本實用新型涉及一種粉末冶金設備，尤其是涉及一種塔式金屬霧化制粉設備。

背景技術：

近年來的“3D打印”等增材制造方法備受人們關注，它無需通過鍛造、車銑刨磨等工序便可直接生產出金屬制品，大大降低了能耗，節(jié)約了材料。而金屬注射成形力一法、選擇性激光熔化方法和選擇性激光燒結方法都屬于增材制造，適宜于形狀復雜的粉末冶金小零件的生產。這些方法對金屬粉末的形貌、粒度分布、氧含量等均有較高的要求，而氣霧化方法生產的金屬粉末能夠滿足這些要求。由于氣霧化制粉特定的反應條件，故，用于金屬霧化制粉的設備對其結構和材質具有特殊要求。

CN 204818071 U 公開了一種制備增材制造用金屬球形粉末的裝置，包括：真空熔煉室，用于在預設真空度下對原料進行熔煉，獲得金屬溶液；高壓霧化室，與真空熔煉室連接，且位于真空熔煉室下部，用于對金屬溶液進行霧化，獲得霧化粉末；冷卻塔，與高壓霧化室連接，且位于高壓霧化室下部，用于對霧化粉末進行冷卻，獲得增材制造用金屬球形粉末；氣流分級室，與冷卻塔連接，用于對增材制造用金屬球形粉末進行篩分。該裝置的空間占有率偏高，且其高壓霧化室的結構及其使用材質沒有公開，其耐高溫和氣密性的性能不能判斷是否滿足金屬霧化反應的要求。

技術實現要素：

本實用新型要解決的技術問題是：克服現有技術的不足，提供一種結構簡單，制作成本低、耐高溫且氣密性良好、設備空間占有率低的塔式金屬霧化制粉設備。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種塔式金屬霧化制粉設備，包括金屬熔煉室、等離子霧化裝置、高溫化合塔室、冷卻塔室、粉末分級收集裝置、抽真空系統(tǒng)、冷卻水循環(huán)裝置、控制柜和塔式安裝平臺支架；所述金屬熔煉室安裝在等離子霧化裝置上方，且與金屬送料機構連接，固定在塔式安裝平臺支架的頂部；等離子霧化裝置安裝在高溫化合塔室頂部，用于將經金屬熔煉室熔煉后的金屬液霧化，并送入高溫化合塔室進行化合反應；所述高溫化合塔室的上端與安裝在塔式安裝平臺支架底層的抽真空系統(tǒng)連接，其下端與冷卻塔室，通過塔式安裝平臺支架中的移動支架進行固定；所述冷卻塔室的中部、底端均與粉末分級收集裝置連接；所述粉末分級收集裝置安裝在塔式安裝平臺支架的下方；所述控制柜安裝在塔式安裝平臺支架的不同設備安裝平臺上，并與其相應的控制設備連接；所述冷卻水循環(huán)裝置與金屬熔煉室、高溫化合塔室和冷卻塔室連接。

進一步，所述高溫化合塔室包括化合塔殼體、保溫組件、加熱組件和化合反應腔室；所述化合塔殼體為嵌設有夾層冷卻套的筒體，筒體上端設有與真空系統(tǒng)的連接接頭，其底部設有與化合反應腔室內部連通的輸氣管；所述保溫組件包括由保溫筒體、保溫上蓋、保溫下蓋組成，所述保溫筒體的內部填充有保溫材料；所述加熱組件包括加熱元件、加熱元件固定柱和加熱元件導電柱；所述加熱元件安裝在保溫筒體和化合反應腔室之間，通過加熱元件固定柱固定；加熱元件固定柱固定在保溫筒體外側的加固隔板上；所述加熱元件導電柱與加熱元件電連接，固定在加固隔板上并穿過化合塔殼體；所述化合反應腔室的上下兩端突出保溫腔體并分別與等離子霧化裝置、冷卻塔室連接。

進一步，所述化合反應腔室由外表面涂覆有高溫防氧化涂層的碳-碳復合材料制作，化合反應腔室的頂端設有與等離子霧化裝置連接的連接腔室，其底部設有下漏管；下漏管外側還設有連通輸氣管的進氣支管，進氣支管的出氣口位于下漏管上方，且朝向下漏管；所述連接腔室與化合反應腔室的連接處設有排氣嘴，化合反應腔室的側壁設有扶正組件，所述扶正組件固定在加固隔板和化合塔殼體上。

