本申請(qǐng)涉及霧化，特別是涉及一種霧化噴嘴、霧化器及電子霧化裝置。

背景技術(shù)：

1、現(xiàn)有技術(shù)中，兩相流霧化噴嘴為實(shí)現(xiàn)更高粘度介質(zhì)霧化及提升霧化效果，噴嘴流道結(jié)構(gòu)中需保證微尺寸精度，傳統(tǒng)的制造技術(shù)工藝較難實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵微尺寸的加工精度，不能保證霧化噴嘴的性能穩(wěn)定性，霧化效果一致性差；而且，現(xiàn)有的霧化噴嘴無法滿足空心錐霧化需求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)主要提供一種霧化噴嘴、霧化器及電子霧化裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的霧化噴嘴無法滿足空心錐霧化需求的問題。

2、為解決上述技術(shù)問題，本申請(qǐng)采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種霧化噴嘴，包括：

3、霧化腔；

4、多個(gè)相互間隔的第一流體入口，與所述霧化腔連通；

5、環(huán)形的第二流體入口，與所述霧化腔連通且與所述第一流體入口間隔設(shè)置；其中，所述第二流體入口用于將第二流體傳輸至所述霧化腔，并使得所述第二流體形成中空體；所述第一流體入口用于將第一流體傳輸至所述霧化腔，并使得所述第一流體和所述第二流體在所述霧化腔內(nèi)霧化生成氣溶膠；

6、出霧口，與所述霧化腔連通且與所述第一流體入口和所述第二流體入口均間隔設(shè)置，所述出霧口用于將所述氣溶膠噴射出所述霧化腔。

7、在一實(shí)施方式中，所述霧化噴嘴包括：基底，具有第一表面；所述第一表面設(shè)置有霧化槽；所述霧化槽的側(cè)壁設(shè)置有多個(gè)第一流體槽，多個(gè)所述第一流體槽沿所述霧化槽的側(cè)壁的周向間隔分布；所述霧化槽的底壁設(shè)置有所述第二流體入口；蓋體，覆蓋于所述第一表面；所述蓋體與所述霧化槽配合形成所述霧化腔，與所述第一流體槽配合形成所述第一流體入口；所述蓋體對(duì)應(yīng)于所述霧化槽的位置設(shè)置有所述出霧口。

8、在一實(shí)施方式中，所述霧化腔的底壁設(shè)置有環(huán)形通孔，所述環(huán)形通孔環(huán)繞所述霧化腔的中軸線設(shè)置且作為所述第二流體入口；或

9、所述霧化腔的底壁間隔設(shè)置有多個(gè)通孔，多個(gè)所述通孔環(huán)繞所述霧化腔的中軸線設(shè)置且作為所述第二流體入口。

10、在一實(shí)施方式中，所述霧化腔的底壁間隔設(shè)置有多個(gè)通孔，所述通孔的數(shù)量與所述第一流體入口的數(shù)量相等，且所述通孔與所述第一流體入口一一對(duì)應(yīng)設(shè)置。

11、在一實(shí)施方式中，所述霧化腔為圓形；所述霧化腔的底壁間隔設(shè)置有多個(gè)通孔，所述通孔為圓形或弧形；所述出霧口為圓形通孔。

12、在一實(shí)施方式中，多個(gè)所述第一流體槽的形狀相同且沿所述霧化槽的側(cè)壁的周向均勻分布，沿著所述第一流體槽遠(yuǎn)離所述霧化槽的一端向靠近所述霧化槽的一端，所述第一流體槽的寬度逐漸減小。

13、在一實(shí)施方式中，所述第一流體槽的側(cè)壁呈弧形，且多個(gè)所述第一流體槽形成旋流結(jié)構(gòu)。

14、在一實(shí)施方式中，所述第一表面還設(shè)有第一導(dǎo)流槽，所述第一導(dǎo)流槽環(huán)繞所述霧化槽且與所述霧化槽間隔設(shè)置，所述第一流體槽設(shè)于所述霧化槽與所述第一導(dǎo)流槽的公共側(cè)壁上，所述霧化槽與所述第一導(dǎo)流槽通過所述第一流體槽連通；所述蓋體與所述第一導(dǎo)流槽配合形成第一導(dǎo)流通道。

15、在一實(shí)施方式中，所述第一導(dǎo)流槽的外側(cè)壁設(shè)置有延伸至所述第一表面邊緣的缺口，所述蓋體與所述缺口配合形成第一接口，所述第一接口用于連通外部管道以接收所述第一流體。

16、在一實(shí)施方式中，所述基底還具有與所述第一表面相對(duì)的第二表面，所述第二表面設(shè)有第二導(dǎo)流槽，所述第二導(dǎo)流槽與所述第二流體入口連通；

17、所述霧化噴嘴還包括底座，所述底座設(shè)置于所述基底遠(yuǎn)離所述蓋體的一側(cè)，所述底座與所述第二導(dǎo)流槽配合形成第二導(dǎo)流通道。

18、在一實(shí)施方式中，所述第二導(dǎo)流槽遠(yuǎn)離所述第二流體入口的一端為延伸至所述第二表面邊緣的敞口端，所述底座與所述敞口端配合形成第二接口，所述第二接口用于連通外部管道以接收所述第二流體。

