yīng)用過程中，在上述真空霧化鍍膜系統(tǒng)完成對(duì)數(shù)碼產(chǎn)品的鍍膜操作后，將數(shù)碼產(chǎn)品取出置于加熱室10內(nèi)，啟動(dòng)加熱管以及風(fēng)扇，加熱管加熱，風(fēng)扇促進(jìn)熱力循環(huán)。
[0030]在以上實(shí)施例中，加熱管、風(fēng)扇、真空泵、電磁閥以及霧化器2的工作均需要依賴電力，為更加便于操作，更具體的，所述數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置還包括控制面板11、PLC電路板12，所述控制面板11上設(shè)有真空表13、溫控儀14、電源指示燈15、以及以觸摸屏形式設(shè)置的控制開關(guān)16，所述控制開關(guān)16用于控制所述風(fēng)扇、真空泵、電磁閥工作；其中，所述PLC電路板分別與所述加熱管、風(fēng)扇、真空泵、電磁閥電路連接。
[0031]更具體的，真空表13顯示真空室I內(nèi)的真空度；溫控儀14用于調(diào)節(jié)加熱管通入電流大小以控制加熱室10內(nèi)溫度以及加熱時(shí)間；上述觸摸屏的控制開關(guān)16包括真空泵控制開關(guān)、電磁閥控制開關(guān)以及風(fēng)扇控制開關(guān)。通過真空泵控制開關(guān)、電磁閥控制開關(guān)完成數(shù)碼產(chǎn)品的鍍膜操作，再通過風(fēng)扇控制開關(guān)以及溫控儀14完成數(shù)碼產(chǎn)品的加熱干燥操作。
[0032]在本實(shí)用新型的實(shí)際應(yīng)用過程中，使用者可以通過控制面板11完成數(shù)碼產(chǎn)品的鍍膜過程的所有操作，裝置更加集約和智能，改善用戶體驗(yàn)。
[0033]在進(jìn)一步的實(shí)施過程中，為使裝置更具有實(shí)用性和易于推廣，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置還包括上方和側(cè)壁均分別設(shè)有開口的殼體17 ;所述PLC電路板12、真空泵、霧化管、真空管設(shè)于殼體17內(nèi)，所述控制面板11設(shè)于殼體17上方開口處；所述加熱室10以抽拉方式設(shè)于殼體17側(cè)壁開口處；所述真空室I設(shè)置在殼體17上方且位于殼體17上方開口一側(cè)。
[0034]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置，其特征在于，包括真空霧化鍍膜系統(tǒng)，所述真空霧化鍍膜系統(tǒng)包括真空室、真空泵、電磁閥以及霧化器，所述真空室一側(cè)開口，且所述開口處設(shè)可閉合該開口的真空蓋板，所述真空室內(nèi)設(shè)有密封板，所述密封板中部設(shè)有夾持?jǐn)?shù)碼產(chǎn)品用的槽口，所述密封板將真空室分隔為真空室A、真空室B ;所述真空室A內(nèi)設(shè)有霧化器，所述霧化器通過霧化管與真空泵的出氣口連接，所述真空泵的進(jìn)氣口與真空管一端連接，所述真空管上設(shè)有電磁閥，且所述真空管另一端設(shè)于真空室B內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置，其特征在于，所述數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置還包括加熱系統(tǒng)，所述加熱系統(tǒng)包括加熱室、加熱管以及風(fēng)扇，所述加熱室內(nèi)設(shè)有加熱管及風(fēng)扇。
3.如權(quán)利要求2所述的數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置，其特征在于，所述數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置還包括控制面板、PLC電路板，所述控制面板上設(shè)有真空表、溫控儀、電源指示燈、以及以觸摸屏形式設(shè)置的控制開關(guān)，所述控制開關(guān)用于控制所述風(fēng)扇、真空泵、電磁閥工作；其中， 所述PLC電路板分別與所述加熱管、風(fēng)扇、真空泵、電磁閥電路連接。
4.如權(quán)利要求3所述的數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置，其特征在于，所述數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置還包括上方和側(cè)壁均分別設(shè)有開口的殼體；所述PLC電路板、真空泵、霧化管、真空管設(shè)于殼體內(nèi)，所述控制面板設(shè)于殼體上方開口處；所述加熱室以抽拉方式設(shè)于殼體側(cè)壁開口處；所述真空室設(shè)置在殼體上方且位于殼體上方開口 一側(cè)。
5.如權(quán)利要求4所述的數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置，其特征在于，所述真空室內(nèi)設(shè)有隔板，所述隔板上設(shè)有凹槽，所述凹槽的側(cè)壁上設(shè)有限位槽；其中，所述密封板通過所述凹槽插入限位槽后，所述隔板和密封板將真空室分隔為真空室A、真空室B。
6.如權(quán)利要求5所述的數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置，其特征在于，所述密封板為可壓縮EVA板。
7.如權(quán)利要求6所述的數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置，其特征在于，霧化器包括儲(chǔ)液罐以及位于儲(chǔ)液罐上方開口的霧化針孔，所述儲(chǔ)液罐內(nèi)盛放納米材料溶液，所述納米材料溶液在高壓下汽化并在通過所述霧化針孔后霧化。
8.如權(quán)利要求7所述的數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置，其特征在于，所述數(shù)碼產(chǎn)品為手機(jī)。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種數(shù)碼產(chǎn)品真空霧化鍍膜裝置，包括真空霧化鍍膜系統(tǒng)，真空霧化鍍膜系統(tǒng)包括真空室、真空泵、電磁閥以及霧化器，真空室一側(cè)開口，且開口處設(shè)可閉合該開口的真空蓋板，真空室內(nèi)設(shè)有密封板，密封板中部設(shè)有夾持?jǐn)?shù)碼產(chǎn)品用的槽口，密封板將真空室分隔為真空室A、真空室B；真空室A內(nèi)設(shè)有霧化器，霧化器通過霧化管與真空泵的出氣口連接，真空泵的進(jìn)氣口與真空管一端連接，真空管上設(shè)有電磁閥，且真空管另一端設(shè)于真空室B內(nèi)。本實(shí)用新型將霧化器中霧化后的納米顆粒在壓力差的作用下流經(jīng)卡在真空室A、B腔室中間的手機(jī)，并對(duì)手機(jī)的完全披覆，處理后的手機(jī)具有優(yōu)異的防水防潮抗腐蝕以及抗刮耐磨性能。
【IPC分類】B05B15-12
【公開號(hào)】CN204380910
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420759651
【發(fā)明人】馮迎春, 戴亞文, 鄒倩
【申請(qǐng)人】馮迎春
【公開日】2015年6月10日
【申請(qǐng)日】2014年12月8日