進一步，進氣支管的出氣口的中心線與化合反應腔室下椎體側壁之間的夾角≤15°，優(yōu)選，進氣支管的出氣口的中心線與化合反應腔室下椎體的側壁平行。

進一步，所述碳-碳復合材料的耐溫性≥2000℃，優(yōu)選，碳-碳復合材料的耐溫性≥2500℃。

進一步，所述高溫防氧化涂層采用可在溫度≥1700℃下使用的石墨高溫防氧化涂料涂覆而成，其厚度為2~5mm。

當高溫防氧化涂層的厚度小于2mm時，其對化合反應腔室的主體制作材料的碳-碳復合材料的防氧化性能較差，導致化合反應腔室的主體易被氣化反應氣體氧化而被損壞，縮短其使用壽命；當高溫防氧化涂層的厚度大于5mm時，其對化合反應腔室的主體制作材料的碳-碳復合材料的防氧化性能趨于穩(wěn)定，且隨著涂層厚度的增加，化合反應腔室的制作成本相應增大。

進一步，所述連接腔室呈圓錐臺狀。

進一步，所述扶正組件采用由外至內依次為石墨、陶瓷和不銹鋼的復合材料制作。

進一步，所述化合反應腔室底部還設有用于固定的支撐件，支撐件的底部設有限位圈。

進一步，所述進氣支管處設有由陶瓷纖維浸入石墨乳液，經特殊工藝處理的不銹鋼增強浸石墨陶瓷纖維制作的密封螺釘。

進一步，所述下漏管和進氣支管采用細顆粒石墨制作，排氣嘴采用高純石墨制作。

進一步，所述加熱元件為碳棒、鎳棒、硅鉬棒或硅碳棒中的一種。

進一步，所述加固隔板為不銹鋼孔板。

進一步，所述化合塔殼體的側壁設有耳式支座，便于將化合塔殼體安放在設備安裝平臺上；化合塔殼體上設有防爆口。

進一步，所述塔式安裝平臺支架包括支撐立柱、設備安裝平臺組、護欄、樓梯和移動支撐架；所述設備安裝平臺組包括數層呈金字塔式分布的設備安裝平臺，設備安裝平臺通過支撐立柱固定在地面或下層的設備安裝平臺上；所述移動支撐架嵌入式安裝在設備安裝平臺組的一側，用于支撐并移動金屬霧化制粉設備組件；所述設備安裝平臺的一側設有樓梯，其周邊設有護欄。

進一步，所述設備安裝平臺組包括從下至上依次安裝的第一設備安裝平臺、第二設備安裝平臺和第三設備安裝平臺；所述第一設備安裝平臺呈“凹”字形；第一設備安裝平臺還設有安裝抽真空系統(tǒng)的第四設備安裝平臺；第二設備安裝平臺呈L型，且其短邊朝向第一設備安裝平臺內凹一側，用于固定金屬霧化高溫化合塔室和霧化制粉冷卻塔室；第三設備安裝平臺位于第二設備安裝平臺上，用于放置控制箱、金屬熔煉室、等離子霧化器、冷卻裝置等金屬霧化制粉設備；對應第一設備安裝平臺的內凹處還設有用于固定安裝金屬霧化高溫化合塔室的設備穿孔。

進一步，所述移動支撐架包括高溫化合塔室底架、提升支撐架、維修軌道、提升組件和冷卻塔室活動支架；所述提升支撐架包括豎向支撐架、橫向架體和加固側桿；所述提升組件包括分別安裝在豎向支撐架的底端和頂端的活動滑輪組件和固定滑輪組件，以及位于豎向支撐架中、用于帶動橫向架體升降的升降軌道；所述升降軌道的升降傳送帶安裝在活動滑輪組件、固定滑輪組件之間，并通過提升驅動機構驅動其升降；加固側桿一端與豎向支撐架中上端連接，其另一端固定在地面，所述加固側桿之間設有維修軌道；所述高溫化合塔室底架放置在橫向架體上；所述冷卻塔室活動支架，所述冷卻塔室活動支架放置在維修軌道上，且能沿維修軌道滑移。

