專利名稱:微粒分散裝置及利用該裝置混合反應物與燃燒氣體的裝置的制作方法
本發(fā)明涉及一種用于分散聚結成團的微粒子的微粒分散裝置以及一種利用該分散裝置將反應物與燃燒氣體混合的裝置。
一般說來，隨著微粒子的尺寸的減少(直徑小到10um以下)，其聚集力就越大，從而使得一些微粒粘在一起，形成表現為粗大粒子的聚團粒子群。在此以前，人們使用由一個噴孔的普通噴咀或噴射器組成的系統作為聚團粒子分散裝置。但是，用這種普通的分散裝置只能處理少量的微粒子，因此在開發(fā)處理大量微粒子的大型分粒器或大容量的反應器時就出現了困難。
根據上述的普通單孔式微粒分散裝置，當要求增加處理的微粒子的數量時，就得增大噴孔的直徑，因此如果不施加過量的動力，微粒子就不能得到充分的分散。也就是說，用先有技術的分散裝置處理直徑小于幾個微料的單個微粒子的數量是有限的(目前為30～50公斤/小時/單位)。
本發(fā)明的目的是提供一種微粒分散裝置，它能在不需要增加動力的條件下，使處理的微粒子數量增加到一個顯著的水平。
為了達到此目的，本發(fā)明的微粒分散裝置包括一個本體，一個在所述本體內形成的并且終止于一個窄縫形噴咀的微粒通道，以及一個相對于微粒通道下游傾斜并且與微粒通道連通的氣體輸入通道。
按照這種布置，氣體傾斜地射向微粒通道的下游，在微粒通道中產生噴射器的作用，并且將微粒子吸出和輸送出去并分散開來。在這種情況下，由于噴咀呈窄縫形，因此可以分散大量的微粒而不可能喪失單孔型分散裝置所具有的微粒分散特性。
本發(fā)明用于將反應物與燃燒氣體進行混合的裝置包括一些微粒分散裝置，它們以一定的間隔布置在與燃燒氣體的流動方向交叉的方向上噴射含有反應物的氣體的方向上。所述分散裝置布置得使其以這樣的方式噴射所述的含有反應物的氣體，即分散裝置布置得越靠上游，其噴射含有反應物的氣體的射程就越大。
附圖的簡要說明圖1是本發(fā)明第一個實施例的分散裝置的剖視圖。
圖2是圖1所示的分散裝置的一部分的底視圖。
圖3是用于解釋微粒分散過程的原理圖。
圖4是表示圖1所示的分散裝置工作情況的透視圖。
圖5是本發(fā)明第二個實施例的分散裝置的剖視圖。
圖6是本發(fā)明第三個實施例的分散裝置的剖視圖。
圖7是圖6所示的分散裝置的一部分的底視圖，其中去掉了一個塊狀板。
圖8是本發(fā)明的第四個實施例的分散裝置的剖視圖。
圖9是本發(fā)明的第五個實施例的分散裝置的透視圖。
圖10是本發(fā)明的第六個實施例的分散裝置的透視圖。
圖11是本發(fā)明用于將反應物與燃燒氣體混合的裝置的第一個實施例的剖視圖。
圖12是圖11所示裝置的橫截面圖。
圖13是本發(fā)明的用于將反應物與燃燒氣體混合的裝置的第二個實施例的剖視圖。
圖14是表示圖13所示裝置的布置的示意透視圖。
圖15是本發(fā)明的用于將反應物與燃燒氣體混合的第三個實施例的剖視圖。
下面參照圖1至圖3對本發(fā)明的一個第一實施例進行描述。
形狀大致為圓盤組件的本體1包括一個噴射圓盤2，一個與所述噴射圓盤2端部配合聯接的中間圓盤3以及一個在所述中間圓盤3中配合聯接的微粒輸入圓盤4，所述圓盤2，3和4用螺栓5聯結成一體。圓盤2和3之間插有一個墊圈6，圓盤3和4之間有一個密封圈7。
微粒輸入圓盤4中有一個環(huán)形微粒通道8，環(huán)形微粒通道8配有沿周向相互隔開的一些聯接件9，這些聯接件9將圓盤4的中央部分和外圍部分聯在一起。圓盤4有一個第一氣體輸入通道10，和一個在其內部具有氣體儲存腔12的圓筒形伸出部分11。
