本實(shí)用新型涉及環(huán)保技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種低溫等離子凈化器。

背景技術(shù)：

低溫等離子廢氣處理器采用當(dāng)今世界先進(jìn)的技術(shù)和大量的新工藝新材料新方法，在成本和能耗都得到相應(yīng)控制的前提下，很好地解決了大流量工業(yè)廢氣中有機(jī)物降解治理的技術(shù)難題，低溫等離子廢氣處理器一般是采用內(nèi)部的等離子芯體和外部的箱體組成的，廢氣進(jìn)入箱體之后由內(nèi)部的等離子芯體進(jìn)行處理，等離子芯體是通過氣體放電來使得氣體被擊穿，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解。目前低溫等離子廢氣處理器長期工作容易導(dǎo)致底部積水，造成設(shè)備腐蝕，影響設(shè)備的正常運(yùn)轉(zhuǎn)，同時(shí)導(dǎo)電配件接觸系統(tǒng)較落后，連接部緊密，隔絕能力較差，嚴(yán)重影響導(dǎo)電配件的使用壽命。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種低溫等離子凈化器，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種低溫等離子凈化器，包括設(shè)備主體，所述設(shè)備主體的一側(cè)通過大小接頭固定連接有進(jìn)風(fēng)口，所述設(shè)備主體的另一側(cè)通過大小接頭固定連接有出風(fēng)管，所述設(shè)備主體的下部固定連接有排水管，所述設(shè)備主體的內(nèi)腔中固定安裝有等離子處理器，所述等離子處理器包括導(dǎo)電配件和極板，所述導(dǎo)電配件包括頂針端陶瓷保護(hù)套，所述頂針端陶瓷保護(hù)套的內(nèi)部設(shè)置有導(dǎo)電彈簧頂針，所述頂針端陶瓷保護(hù)套的外側(cè)通過螺紋固定連接有連接保護(hù)套，所述連接保護(hù)套的一端內(nèi)腔中通過螺紋固定連接有接觸端陶瓷保護(hù)套，所述接觸端陶瓷保護(hù)套的內(nèi)腔中固定安裝有控制器。

優(yōu)選的，所述設(shè)備主體的底部設(shè)置成3-5度的坡度，且所述設(shè)備主體的下部固定安裝有底腳。

優(yōu)選的，所述等離子處理器至少設(shè)置有8組。

優(yōu)選的，所述頂針端陶瓷保護(hù)套和導(dǎo)電彈簧頂針均與極板固定連接。

優(yōu)選的，所述接觸端陶瓷保護(hù)套的外側(cè)通過螺紋與設(shè)備主體固定連接。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，方便實(shí)用，低溫等離子通過高壓放電電場產(chǎn)生高能量的活性自由基，在納秒級內(nèi)將有機(jī)污染物氧化成水和二氧化碳，該過程迅速快捷、無副產(chǎn)物的產(chǎn)生，現(xiàn)廣泛用于工業(yè)廢氣治理中VOC的治理,通過對設(shè)備主體的底板進(jìn)行改造，使底板形成3-5％的坡度，使液體不會(huì)在底部滯留，防止腐蝕設(shè)備，通過對導(dǎo)電配件接觸系統(tǒng)進(jìn)行優(yōu)化，通過絕緣耐腐蝕的陶瓷層進(jìn)行保護(hù)，陶瓷之間的連接采用螺紋方式進(jìn)行連接，密封性好，隔絕能力強(qiáng)，使導(dǎo)電配件使用時(shí)間更長，更穩(wěn)定。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型主體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型主體底部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型等離子處理器結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本實(shí)用新型導(dǎo)電配件連接結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1設(shè)備主體、2進(jìn)風(fēng)口、3出風(fēng)口、4大小接頭、5等離子處理器、51導(dǎo)電配件、511連接保護(hù)套、512頂針端陶瓷保護(hù)套、513螺紋、514 導(dǎo)電彈簧頂針、52極板、6排水管、7底腳、8接觸端陶瓷保護(hù)套、9控制器。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

在本實(shí)用新型的描述中，需要說明的是，術(shù)語“豎直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實(shí)用新型的限制。

在本實(shí)用新型的描述中，還需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“設(shè)置”、“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本實(shí)用新型中的具體含義。

請參閱圖1-4，本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案：一種低溫等離子凈化器，包括設(shè)備主體1，所述設(shè)備主體1的底部設(shè)置成3-5度的坡度，且所述設(shè)備主體1的下部固定安裝有底腳7，所述設(shè)備主體1的一側(cè)通過大小接頭4固定連接有進(jìn)風(fēng)口2，所述設(shè)備主體1的另一側(cè)通過大小接頭4固定連接有出風(fēng)管3，所述設(shè)備主體1的下部固定連接有排水管6，所述設(shè)備主體1的內(nèi)腔中固定安裝有等離子處理器5，所述等離子處理器5至少設(shè)置有8組，所述等離子處理器5包括導(dǎo)電配件51和極板52，所述導(dǎo)電配件51包括頂針端陶瓷保護(hù)套512，所述頂針端陶瓷保護(hù)套512的內(nèi)部設(shè)置有導(dǎo)電彈簧頂針514，所述頂針端陶瓷保護(hù)套512和導(dǎo)電彈簧頂針514均與極板52固定連接，所述頂針端陶瓷保護(hù)套512的外側(cè)通過螺紋513固定連接有連接保護(hù)套511，所述連接保護(hù)套511 的一端內(nèi)腔中通過螺紋513固定連接有接觸端陶瓷保護(hù)套8，所述接觸端陶瓷保護(hù)套8的外側(cè)通過螺紋513與設(shè)備主體1固定連接，所述接觸端陶瓷保護(hù)套8的內(nèi)腔中固定安裝有控制器9。

工作原理：低溫等離子通過高壓放電電場產(chǎn)生高能量的活性自由基，在納秒級內(nèi)將有機(jī)污染物氧化成水和二氧化碳，該過程迅速快捷、無副產(chǎn)物的產(chǎn)生，現(xiàn)廣泛用于工業(yè)廢氣治理中VOC的治理,通過對設(shè)備主體1的底板進(jìn)行改造，使底板形成3-5％的坡度，使液體不會(huì)在底部滯留，防止腐蝕設(shè)備，通過對導(dǎo)電配件51接觸系統(tǒng)進(jìn)行優(yōu)化，通過絕緣耐腐蝕的陶瓷層進(jìn)行保護(hù)，陶瓷之間的連接采用螺紋513方式進(jìn)行連接，密封性好，隔絕能力強(qiáng)，使導(dǎo)電配件51使用時(shí)間更長，更穩(wěn)定。

盡管已經(jīng)示出和描述了本實(shí)用新型的實(shí)施例，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本實(shí)用新型的原理和精神的情況下可以對這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。