進一步，相鄰的支撐立柱之間設有加強側桿，加強側桿呈交叉式或平行固定在支撐立柱上。

進一步，所述高溫化合塔室底架和橫向架體之間設有緩沖組件，緩沖組件的頂部固定在高溫化合塔室底架上。所述緩沖組件為彈簧。

進一步，所述高溫化合塔室底架包括方形架體、支撐桿和滾輪，所述滾輪安裝在方形架體上，所述支撐桿與方形架體上端連接，用于卡合固定高溫化合塔室。

進一步，所述粉末分級收集裝置包括一級粉末分離篩網、一級粉末收集器、粉末分離吸取機構、旋風分離器、二級粉末收集器、脈沖除塵器和三級粉末收集器；所述一級粉末分離篩網安裝在冷卻塔室下椎體內，一級粉末收集器與冷卻塔室下椎體的排粉管連接；所述粉末分離吸取機構的進料端與冷卻塔室中下部連通，其出料端與旋風分離器的進料口連通；粉末分離吸取機構進料端朝向冷卻塔室下椎體頂端，且與冷卻塔室側壁呈60~75°夾角固定連接；所述二級粉末收集器與旋風分離器下方的旋風料包連通，所述旋風分離器的出風口通過管道與脈沖除塵器連接，脈沖除塵器下方設有三級粉末收集器。

進一步，所述一級粉末分離篩網下方設有與惰性氣體儲罐或氣氛純化氣體儲罐的導氣盤，所述導氣盤的底部還設有與第二氣管連通的儲氣凹槽，其上端開設有若干個用于將儲氣凹槽內氣體輸出的噴嘴。

本實用新型一種塔式金屬霧化制粉設備的工作原理及使用方法是：金屬經金屬熔煉室熔化成液體后，經等離子霧化裝置霧化，然后進入高溫化合塔室的化合反應腔室；從進氣支管向化合反應腔室內充入金屬霧化制粉所需的氣化反應氣體或惰性氣體（如O₂、CO₂或N₂），氣體從下至上逐步與從化合反應腔室頂部下降的金屬霧化粉末發(fā)生氣化反應，將經等離子霧化后的金屬粉末氧化或碳化或氮化成所需的特定金屬粉末，同時，對霧化化合反應后的金屬粉末起到預冷卻的作用，然后，充分反應形成穩(wěn)定的金屬氧化物或金屬碳化物或金屬氮化物，并經下漏管進入冷卻系統(tǒng)冷卻，而反應后的氣體依次經化合反應腔室下方的冷卻塔室、旋風分離器、脈沖除塵器的龍骨布袋后被風機抽走，當化合反應腔室內的壓力超過設定的最高壓力時，化合反應腔室頂部的排氣嘴打開進行泄壓。

經冷卻塔室冷卻后的金屬霧化粉末經粉末一級分離篩網篩選后下降至一級粉末收集器內，被粉末一級分離篩網攔截的金屬霧化粉末被粉末吸取機構抽吸至旋風分離器內分離，而沉積在一級粉末分離篩網上的粒徑較大的金屬霧化粉末被其下方導氣盤上噴吹出的氣體吹散，同時在旋風分離器引風的作用下，經粉末分離吸取機構進入旋風分離器，然后下降至二級粉末收集器內，而粒徑偏小的金屬霧化粉末隨旋風分離器氣流進入脈沖除塵器內，金屬霧化粉末被收集在龍骨布袋內，然后在脈沖管內的脈沖作用下，龍骨布袋內的粉末進入三級粉末收集器內，進而實現金屬霧化粉末的分級分離。脈沖除塵器頂部的出氣管的氣體通過管道進入氣氛純化氣回收儲罐，以便循環(huán)利用。

導氣盤噴吹出的氣體對冷卻塔室內的金屬霧化粉末還起冷卻作用。

為了保證金屬霧化粉末的純度和粉末粒徑大小的要求，金屬霧化化合反應需要在高溫、高真空度下進行，化合反應塔室采用耐高溫的化合反應腔室可以滿足化合反應對溫度、密封性等反應環(huán)境的高要求；且采用碳棒、鎳棒、硅鉬棒或硅碳棒等加熱元件，既能確保化合反應腔室處于化合反應所需的高溫環(huán)境中，及加熱元件的耐高溫性能；加熱元件外側的保溫組件，起到隔熱保溫的作用，有利于加熱元件對化合反應腔室的加熱，及化合反應腔室反應溫度的維持，同時，避免了化合反應腔室內的高溫快速熱散失而導致化合塔殼體的溫度偏高；化合塔殼體內嵌設的夾層冷卻套，進一步降低了保溫層散失熱量對化合塔殼體的影響。

與現有的金屬霧化制粉設備相比，將進氣支管設置在化合反應腔室底部，氣體在化合反應腔室內先向下后向上運行，與霧化后的金屬粉末相對運行，有利于氣體與化合反應腔室內沉降的粉末充分接觸，并與霧化后的金屬粉末進行化合反應。