19、在一實(shí)施方式中，所述霧化噴嘴采用微納加工工藝制備。

20、為解決上述技術(shù)問題，本申請(qǐng)采用的另一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種霧化器，包括：

21、霧化噴嘴，包括如上所述的任一種霧化噴嘴；

22、氣泵，與所述第一流體入口和所述第二流體入口中的一個(gè)流體連通，用于為所述霧化噴嘴提供高速氣流；

23、儲(chǔ)液瓶，用于存儲(chǔ)氣溶膠生成基質(zhì)，所述儲(chǔ)液瓶與所述第一流體入口和所述第二流體入口中的另一個(gè)流體連通，用于為所述霧化噴嘴提供氣溶膠生成基質(zhì)。

24、在一實(shí)施方式中，所述霧化器還包括加熱元件，所述加熱元件設(shè)置于所述霧化噴嘴的出霧口一側(cè)，所述加熱元件呈中空?qǐng)A柱狀，用于對(duì)由所述出霧口噴射出的氣溶膠進(jìn)行二次加熱霧化。

25、為解決上述技術(shù)問題，本申請(qǐng)采用的另一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種電子霧化裝置，包括：

26、霧化器，包括如上所述的任一種霧化器；

27、電源組件，與所述霧化器電連接，用于為所述霧化器提供能量。

28、本申請(qǐng)的有益效果是：區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本申請(qǐng)公開了一種霧化噴嘴、霧化器及電子霧化裝置。霧化噴嘴包括霧化腔、多個(gè)相互間隔的第一流體入口、環(huán)形的第二流體入口和出霧口，第一流體入口與霧化腔連通，第二流體入口與霧化腔連通且與第一流體入口間隔設(shè)置，第二流體入口用于將第二流體傳輸至霧化腔，并使得第二流體形成中空體；第一流體入口用于將第一流體傳輸至霧化腔，并使得第一流體和第二流體在霧化腔內(nèi)霧化生成氣溶膠；出霧口與霧化腔連通且與第一流體入口和第二流體入口均間隔設(shè)置，出霧口用于將氣溶膠噴射出霧化腔。通過上述設(shè)置，使得經(jīng)霧化噴嘴的出霧口噴射出的氣溶膠呈中空錐狀的霧化錐，實(shí)現(xiàn)了空心錐霧化，解決了現(xiàn)有技術(shù)中的霧化噴嘴無法滿足空心錐霧化需求的問題，提升了霧化噴嘴的性能。

技術(shù)特征：

1.一種霧化噴嘴，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化噴嘴，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的霧化噴嘴，其特征在于，所述霧化腔的底壁間隔設(shè)置有多個(gè)通孔，所述通孔的數(shù)量與所述第一流體入口的數(shù)量相等，且所述通孔與所述第一流體入口一一對(duì)應(yīng)設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化噴嘴，其特征在于，所述霧化腔為圓形；所述霧化腔的底壁間隔設(shè)置有多個(gè)通孔，所述通孔為圓形或弧形；所述出霧口為圓形通孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化噴嘴，其特征在于，所述霧化噴嘴包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的霧化噴嘴，其特征在于，多個(gè)所述第一流體槽的形狀相同且沿所述霧化槽的側(cè)壁的周向均勻分布，沿著所述第一流體槽遠(yuǎn)離所述霧化槽的一端向靠近所述霧化槽的一端，所述第一流體槽的寬度逐漸減??；

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的霧化噴嘴，其特征在于，所述基底還具有與所述第一表面相對(duì)的第二表面，所述第二表面設(shè)有第二導(dǎo)流槽，所述第二導(dǎo)流槽與所述第二流體入口連通；

8.一種霧化器，其特征在于，包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的霧化器，其特征在于，所述霧化器還包括加熱元件，所述加熱元件設(shè)置于所述霧化噴嘴的出霧口一側(cè)，所述加熱元件呈中空?qǐng)A柱狀，用于對(duì)由所述出霧口噴射出的氣溶膠進(jìn)行二次加熱霧化。

10.一種電子霧化裝置，其特征在于，包括：

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開了一種霧化噴嘴、霧化器及電子霧化裝置。霧化噴嘴包括霧化腔、多個(gè)相互間隔的第一流體入口、環(huán)形的第二流體入口和出霧口，第一流體入口與霧化腔連通，第二流體入口與霧化腔連通且與第一流體入口間隔設(shè)置，第二流體入口用于將第二流體傳輸至霧化腔并使第二流體形成中空體；第一流體入口用于將第一流體傳輸至霧化腔并使第一流體和第二流體在霧化腔內(nèi)霧化生成氣溶膠；出霧口與霧化腔連通且與第一流體入口和第二流體入口均間隔設(shè)置，用于將氣溶膠噴射出霧化腔。通過上述設(shè)置，使得經(jīng)霧化噴嘴的出霧口噴射出的氣溶膠呈中空錐狀的霧化錐，實(shí)現(xiàn)了空心錐霧化，解決了現(xiàn)有技術(shù)中霧化噴嘴無法滿足空心錐霧化需求的問題，提升了霧化噴嘴的性能。

技術(shù)研發(fā)人員：巫永鵬,林作飄,紀(jì)宇軒,陳星宇,徐志鋒,雷桂林
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳麥克韋爾科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19