中間圓盤3的內部有一個能夠容納輸入圓盤4上的伸出部分11的開口，一個由上述開口和伸出部分11之間構成的環(huán)形微粒儲存腔13和一個端部開口的從微粒儲存腔13向下延伸而成的上游環(huán)形通道14。圓盤2有一個對著上游環(huán)形通道14并與其相通的下游環(huán)形通道16，該下游環(huán)形通道16的開口端構成一個環(huán)形噴咀15。下游環(huán)形通道16有一個喉口部分和一個喇叭口部分作為噴射器的擴張段。由于上游環(huán)形通道14是由圓盤3和圓盤4之間的間隙形成的，因此它的形狀是一個周向連通的整環(huán)。下游環(huán)形通道16是在噴射圓盤2的外圍部分和中央部分之間形成的。而所述的外圍部分和中央部分則通過圖2中所示的周向相間布置的連接件17連成一體。
噴射圓盤2有一個配合安裝在中間圓盤3中的圓筒形伸出部分18。
噴射圓盤2上的伸出部分18的中央部分插在輸送圓盤4上的伸出部分11中。這兩個伸出部分11和18配合裝配在一起使得在它的中央部分之間形成一個錐形內間隙20，該內間隙20朝著通道16的下游中心傾斜。內間隙20由一個在伸出部分11內延伸的連接通道21與內部氣體儲存腔12相通。一個用于調節(jié)內間隙20的橫截面積的墊圈23插在輸入圓盤4的中央部分22的前端和噴射圓盤2之間。
中間圓盤3中的微粒儲存腔13的壁插在噴射圓盤2的環(huán)形通道16中。在噴射圓盤2的伸出部分18和微粒儲存腔13的壁之間形成一個錐形的外間隙24，所述外間隙24與內間隙20一樣向著下游環(huán)形通道16的下游中央部分傾斜，并且與所述通道16相通。兩個間隙20和24組成拉法爾噴管(Laval tubes)從而起到超音速噴咀的作用。外間隙24的橫截面積由墊圈6來調節(jié)。在中間圓盤3中，在噴射圓盤2的伸出部分18和中間圓盤3之間構成一個與外間隙24相通的外部氣體儲存腔25。中間圓盤3有一個與外部氣體儲存腔25相通的第二氣體輸入通道26。
噴射圓盤2的端面中部有一個安裝噴咀螺栓27頭的凹槽，螺栓27穿過噴射圓盤2并固定地擰在輸入圓盤4的前端中央部分22中。螺栓27的中心有一個噴咀通孔30，與輸入圓盤4中的內部氣體儲存腔12相連通。噴咀螺栓27和噴射圓盤2布置得使它們的端面相互平齊地貼在一起。
圖1和圖2中的編號32表示微粒子，編號33表示一種氣體(例如空氣)。
為了使微粒子分散，一種高壓氣體(如壓力為2～3公斤/厘米2或更高)被輸送到兩個氣體輸入通道10和26中。此時，在內部氣體儲存腔12中的氣體33經過內間隙20射入下游環(huán)形通道16，而在外部氣體儲存腔25中的氣體33則經過外間隙24也射入該通道16中，因此在噴咀區(qū)域產生了一種噴射器作用。此時，上游環(huán)形通道14的開口附近區(qū)域有一個負壓作用于其中，從而產生流過上游環(huán)形通道14的氣流34。
在這種情況下，當微粒32輸入到微粒儲存腔13中后，它們就被氣流34從上游環(huán)形通道14帶到下游環(huán)形通道16，在這里受到由來自上游環(huán)形通道14的低速氣流34和從兩個間隙20和24射出的高速(超音速)氣流33之間的速度差產生的強烈的混合流和剪切流的作用，因此將圖3所示的聚團微粒35分散成為單個的微粒子36。采用這種分散方式，處理的微粒子數量可以大大地增加到1噸/小時/單位以上。
微粒32以環(huán)形從下游環(huán)形通道16的噴咀15處向外射出。在射出的微粒32的內側37，高濃度的霧狀粒子相互干涉，因此，存在著分散了的微粒子再次聚集起來的危險。但是，由于在內部氣體儲存腔12中的氣體經過噴咀螺栓27的噴咀通孔30射入粒子射流的內側37中(如圖4所示)，高濃度分散相被氣體33稀釋，從而防止了分散了的微粒再次聚集。因此，為了提供大量的稀釋氣體33，最好使噴咀通孔30的橫截面積(或直徑)比噴咀15的橫截面積(或直徑)大得多。而且當該裝置按照圖11所示的以后將要描述的方式用作微粒分散噴咀時，上述增大噴咀通孔30的直徑將會產生使霧狀粒子射流達到更遠的位置的效果。