由于進氣支管的出氣口朝向下漏管，進氣支管內的氣體對沉積在化合反應腔室下端的化合反應后的金屬霧化粉末還具有吹掃作用，可避免金屬霧化粉末沉積成團，并加快其進入冷卻塔室冷卻，且對參與化合反應后的金屬霧化粉末還有預冷卻的作用。

化合反應腔室采用外表面涂覆有高溫防氧化涂層的碳-碳復合材料制作，使化合反應腔室能滿足金屬霧化制粉過程中氣粉化合反應的高溫要求，且其表面的高溫防氧化涂層高效避免了化合反應腔室內用于金屬粉末氣化反應所需氣體（尤其氣化反應氣體為氧氣時）對化合反應腔室制作材料中碳-碳復合材料的氧化，延長了化合反應腔室的使用壽命，且化合反應腔室可耐受2500℃以上的高溫，能滿足金屬霧化制粉氣化反應的高溫要求，且其表層的防氧化涂層加強了化合反應腔室的整體密封性能，能進一步確保化合反應腔室內反應后得到高純度的金屬粉末。

扶正組件采用由外至內依次為石墨、陶瓷和不銹鋼的復合材料制作，滿足了對化合反應腔室的支撐強度，且能耐受化合反應強度的高溫，且其的隔熱性能較好，降低了高溫對反應塔殼體的損壞，延長了設備的使用壽命。

本實用新型一種塔式金屬霧化制粉設備的有益效果：結構簡單，制作成本低，空間占有率低；采用多種材質復合制作的化學反應腔室，其耐高溫高壓性能良好；扶正組件采用由外至內依次為石墨、陶瓷和不銹鋼的復合材料制作；其耐高溫和隔熱性能良好，其下漏管和進氣支管采用細顆粒石墨制作，排氣嘴采用高純石墨制作，確保了化合反應腔室的氣密性良好。

附圖說明

圖1—為一種塔式金屬霧化制粉設備的立體結構示意圖；

圖2—為圖1中等離子霧化裝置的立體結構示意圖；

圖3—為圖2中A-A截面剖視圖；

圖4—為圖1中高溫化合塔室的正視圖；

圖5—為圖1中高溫化合塔室的側視圖；

圖6—為圖4中B-B截面剖視圖；

圖7—為圖5中C-C截面剖視圖；

圖8—為圖4中化合反應腔室的立體示意圖；

圖9—為圖8中D-D截面剖視圖；

圖10—為圖1中粉末分級收集裝置的結構示意圖；

圖11—為圖1中移動支撐架的立體結構示意圖；

圖12—為實施例2中一種塔式金屬霧化制粉設備中粉末分級收集裝置的結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明。

實施例1

參照圖1~11：一種塔式金屬霧化制粉設備，包括金屬熔煉室3、等離子霧化裝置5、高溫化合塔室6、冷卻塔室7、粉末分級收集裝置8、抽真空系統(tǒng)9、冷卻水循環(huán)裝置3、控制柜2和塔式安裝平臺支架1；所述金屬熔煉室3安裝在等離子霧化裝置5上方，且與金屬送料機構連接，固定在塔式安裝平臺支架1的頂部；等離子霧化裝置5安裝在高溫化合塔室6頂部，用于將經金屬熔煉室3熔煉后的金屬液霧化，并送入高溫化合塔室6進行化合反應；所述高溫化合塔室6的上端與安裝在塔式安裝平臺支架1底層的抽真空系統(tǒng)9連接，其下端與冷卻塔室7，通過塔式安裝平臺支架1中的移動支架進行固定；所述冷卻塔室7的中部、底端均與粉末分級收集裝置8連接；所述粉末分級收集裝置8安裝在塔式安裝平臺支架1的下方；所述控制柜2安裝在塔式安裝平臺支架1的不同設備安裝平臺上，并與其相應的控制設備連接；所述冷卻水循環(huán)裝置3與金屬熔煉室3、高溫化合塔室6和冷卻塔室7連接。

