本實用新型涉及熱電廠脫硫二級脫水系統(tǒng)真空皮帶機石膏落料口防蒸汽護罩改造安裝領(lǐng)域，特別是涉及一種真空皮帶機。

背景技術(shù)：

熱電廠脫硫二級脫水系統(tǒng)啟動工作時，位于工藝樓內(nèi)的真空皮帶機濾布上石膏因溫度高產(chǎn)生蒸汽，導(dǎo)致整個工藝樓層都在蒸汽的籠罩之下，空間內(nèi)的蒸汽導(dǎo)致監(jiān)控裝置模糊不清，使得運行人員不能及時監(jiān)視現(xiàn)場設(shè)備的運轉(zhuǎn)情況。除此之外，空氣中彌漫的蒸汽還能對現(xiàn)場設(shè)備造成銹蝕、損壞，不利于現(xiàn)場設(shè)備的安全穩(wěn)定運行?，F(xiàn)有技術(shù)中，有的廠家開啟墻體排風軸流風機進行蒸汽的去除，但是效果甚微。工作人員仔細檢查，發(fā)現(xiàn)工藝樓內(nèi)彌漫的大量蒸汽是由石膏庫內(nèi)的石膏未冷卻期間蒸汽從真空皮帶機下料口由下而上彌漫而形成的，大量蒸汽不斷上升直至彌漫至整個工藝樓，冬季更甚。

基于以上描述，亟需一種新的真空皮帶機，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的工藝樓內(nèi)彌漫的蒸汽對現(xiàn)場設(shè)備造成銹蝕、損壞且使得運行人員不能及時監(jiān)視現(xiàn)場設(shè)備運轉(zhuǎn)的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于提供一種真空皮帶機，可以有效減少工藝樓內(nèi)蒸汽的彌漫，進而防止現(xiàn)場設(shè)備銹蝕、損壞的問題產(chǎn)生，使得運行人員可以及時監(jiān)視現(xiàn)場設(shè)備的運轉(zhuǎn)。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案：

一種真空皮帶機，所述真空皮帶機的下料口與石膏庫對應(yīng),從真空皮帶機下料口出來的石膏直接進入石膏庫,所述真空皮帶機的下料口與石膏庫之間設(shè)置有防護罩；

所述防護罩包括支撐框架和遮擋板；

所述支撐框架設(shè)置在真空皮帶機的下料口處；

所述支撐框架的四周設(shè)置有所述遮擋板。

作為優(yōu)選，所述支撐框架采用5*5角鐵。

作為優(yōu)選，所述支撐框架通過焊接方式設(shè)置在真空皮帶機的下料口處。

作為優(yōu)選，所述遮擋板采用塑料材料制成。

作為優(yōu)選，所述支撐框架沿長度方向上每間隔預(yù)設(shè)距離H1設(shè)置有安裝孔，所述遮擋板上對應(yīng)的設(shè)置有安裝孔，采用緊固裝置將遮擋板固定至支撐框架上。

作為優(yōu)選，所述預(yù)設(shè)距離H1為300mm；所述緊固裝置為緊固螺絲。

作為優(yōu)選，所述真空皮帶機內(nèi)部設(shè)置有托架，所述托架上方設(shè)置有脫水帶，所述脫水帶支撐并攜帶濾布沿托架移動；所述防護罩靠近濾布側(cè)預(yù)留H2高的空間，空間內(nèi)設(shè)置有做遮擋門簾用的軟塑料膜。

作為優(yōu)選，所述防護罩與濾布側(cè)預(yù)留的空間高度H2為200mm。

作為優(yōu)選，所述防護罩左側(cè)或右側(cè)設(shè)置有推拉型雙層塑料板。

作為優(yōu)選，所述防護罩的規(guī)格為：長320cm，寬55cm，高20cm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比本申請?zhí)峁┑恼婵掌C具有以下特點和有益效果：