圖5示出的第二個實施例是第1個實施例的改形。在這個實施例中，一個圓筒形部件19安裝在輸入圓盤4的中部，所述圓筒形部件19有一個通向噴咀通孔30的氣體輸入通道28。該氣體輸入通道28不與內部氣體儲存腔12相通而在輸入圓盤4的端面開口。內部氣體儲存腔12環(huán)繞圓筒形部件19的外表面而成。第二氣體輸入通26從輸入圓盤4的端面通向外部氣體儲存腔25，而一個從所述的氣體輸入通道26延伸出來的支通道29則與內部氣體儲存腔12相連通。在輸入圓盤4中，微粒輸入通道8并不是圖1中所示的環(huán)形通道，而是呈現以一定的間隔周向分布的孔的形式，這些孔從輸入圓盤4的端面延伸到微粒儲存腔13中。以這種方式制造的粒子輸入通道8的孔道結構，保證了形成支通道29所需要的區(qū)域。
按照這種布置，輸入到第二氣體輸入通道26中的氣體(例如空氣)分配到內、外氣體儲存腔25和12中，然后經間隙20和24射入下游環(huán)形通道16。氣體輸入通道28中供入氣體31，氣體31將由噴咀通孔30射出。由于輸入通道28與內部氣體儲存腔12隔開，氣體31可以與供入到下游環(huán)形通道16的氣體33不同。例如，在以后要描述的圖11中，當本裝置作為噴咀用于分散燃燒氣體中的反應物時，所述的燃燒氣體可以作為氣體31供入。
圖6和圖7示出的第三實施例是第一實施例的一種改形。該實施例除去了在第一實施例中使用的噴咀30，并且可以用于微粒噴射條件能夠保證由噴咀15射出的并由此分散的微粒子不會發(fā)生再聚集的危險的地方。
在這個實施例中，本體1包括一個噴射圓盤2，和一個微粒輸入圓盤4，該圓盤4通過一個密封件41配合聯接到噴射圓盤2上面。輸入圓盤4中有一個與本體軸線42同心的環(huán)形微粒儲存腔13，從該微粒儲存腔13開始延伸的部分是上游環(huán)形通道14，其下游端開著。噴射圓盤2有一個對著上游環(huán)形通道14且與之相通的下游環(huán)形通道16。環(huán)形通道14和16象第一個實施例中那樣，各自的內、外部分都通過周向相間布置的聯接件聯接成一體。
輸入圓盤4中的微粒儲存腔13伸向噴射圓盤2，使其突起部分插在噴射圓盤2中的環(huán)形凹槽中。這種配合裝配形成了一個錐形的內間隙20和一個錐形的外間隙24。
在本體軸線42上設有一個內部氣體儲存腔12并橫跨圓盤2和4的兩個相對的表面。內部氣體儲存腔12與內間隙20的內端相連通，并與連到輸入圓盤4上的第一氣體輸入管43連通。輸入圓盤4有一個沿微粒儲存腔13周向向外布置的環(huán)形外部氣體儲存腔25，該外部氣體儲存腔與外間隙24的外端相通，并與連到輸入圓盤4上的第二氣體輸入管44連通。
噴射圓盤2通過一個密封件45裝在一個圓盤形的塊板46上，所述塊板46中有一個與在下游環(huán)形通道16的開口端形成的噴咀15相連通的環(huán)形通道47。
在第一實施例的分散裝置中，有一個處于環(huán)形微粒噴咀中央的氣體噴咀，第三實施例則不是這種形式。因此，在防止了微粒在射流內部發(fā)生再聚結的條件下使用時，本實施例的裝置是優(yōu)越的。
圖8示出的第四實施例是第三實施例的改型。與第三實施例相比，在這個實施例中，氣體33只從內側輸入，而除去了從外側輸入氣體33的結構。
相比第一至第四實施例中，噴咀15和其它部件都是做成環(huán)形的，但在圖9所示的第五實施例和圖10所示的第六實施例中的噴咀15和其它部件卻是做成直線形的。
圖11示出本發(fā)明的用于將反應物與燃燒氣體混合的裝置的第一實施例。它是上述微粒分散裝置的一個應用，用于將少量的反應物與來自爐子的高溫燃燒氣體混合，以進行諸加脫硫和無催化脫硝工作過程。