參照圖4~7，所述高溫化合塔室6包括化合塔殼體61、保溫組件64、加熱組件62和化合反應腔室63；所述化合塔殼體61為嵌設有夾層冷卻套的筒體，筒體上端設有與真空系統(tǒng)的連接接頭615，其底部設有與化合反應腔室63內部連通的輸氣管611；所述保溫組件64包括由保溫筒體642、保溫上蓋641、保溫下蓋643組成，所述保溫筒體642的內部填充有保溫材料；所述加熱組件62包括加熱元件623、加熱元件固定柱622和加熱元件導電柱621；所述加熱元件623安裝在保溫筒體642和化合反應腔室63之間，通過加熱元件固定柱622固定；加熱元件固定柱622固定在保溫筒體642外側的加固隔板上；所述加熱元件導電柱621與加熱元件623電連接，固定在加固隔板上并穿過化合塔殼體61；所述化合反應腔室63的上下兩端突出保溫腔體并分別與等離子霧化裝置5、冷卻塔室7連接。

參照圖8和9，所述化合反應腔室63由外表面涂覆有高溫防氧化涂層的碳-碳復合材料制作，化合反應腔室63的頂端設有與等離子霧化裝置5連接的連接腔室632，其底部設有下漏管633；下漏管633外側還設有連通輸氣管611的進氣支管634，進氣支管634的出氣口位于下漏管633上方，且朝向下漏管633；所述連接腔室632與化合反應腔室63的連接處設有排氣嘴635，化合反應腔室63的側壁設有扶正組件631，所述扶正組件631固定在加固隔板和化合塔殼體61上。

進氣支管634的出氣口的中心線與化合反應腔室63下椎體的側壁平行。

所述碳-碳復合材料的耐溫性≥2000℃；所述高溫防氧化涂層采用可在溫度≥1700℃下使用的石墨高溫防氧化涂料涂覆而成，其厚度為3mm。

所述連接腔室632呈圓錐臺狀。

所述扶正組件631采用由外至內依次為石墨、陶瓷和不銹鋼的復合材料制作。

所述化合反應腔室63底部還設有用于固定的支撐件636，支撐件636的底部設有限位圈637。

所述進氣支管634處設有由陶瓷纖維浸入石墨乳液，經特殊工藝處理的不銹鋼增強浸石墨陶瓷纖維制作的密封螺釘。

所述下漏管633和進氣支管634采用細顆粒石墨制作，排氣嘴635采用高純石墨制作。

所述加熱元件623為碳棒、鎳棒、硅鉬棒或硅碳棒中的一種。

所述加固隔板為不銹鋼孔板。

所述化合塔殼體61的側壁設有耳式支座612，便于將化合塔殼體61安放在設備安裝平臺上；化合塔殼體61上設有防爆口614、測溫熱電偶613。

所述等離子霧化裝置5包括主導流管51、導流管組件52、副導流管55、3組等離子槍組件53和噴盤支架54，所述主導流管51通過導流管組件52安裝在噴盤支架54中央，其靠近噴盤支架54的一端還設有副導流管55，副導流管55嵌設在噴盤支架中央；所述等離子槍組件53呈圓周式均布在噴盤支架54上，其噴射出的等離子在主導流管51下端的中心處匯合。

所述控制柜2包括綜合控制柜21、等離子電源控制柜22、金屬熔煉控制柜23、綜合電器柜24和化合控制柜25。

所述塔式安裝平臺支架1包括支撐立柱11、設備安裝平臺組、護欄17、樓梯16和移動支撐架18；所述設備安裝平臺組包括數層呈金字塔式分布的設備安裝平臺，設備安裝平臺通過支撐立柱11固定在地面或下層的設備安裝平臺上；所述移動支撐架18嵌入式安裝在設備安裝平臺組的一側，用于支撐并移動金屬霧化制粉設備組件；所述設備安裝平臺的一側設有樓梯16，其周邊設有護欄17。

所述設備安裝平臺組包括從下至上依次安裝的第一設備安裝平臺13、第二設備安裝平臺14和第三設備安裝平臺15；所述第一設備安裝平臺13呈“凹”字形；第一設備安裝平臺13還設有安裝抽真空系統(tǒng)9的第四設備安裝平臺；第二設備安裝平臺14呈L型，且其短邊朝向第一設備安裝平臺13內凹一側，用于固定金屬霧化高溫化合塔室6和霧化制粉冷卻塔室7；第三設備安裝平臺15位于第二設備安裝平臺14上，用于放置控制箱、金屬熔煉室3、等離子霧化器、冷卻裝置等金屬霧化制粉設備；對應第一設備安裝平臺13的內凹處還設有用于固定安裝金屬霧化高溫化合塔室6的設備穿孔。

