1.一種聚合物/二氧化硅微納米顆粒有序多孔復(fù)合膜，其特征在于，是由有序無(wú)機(jī)顆粒和聚合物組成的復(fù)合膜，其特征在于聚合物膜布滿六方陣列結(jié)構(gòu)規(guī)則排布的孔洞，每個(gè)孔洞內(nèi)含有一個(gè)二氧化硅顆粒，所述的顆粒尺寸為0.1-2μm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合膜的制備方法，其特征在于，通過(guò)如下方法制備得到：將聚合物和二氧化硅的前驅(qū)體溶于有機(jī)溶劑中并混勻，得到聚合物和二氧化硅的前驅(qū)體的混合溶液，將所述有機(jī)溶液置于基底材料表面，讓潮濕的氣流持續(xù)通過(guò)上述混合溶液的表面，待有機(jī)溶劑揮發(fā)完畢后，在基底材料表面得到聚合物/二氧化硅微納米顆粒有序多孔復(fù)合膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述的聚合物選自嵌段共聚物、共軛性聚合物、星形聚合物和直鏈均聚物中的至少一種，如聚乙二醇-聚苯乙烯嵌段共聚物、聚苯乙烯-聚對(duì)苯撐乙烯類嵌段聚合物、聚對(duì)苯撐乙烯及其衍生物、聚對(duì)苯撐及其衍生物、聚苯乙烯星形聚合物、環(huán)糊精-n聚苯乙烯星形聚合物、聚苯胺、聚苯乙烯、聚氰基丙烯酸酯、聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸酯。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述聚合物的重均分子量為1-50萬(wàn)，優(yōu)選為10-20萬(wàn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述的硅的前驅(qū)體優(yōu)選為四氯化硅。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述的有機(jī)溶劑優(yōu)選為氯仿，二氯甲烷。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述的基底材料優(yōu)選為玻璃。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述聚合物和二氧化硅的前驅(qū)體的有機(jī)溶液中，聚合物的質(zhì)量百分濃度為0.3-2%，優(yōu)選0.8-1.5%，二氧化硅的前驅(qū)體的質(zhì)量百分濃度為0.1-5%，優(yōu)選0.1-2%。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，在揮發(fā)過(guò)程中，潮濕氣流流速為0.1-3L/min，優(yōu)選0.6-1L/min。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，將所述復(fù)合膜接觸飽和氯化鈉溶液，NaCl晶體會(huì)在在孔內(nèi)二氧化硅周圍析出，從而形成晶體陣列。