編號51表示形成爐壁的燃燒氣體通道，它有四個側壁部分51A、51B、51C、和51D，這四個壁構成橫截面為四角形的燃燒氣體通道52。在相互對著的兩個壁51A和51C上各自都設有一些開口54，這些開口的方向與氣體流動方向交叉，并在氣體流動方向上和在與氣體流動的垂直方向上相互存在一定的間隔。每個開口54上都接有上述分散裝置55。分散裝置55A，55B和55C噴射由運載氣體輸送的微粒狀反應物(如碳酸鈣CaCO3)，在燃燒氣體通道52中形成射流56，57和58。分散裝置55A55B和55C的布置使得它們的位置越往上游，則它們產生的射流所達到的地方就越接近燃燒氣體通道的中部。射流56，57和58的射程的調節(jié)可以通過改變環(huán)形噴咀15(見圖1)的直徑(節(jié)圓)或改變用于稀釋流體的噴咀通孔30(見圖1)的直徑來進行。燃燒氣體通道的形成壁51的側壁51A和51C各自有一個伸出部分59，位于分散裝置55的稍下游處，從而形成一個截面收縮的氣體通道52a。
在這種布置中處理燃燒氣體時，射流56，57和58是從分散裝置55射入燃燒氣體53中的。此時，來自上游分散裝置55A的射流56幾乎抵達燃燒氣體53的中心，最后折向燃燒氣體53的流動方向并在燃燒氣體53中分散開來。由于來自布置在分散裝置55A下游的分散裝置55B的射流57的射程比射流56的射程要短，且由于它們(射流57)是從下游區(qū)域射出的，則射流57的射出不存在其中心與射流56相干擾的可能，且射流57折向燃燒氣體53的流動方向，并在其中分散開來。相似地，由于來自分散裝置55C的射流58的射程比射流57的射程短，且由于射流58是從更下游的區(qū)域射出的，因此，射流58的射出也不存在其中心與射流57相干擾的可能，并被折向燃燒氣體53的流動方向，在其中分散開來。當射流56，57和58在燃燒氣體流53中折向和分散時，射流中含有的少量反應物可以非常均勻地且迅速地與燃燒氣體53混合。
在圖11和圖12中，在包括未安裝分散裝置55的側壁51B和51D之間的方向上，即在Y方向上，射流56，57和58的分布是均勻的。但是，在X方向上，不同大小的射流56，57和58相互混在一起，而且由于射流56，57和58的折向，它們的分布是非均勻的。也就是說，在X方向上，反應物的濃度將有很大的差異。為了使其均勻，設置了一個伸出壁部分59，用于形成一個橫截面收縮的氣體通道52a。射流56，57和58在它們折向后與燃燒氣體53擠縮在一起，由此使得在X方向上的混合加速。此外，該收縮部分的收縮率越大，所取得的加速效果也就越大。但是，只要使收縮的氣體通道52a的橫截面積等于燃燒氣體通道52的橫截面積的60%左右，就可以獲得顯著的混合加速效果。
也可以通過大角度彎折燃燒氣體通道52，而不是收縮其橫截面積來加速混合。在這種情況下，彎折角最好大于90度。
上述射流56，57，和58的混合必須在大約1秒鐘內完成，因為反應的時間大約為1秒鐘。此外，考慮到爐中的平衡問題，用于噴射氣流中的反應物的運載氣體的數量必須小于燃燒氣體量的10%最好小于5%。為此，射流的初速必須至少為100米/秒，最好是大約為300米/秒的亞音速。
圖13和圖14示出了本發(fā)明用于將反應物與燃燒氣體混合的裝置的第二個實施例。在該實施例中，側壁部分51A和51B上設有一些噴咀，這些噴咀的方向與燃燒氣體53的流動方向交叉并在流動方向上相互隔開。更具體地說，在氣流的上游區(qū)域，有一些在橫向上以預定的間距P1相互隔開的大直徑噴咀60，距大直徑噴咀60下游某預定的距離l1的地方有一些以預定的間距P2相互隔開的中直徑噴咀61。距中直徑噴咀61下游某預定的距離l2的地方有一些以預定的間距P3相互隔開的小直徑噴咀62。這些噴咀60，61和62用來噴射含反應物的氣體63，后者是由運載氣體稀釋少量反應物(如碳酸鈣CaCO3或氨氣NH3)獲得的，在各組大、中、小直徑的噴咀60，61和62的外部設有分別與之相連的導管64、65和66，這些導管中又分別連有輸入管67，68和69。
