本實(shí)用新型涉及噴涂技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種多層烘箱式噴涂自動(dòng)生產(chǎn)線烤箱。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的工件噴涂、烘烤均是固定的一條生產(chǎn)線，噴涂自動(dòng)生產(chǎn)線空間利用率低，能源的利用率，同時(shí)增加了生產(chǎn)成本。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型提供了一種多層烘箱式噴涂自動(dòng)生產(chǎn)線烤箱，采用多層噴涂、烘烤的方式，進(jìn)一步提高噴涂自動(dòng)生產(chǎn)線空間，能源的利用率。
為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種多層烘箱式噴涂自動(dòng)生產(chǎn)線烤箱，包括箱體，所述的箱體依次分為上件區(qū)、噴涂區(qū)、烤箱區(qū)和下件區(qū)，所述的上件區(qū)和下件區(qū)處均設(shè)有機(jī)械手，所述的噴涂區(qū)設(shè)有依次設(shè)有第一噴涂層、第二噴涂層和第三噴涂層，所述的烤箱區(qū)內(nèi)對(duì)應(yīng)設(shè)有第一烘烤層、第二烘烤層和第三烘烤層，所述的第一噴涂層、第二噴涂層和第三噴涂層的前端均設(shè)有推桿。
本申請(qǐng)實(shí)施例中提供的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn)：
采用多層噴涂、烘烤的方式，進(jìn)一步提高噴涂自動(dòng)生產(chǎn)線空間，能源的利用率。
附圖說明
為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖；
圖中：1、箱體，2、上件區(qū)，3、噴涂區(qū)，4、烤箱區(qū)，5、下件區(qū)， 6、機(jī)械手，7、第一噴涂層，8、第二噴涂層，9、第三噴涂層，10、第一烘烤層，11、第二烘烤層，12、第三烘烤層。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型提供了一種多層烘箱式噴涂自動(dòng)生產(chǎn)線烤箱，采用多層噴涂、烘烤的方式，進(jìn)一步提高噴涂自動(dòng)生產(chǎn)線空間，能源的利用率。
為了更好的理解上述技術(shù)方案，下面將結(jié)合說明書附圖以及具體的實(shí)施方式對(duì)上述技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的說明。
如圖1所示，本實(shí)施例所述的一種多層烘箱式噴涂自動(dòng)生產(chǎn)線烤箱，包括箱體1，所述的箱體1依次分為上件區(qū)2、噴涂區(qū)3、烤箱區(qū)4和下件區(qū)5，所述的上件區(qū)2和下件區(qū)5處均設(shè)有機(jī)械手6，所述的噴涂區(qū)3設(shè)有依次設(shè)有第一噴涂層7、第二噴涂層8和第三噴涂層9，所述的烤箱區(qū)4內(nèi)對(duì)應(yīng)設(shè)有第一烘烤層10、第二烘烤層11和第三烘烤層12，所述的第一噴涂層7、第二噴涂層8和第三噴涂層9的前端均設(shè)有推桿，工作時(shí)，當(dāng)工件進(jìn)入上件區(qū)2后，機(jī)械手6將工件依次抓取到噴柜的第一噴涂層7、第二噴涂層8和第三噴涂層9，并在各層烤箱烘烤后在出口處被另一機(jī)械手依次抓取到下件區(qū)5。
不同層烘箱可以根據(jù)涂料特性，給出不同溫度、時(shí)間的設(shè)置。也可在第二層的烘件入口端，設(shè)置噴涂艙，以實(shí)現(xiàn)不同涂層的連續(xù)完成。
以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。