由于本方案提供的真空皮帶機的下料口與石膏庫之間設(shè)置有防護罩；防護罩包括支撐框架和遮擋板；支撐框架設(shè)置在真空皮帶機的下料口處；支撐框架的四周設(shè)置有遮擋板。防護罩可以有效減少工藝樓內(nèi)蒸汽的彌漫，可以有效的防止因石膏漿液蒸汽從石膏庫逆流而上造成的工藝樓監(jiān)控設(shè)備畫面模糊不清楚的問題及大量石膏漿液蒸汽對工藝樓設(shè)備造成銹蝕、損壞、腐蝕的問題。

附圖說明

圖1為本實用新型提供的真空皮帶機的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標記，

1-真空皮帶機；2-石膏庫；3-遮擋板；4-支撐框架；5-托架；6-脫水帶；7-濾布； 11-下料口。

具體實施方式

下面通過具體的實施例子結(jié)合附圖對本實用新型做進一步的詳細描述。

如圖1所示，本申請?zhí)峁┑恼婵掌C1，所述真空皮帶機1的下料口11與石膏庫2對應(yīng),從真空皮帶機1下料口11出來的石膏直接進入石膏庫2,其中，所述真空皮帶機1的下料口11與石膏庫2之間設(shè)置有防護罩；所述防護罩包括支撐框架4和遮擋板3；所述支撐框架4設(shè)置在真空皮帶機1的下料口11處；所述支撐框架4的四周設(shè)置有所述遮擋板3。

本方案提供的真空皮帶機1中，防護罩可以有效減少工藝樓內(nèi)蒸汽的彌漫，可以有效的防止因石膏漿液蒸汽從石膏庫逆流而上造成的工藝樓監(jiān)控設(shè)備畫面模糊不清楚的問題及大量石膏漿液蒸汽對工藝樓設(shè)備造成銹蝕、損壞、腐蝕的問題。

于本實施例中，作為優(yōu)選方案，所述支撐框架4采用5*5角鐵。但并不局限于5*5角鐵，也可以采用其他材料的支撐框架。

于本實施例中，作為優(yōu)選方案，所述支撐框架4通過焊接方式設(shè)置在真空皮帶機1的下料口11處。但支撐框架4的固定方式并不局限于此。

于本實施例中，作為優(yōu)選方案，所述遮擋板3采用塑料材料制成，但并不局限于此材料。

于本實施例中，作為優(yōu)選方案，所述支撐框架4沿長度方向上每間隔預(yù)設(shè)距離H1設(shè)置有安裝孔，所述遮擋板3上對應(yīng)的設(shè)置有安裝孔，采用緊固裝置將遮擋板3固定至支撐框架4上。作為優(yōu)選方案，所述預(yù)設(shè)距離H1為300mm；所述緊固裝置為緊固螺絲。具體的，緊固螺栓依次穿過支撐框架4和遮擋板3上的安裝孔，并配合緊固螺母進行緊固。

于本實施例中，所述真空皮帶機1內(nèi)部設(shè)置有托架5，所述托架5上方設(shè)置有脫水帶6，所述脫水帶6支撐并攜帶濾布7沿托架5移動；脫水帶6上設(shè)置有排水孔和凹槽，脫水帶6上的排水孔和凹槽為濾布7提供水壓和氣流。所述防護罩靠近濾布7側(cè)預(yù)留H2高的空間，空間內(nèi)設(shè)置有做遮擋門簾用的軟塑料膜。以便濾布7上的石膏順利通過防護罩，進入石膏庫2，進而防止石膏蒸汽上升。

于本實施例中，作為優(yōu)選方案，所述防護罩與濾布7側(cè)預(yù)留的空間高度H2為200mm，但并不局限于此，也可以在200mm上下范圍內(nèi)波動。

于本實施例中，作為優(yōu)選方案，所述防護罩左側(cè)或右側(cè)設(shè)置有推拉型雙層塑料板。

以便于觀察石膏落料及濾布7噴嘴堵塞的情況。

于本實施例中，作為優(yōu)選方案，所述防護罩的規(guī)格為：長320cm，寬55cm，高20cm。但防護罩的規(guī)格并不局限于此。

以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。