按照這種布置，來自大直徑噴咀60的大直徑射流70幾乎射到燃燒氣體通道52的中心，而中直徑噴咀61的中直徑射流71的射程比下游區(qū)域的大直徑射流70的射程要短，而小直徑噴咀62的小直徑射流72的射程又比下游區(qū)域的中直徑射流71的射程要短。因此，在圖11和圖12所示的實施例的情況下，反應物能夠與燃燒氣體53混合。
圖15示出了本發(fā)明用于將反應物與燃燒氣體混合的裝置的第三個實施例。噴咀73A、73B和73C采用相同的直徑。在這種情況下，噴咀是這樣布置的即在上游區(qū)域的噴咀73A以高初速射出射流74A，在中游區(qū)域的噴咀73B以中初速射出射流74B，而在下游區(qū)域的噴咀73C以低初速射出射流74C。
此外，射流直徑和射流初速的適當配合可獲得將少量反應物與燃燒氣體53均勻混合而不引起射流軸之間的相互干擾的效果。
射流的射程L以及射流穿過射程L所需要的時間t取決于射流的直徑(噴咀直徑)d，射流初速度U0和燃燒氣體的流速U1。
在圖13和圖14所示的反應物混合裝置中，鑒于大直徑噴咀60的噴射速度最高而小直徑噴咀62的噴射速度最低的事實，則大直徑噴咀60的數目小，而小直徑噴咀62的數目大，亦即，間距關系為P1＞P2＞P3……＞Pn。
從宏觀上看，爐中的燃燒氣體由進口流向出口，但是就爐子的各個橫截面上的流動來看，其分布是不同的而且非常復雜。也就是說，在一個地方氣體流動得快些，而在另一個地方氣體則流動得慢些，在局部處，氣體有時回流。因此，在實際中，在爐壁上安裝噴咀裝置時，噴咀在爐子上安裝的角度和位置是參照爐中燃燒氣體的流型進行調整的，以減小此種燃燒氣體的流型對爐橫截面上的射流分布的影響。
下面列舉兩個實驗例子Ⅰ和Ⅱ。
實驗例Ⅰ尺寸關系例如，當一個大尺寸爐子在X方向上為9米，在Y方向上為14米時，直徑分別為d＝0.006米，0.01米，0.018米和0.03米的四種型號的噴咀以下述方式布置在側壁51A和51C上。
在最上游區(qū)域，以P1＝2.00米的間距安裝了7個直徑為d＝0.03米的噴咀;在距上述噴咀l1＝2.1米的下游處以P2＝1.25米的間距安裝了11個直徑為d＝0.018米的噴咀;又在距第二組噴咀下游l2＝1.1米的地方，以P3＝0.7米的間距安裝了20個直徑為d＝0.01米的噴咀;在距第三組噴咀下游的地方(l3＝0.6米)，以P4＝0.4m的間距安裝了35個直徑為d＝0.006米的噴咀。直徑為0.006米的噴咀的下游區(qū)域在X方向上收縮了3米，使其在X方向上只有6米的長度。當燃燒氣體以U1＝5米/秒的平均速度在通道中流動時，含有反應物的運載氣體以U0＝200米/秒的初速從每個噴咀中射出。結果，在t＝0.5秒內，燃燒氣體通道52的整個區(qū)域都成為充分均勻混合的狀況。
實驗例Ⅱ尺寸關系例如，當一個大尺寸爐子在X方向上為15米，在Y方向為20米時，直徑分別為0.006米，0.01米，0.018米，0.03米和0.05米的五種型式的噴咀以下述方式布置在側壁51A和51C上。
在最上游區(qū)域，以P1＝3.3米的間距安裝了6個直徑為d＝0.05的噴咀;距該組噴咀下游l1＝3.2米處，以P2＝2.0米的間距安裝了10個直徑為d＝0.03米的噴咀;又在距第二組噴咀的更下游處(l2＝2.1米)，以P3＝1.25米的間距安裝了16個直徑為d＝0.018米的噴咀;在距離第三組噴咀的再下游處(l3＝1.1米)，以P4＝0.7米的間距安裝了29個直徑為d＝0.01米的噴咀;距第四組噴咀下游再遠些的地方(l4＝0.6米)，以P5＝0.4米的間距安裝了50個直徑為d＝0.006米的噴咀。在最下游區(qū)域的直徑為0.006米的噴咀下游的區(qū)域在X方向上縮減了5米，使其在X方向上的長度為10米。