參照圖11，所述移動支撐架18包括高溫化合塔室底架、提升支撐架、維修軌道181、提升組件和冷卻塔室7活動支架；所述提升支撐架包括豎向支撐架185、橫向架體189和加固側桿184；所述提升組件包括分別安裝在豎向支撐架185的底端和頂端的活動滑輪組件183和固定滑輪組件186，以及位于豎向支撐架185中、用于帶動橫向架體189升降的升降軌道；所述升降軌道的升降傳送帶安裝在活動滑輪組件183、固定滑輪組件186之間，并通過提升驅動機構182驅動其升降；加固側桿184一端與豎向支撐架185中上端連接，其另一端固定在地面，所述加固側桿184之間設有維修軌道181；所述高溫化合塔室底架放置在橫向架體189上；所述冷卻塔室7活動支架，所述冷卻塔室7活動支架放置在維修軌道181上，且能沿維修軌道181滑移。

相鄰的支撐立柱11之間設有加強側桿12，加強側桿12呈交叉式或平行固定在支撐立柱11上。

所述高溫化合塔室底架和橫向架體189之間設有緩沖組件188，緩沖組件188的頂部固定在高溫化合塔室底架上。所述緩沖組件188為彈簧。

所述高溫化合塔室底架包括方形架體187、支撐桿1810和滾輪1811，所述滾輪1811安裝在方形架體187上，所述支撐桿1810與方形架體187上端連接，用于卡合固定高溫化合塔室6。

參照圖10，所述粉末分級收集裝置8包括一級粉末分離篩網85、一級粉末收集器81、粉末分離吸取機構86、旋風分離器87、二級粉末收集器82、脈沖除塵器和三級粉末收集器83；所述一級粉末分離篩網85安裝在冷卻塔室7下椎體內，一級粉末收集器81與冷卻塔室7下椎體的排粉管連接；所述粉末分離吸取機構86的進料端861與冷卻塔室7中下部連通，其出料端與旋風分離器87的進料口連通；粉末分離吸取機構86進料端朝向冷卻塔室7下椎體頂端，且與冷卻塔室7側壁呈60~75°夾角固定連接；所述二級粉末收集器82與旋風分離器87下方的旋風料包88連通，所述旋風分離器87的出風口通過管道與脈沖除塵器連接，脈沖除塵器下方設有三級粉末收集器83。

靠近旋風分離器87一端的粉末分離吸取機構86設有旁路支管862。

所述化合塔殼體61的側壁設有耳式支座612，便于將化合塔殼體61安放在設備安裝平臺上；化合塔殼體61上設有防爆口614。

所述冷卻塔室下椎體和旋風料包88的側壁上安裝有氣動敲擊錘89。

所述一級粉末收集器81、二級粉末收集器82和三級粉末收集器83呈水滴形或倒漏斗形。

所述脈沖除塵器包括脈沖筒體810、脈沖管和脈沖下錐斗812；所述脈沖筒體810的一側設有進氣管，所述進氣管與安裝在脈沖筒體810內部的龍骨布袋底部連通，龍骨布袋上方設有脈沖管，脈沖管上設有脈沖閥811，脈沖筒體810頂部的出氣管排空或與氣氛純化氣回收儲罐連通。

所述一級粉末收集器81、二級粉末收集器82和三級粉末收集器83上方的連接管道上設有控制閥84，便于一級粉末收集器81、二級粉末收集器82和三級粉末收集器83的更換。

實施例2

參照圖12，與實施例1相比，本實施例一種塔式金屬霧化制粉設備存在以下不同：

進氣支管634的出氣口的中心線與化合反應腔室63下椎體側壁之間的夾角為10°。

所述碳-碳復合材料的耐溫性≥2500℃。

所述高溫防氧化涂層采用可在溫度≥2000℃下使用的石墨高溫防氧化涂料涂覆而成，其厚度為5mm。

參照圖12，所述一級粉末分離篩網85下方設有與惰性氣體儲罐或氣氛純化氣體儲罐的導氣盤813，所述導氣盤813的底部還設有與第二氣管連通的儲氣凹槽，其上端開設有若干個用于將儲氣凹槽內氣體輸出的噴嘴。

所述噴嘴的出氣口朝向粉末分離吸取機構與冷卻塔室的連接處。導氣盤813的結構也可以采用CN 103949633A中公開的導氣盤結構。

本實用新型一種塔式金屬霧化制粉設備，根據金屬霧化制粉工藝所需的氣化反應條件，所述高溫防氧化涂層的厚度還可以為2mm、2.5mm、4mm或4.5mm；以上技術特征的改變，本領域的技術人員通過文字描述可以理解并實施，故不再另作附圖加以說明。