當燃燒氣體以U1＝5米/秒的平均速度在通道中流過時，含有反應物的運載氣體以U0＝200米/秒的初速從每個噴咀中噴出。結果，在t＝1～2秒內，燃燒氣體通道52的整個區(qū)域都成為充分均勻混合的狀態(tài)。這樣，由爐子的尺寸和形狀來確定噴咀的個數和噴咀級的數目，以獲得最佳結果。
權利要求
1.一種微粒分散裝置包括一個本體，一個在所述本體中形成的微粒通道，所述微粒通道的終端為窄縫形的噴咀，和一個在所述本體中形成的間隙，所述間隙朝著所述微粒通道的下游傾斜并與所述的微粒通道相互連通以便將氣體射入所述微粒通道中。
2.如權利要求
1所述的微粒分散裝置，其特征在于所述噴咀形狀是一個環(huán)形窄縫。
3.如權利要求
2所述微粒分散裝置，其特征在于所述間隙由所述微粒通道的周邊內側和周邊外側形成。
4.如權利要求
2所述的微粒分散裝置，其特征在于所述間隙或者位于微粒通道的周邊內側或者位于微粒通道的周邊外側。
5.如權利要求
2所述的微粒分散裝置，其特征在于位于環(huán)形噴咀處的環(huán)狀物中部裝有一個氣體噴咀。
6.如權利要求
5所述的微粒分散裝置，其特征在于所述氣體噴咀和周邊內間隙與公共的氣體輸入裝置相連通。
7.如權利要求
1所述的微粒分散裝置，其特征在于所述周邊內間隙和周邊外間隙與公共的氣體輸送裝置相連，而氣體噴咀則連到另一個氣體輸送裝置上。
8.如權利要求
1所述微粒分散裝置，其特征在于噴咀的形狀為直縫形。
9.如權利要求
8所述的微粒分散裝置，其特征在于所述間隙形成于所述微粒通道的側面的每一側。
10.如權利要求
1所述的分散裝置，其特征在于所述氣體輸入通道形成于所述微粒通道的一側。
11.一種用于將反應物與燃燒氣體混合的裝置，包括一些能夠在與燃燒氣體的流動方向交叉的方向上噴射含有反應物的氣體的分散裝置，所述分散裝置安裝在構成爐壁的燃燒氣體通道中，并在氣體流動方向上相互隔開，所述分散裝置能夠這樣噴射含有反應物的氣體，即所述分散裝置越往上游安裝，其射程就越大。
12.如權利要求
11所述的用于將反應物與燃燒氣體混合的裝置，其特征在于每個所述微粒分散裝置包括一個本體，一個位于所述本體內并終止于一個窄縫形噴咀的微粒通道和一個位于所述本體內的間隙，所述間隙朝著所述微粒通道的下游傾斜并且與所述微粒通道相連通，以便將氣體射入所述微粒通道中。
13.如權利要求
11所述的用于將反應物與燃燒氣體混合的裝置，其特征在于所述微粒分散裝置是一些安裝在一定位置上的噴咀，所述噴咀的直徑是這樣確定的，即使得安裝在上游區(qū)域的那些噴咀的直徑最大，再依次使從上游區(qū)域到下游區(qū)域上的其它噴咀的直徑依次減小。
14.如權利要求
11所述的用于將反應物與燃燒氣體混合的裝置，其特征在于所述分散裝置為一些安裝在一定位置上的噴咀，在這些噴咀中，安裝在燃燒氣體流動方向上游的那些噴咀在高壓下噴射含有反應物的氣體，而隨著噴咀的位置越接近下游，噴射含有反應物的氣體時的壓力也就逐漸減小。
專利摘要
一種用于分散聚集狀態(tài)的微粒的裝置，包括一個本體，一個位于本體內并終止于一個窄縫形噴嘴的微粒通道和一個位于本體內的間隙。該間隙朝著微粒通道的下游傾斜并與其相連通，以便將氣體射入其中。由于噴嘴呈窄縫形，大量的微粒可以同時進行分散而不會失去單孔式分散裝置的分散特性。當一些這樣的分散裝置裝于構成爐壁的燃燒氣體通道中，并布置得使其所處的位置越接近上游，則從那里噴出含有反應物的氣體的射流的射程越大時，反應物在燃燒氣體中擴散并均勻分布。
文檔編號B01F5/04GK87100888SQ87100888
公開日1987年8月26日 申請日期1987年1月24日
發(fā)明者小林義雄, 東條千明, 木下正義 申請人:日立造船株式會社導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan