本發(fā)明涉及一種藥物合成裝置，尤其是一種具有清潔功能的藥物合成裝置。

背景技術(shù)：

藥物合成過程中如果混入雜質(zhì)將會(huì)嚴(yán)重影響藥物質(zhì)量而達(dá)不到藥物質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)，藥物還包括放射性藥物，在放射性藥物合成過程中，放射性射線將會(huì)危害環(huán)境或操作人員的健康，為解決藥物合成過程中被污染的問題和防止放射性藥物的危害，目前常用的方法是在密閉的具有一定清潔度的環(huán)境中完成藥物的合成過程。

一般情況下，提供該密閉環(huán)境的密閉裝置具有放入原料或取出藥物的開口部，在藥物合成過程中外部的雜質(zhì)會(huì)通過開口部和密閉裝置的間隙進(jìn)入該密閉環(huán)境中，從而會(huì)污染合成的藥物；同樣的，藥物/放射性物質(zhì)/雜質(zhì)會(huì)通過開口部和密閉裝置的間隙滲出該密閉環(huán)境，一方面會(huì)造成藥物的損失，另一方面滲出的藥物/放射性物質(zhì)可能會(huì)危害環(huán)境或操作人員的健康，滲出的異物可能會(huì)影響環(huán)境的清潔度，目前尚未發(fā)現(xiàn)有針對(duì)提高藥物合成清潔度并防止藥物泄露至藥物合成室以外的技術(shù)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種藥物合成裝置，所述藥物合成裝置一方面通過抑制藥物合成裝置外部的雜質(zhì)進(jìn)入所述藥物合成裝置內(nèi)從而有效提高合成藥物的清潔度；另一方面有效抑制藥物從藥物合成裝置擴(kuò)散出去，不僅能夠降低藥物的損失，還可以防止擴(kuò)散出去的藥物/放射性物質(zhì)對(duì)環(huán)境和操作人員造成危害。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種藥物合成裝置，所述藥物合成裝置包括正壓室和負(fù)壓室，其中正壓室是由相互連接的壁構(gòu)成的箱體，所述正壓室的正面壁上設(shè)置有第一開口部，所述正壓室的內(nèi)部設(shè)置有用于合成和容納藥物的藥物合成組件，所述正壓室的內(nèi)部具有高于大氣壓的第一氣壓；負(fù)壓室位于正壓室的外部，并且至少覆蓋第一開口部，所述負(fù)壓室內(nèi)具有低于第一氣壓的第二氣壓，正壓室內(nèi)的氣體通過壓力差進(jìn)入負(fù)壓室。

其中，藥物合成過程發(fā)生在所述正壓室內(nèi)，正壓室具有高于大氣壓的第一氣壓，因此可以抑制所述藥物合成裝置外部的雜質(zhì)進(jìn)入正壓室內(nèi)，從而避免了雜質(zhì)對(duì)藥物的污染；所述負(fù)壓室至少覆蓋第一開口部，相對(duì)于外部環(huán)境中的雜質(zhì)可以直接接觸第一開口部與正面壁之間的縫隙而有可能直接進(jìn)入正壓室內(nèi)，負(fù)壓室一方面起到阻擋雜質(zhì)的第一屏障的作用，另一方 面，可以通過控制負(fù)壓室內(nèi)的第二氣壓以增加第一氣壓和第二氣壓之間的壓力差，以增加縫隙中存在的雜質(zhì)進(jìn)入負(fù)壓室的壓力，從而更進(jìn)一步地避免了藥物合成過程中受到污染。負(fù)壓室除了可以僅覆蓋第一開口部而阻止雜質(zhì)從第一開口部與正面壁之間的縫隙進(jìn)入正壓室外，本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知地，負(fù)壓室被這樣的設(shè)置：一方面能夠避免將正壓室內(nèi)的雜質(zhì)擴(kuò)散到外部環(huán)境；另一方面避免將外部環(huán)境的雜質(zhì)滲入到正壓室。因此，負(fù)壓室還可以作為一個(gè)連通的結(jié)構(gòu)覆蓋正壓室其他有縫隙的地方，甚至可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用的需要，負(fù)壓室全包圍整個(gè)正壓室。

進(jìn)一步地，所述正壓室和負(fù)壓室之間設(shè)置有一個(gè)鄰接于所述正面壁的獨(dú)立空間，正壓室內(nèi)的氣體通過所述獨(dú)立空間進(jìn)入負(fù)壓室內(nèi)。

所述獨(dú)立空間有繼負(fù)壓室作為第一屏障后更進(jìn)一步地阻擋藥物合成裝置外部雜質(zhì)進(jìn)入所述正壓室的第二屏障的作用，所述獨(dú)立空間內(nèi)的氣壓可以為第一氣壓，也可以為高于第二氣壓但低于第一氣壓的第三氣壓，由此可以抑制外界的雜質(zhì)通過壓力差進(jìn)入正壓室內(nèi)，從而避免了藥物合成過程中受到污染。所述獨(dú)立空間靠近負(fù)壓室并和所述正面壁平行的壁上設(shè)置第二開口部，所述第二開口部不僅可以用來向正壓室放入原料或從正壓室取出藥物，也可以使正壓室流入所述獨(dú)立空間的氣體根據(jù)獨(dú)立空間和負(fù)壓室的壓力差通過第二開口部和與其鄰接的壁之間的縫隙流入負(fù)壓室。

更進(jìn)一步地，所述藥物合成裝置中，所述正壓室具有排氣口，用于排出正壓室內(nèi)的氣體，以避免正壓室內(nèi)壓力過大而降低設(shè)備使用期限，需要說明的是，雖然正壓室具有排氣口，但是正壓室內(nèi)仍需要維持高于大氣壓的第一氣壓。

優(yōu)選的是，所述藥物合成裝置中，所述正壓室具有：

升壓機(jī)構(gòu)，用于增加正壓室內(nèi)部的壓力；和

第一過濾器，用于凈化升壓機(jī)構(gòu)注入正壓室的氣體。

其中升壓機(jī)構(gòu)具有使所述正壓室維持高于大氣壓的第一氣壓的作用，為了避免藥物合成過程中藥物被由升壓機(jī)構(gòu)注入正壓室的氣體污染，在氣體被注入正壓室之前需要通過第一過濾器除去雜質(zhì)達(dá)到一定的潔凈級(jí)別后再注入正壓室。

優(yōu)選的是，所述藥物合成裝置中，所述正壓室的排氣口上連接有限壓閥和第二過濾器，限壓閥用于控制正壓室內(nèi)的壓力，在維持正壓室內(nèi)的第一氣壓高于大氣壓的同時(shí)，降低第一氣壓對(duì)正壓室結(jié)構(gòu)的損害；而第二過濾器用于過濾通過限壓閥排出的氣體，避免藥物顆粒從所述排氣口排出藥物合成裝置而污染環(huán)境或?qū)Σ僮魅藛T造成危害，并且第二過濾器過濾下來的藥物可以通過物理或化學(xué)的處理繼續(xù)利用，降低藥物的流失。

優(yōu)選的是，所述藥物合成裝置中，所述負(fù)壓室具有減壓機(jī)構(gòu)和與減壓機(jī)構(gòu)連接的第三過濾器，所述減壓機(jī)構(gòu)包括氣體減壓閥、抽氣泵或排氣用的鼓風(fēng)機(jī)，用以使負(fù)壓室的第二氣壓低于正壓室內(nèi)的第一氣壓，第三過濾器用于過濾通過減壓機(jī)構(gòu)排出的氣體。

負(fù)壓室上與減壓機(jī)構(gòu)連接的第三過濾器可以過濾滲入負(fù)壓室內(nèi)的藥物，防止藥物泄露至藥物合成裝置外部，并且所述第三過濾器過濾下的藥物顆粒可以通過二次回收而降低藥物的流失，減少浪費(fèi)。

其中優(yōu)選的是，所述藥物合成裝置中，所述第二氣壓低于大氣壓，當(dāng)?shù)诙鈮焊哂诘谝粴鈮簳r(shí)可以使負(fù)壓室內(nèi)的氣體向藥物合成裝置外部流動(dòng)，避免雜質(zhì)通過負(fù)壓室進(jìn)入正壓室；當(dāng)?shù)诙鈮旱陀诘谝粴鈮簳r(shí)，正壓室和負(fù)壓室的壓力差變大，能更好的抑制雜質(zhì)從負(fù)壓室進(jìn)入正壓室污染藥物。

優(yōu)選的是，所述藥物合成裝置中，所述正壓室的排氣口與負(fù)壓室連通，使正壓室與負(fù)壓室共用一個(gè)減壓機(jī)構(gòu)，用以將正壓室內(nèi)的氣體排放到負(fù)壓室內(nèi)。正壓室內(nèi)的氣體分別經(jīng)過位于正壓室排氣口處的第一過濾器第一次過濾和經(jīng)過位于負(fù)壓室第二過濾器的第二次過濾使排出藥物合成裝置的氣體更純凈，提高藥物的二次回收程度。

優(yōu)選的是，所述藥物合成裝置中，所述正壓室的排氣口位于負(fù)壓室外部，使正壓室與負(fù)壓室設(shè)置有相互獨(dú)立的減壓機(jī)構(gòu)，用以分別將正壓室和負(fù)壓室內(nèi)的氣體排放出去。獨(dú)立的排氣途徑和減壓機(jī)構(gòu)可以使所述藥物合成裝置的維修更加方便。

優(yōu)選的是，所述藥物合成裝置中，構(gòu)成所述正壓室的相互連接壁包括正面壁、背面壁、左側(cè)壁、右側(cè)壁、頂壁和底壁，其中正面壁和背面壁分別與頂壁、右側(cè)壁、底壁和左側(cè)壁相連；所述負(fù)壓室覆蓋所有構(gòu)成所述正壓室的相互連接的壁。本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知地，負(fù)壓室也可以只覆蓋上述六壁中的至少兩個(gè)壁。

當(dāng)負(fù)壓室覆蓋所有構(gòu)成所述正壓室的相互連接的壁時(shí)，能夠避免在正壓室內(nèi)的壓力小于或等于大氣壓時(shí)，藥物合成裝置外部的雜質(zhì)從所述相互連接的壁之間的縫隙進(jìn)入正壓室而污染正壓室內(nèi)的藥物，起到進(jìn)一步凈化的作用。

優(yōu)選的是，所述藥物合成裝置中，構(gòu)成所述正壓室或所述負(fù)壓室的壁由能夠抑制放射性射線穿透的放射線屏蔽材料組成。合成放射性藥物時(shí)除了需要通過過濾器抑制放射性藥物顆粒滲出藥物合成裝置外，還需要抑制正壓室內(nèi)的放射性藥物的射線穿透藥物合成裝置的壁而對(duì)周圍環(huán)境造成危害，而用放射線屏蔽材料做正壓室或負(fù)壓室的壁可以有效的解決放射性射線泄露的問題。

本發(fā)明通過正壓室和負(fù)壓室室內(nèi)的壓力差來實(shí)現(xiàn)凈化藥物合成環(huán)境的效果，并且通過分 別在正壓室的排氣口和負(fù)壓室的減壓閥處設(shè)置過濾器來實(shí)現(xiàn)藥物顆粒的二次回收，在防止藥物或放射性物質(zhì)泄露造成環(huán)境污染的同時(shí)還能降低藥物的流失。本發(fā)明提供的技術(shù)方案可以有效的解決現(xiàn)有技術(shù)中藥物合成過程中容易出現(xiàn)藥物泄露以及藥物污染的問題。

附圖說明

圖1為藥物合成裝置的側(cè)面剖視示意圖。

圖2為藥物合成裝置的正面剖視示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步描述，應(yīng)當(dāng)理解，下文中的描述僅為說明性的，而非限制性的。

如圖1和圖2所示，所述藥物合成裝置包括有正壓室100、負(fù)壓室200和位于正壓室和負(fù)壓室中間的獨(dú)立空間300，正壓室100是由相互連接的壁120構(gòu)成的箱體，用以作為藥物合成的空間，這些相互連接的壁120分別為正面壁155、背面壁157、左側(cè)壁154、右側(cè)壁152、頂壁151和底壁153，其中正面壁155上有第一開口部156。所述箱體內(nèi)部可以根據(jù)需要由透氣的材料隔斷成不同的空間以充分利用該箱體合成藥物，每個(gè)空間里可以根據(jù)需要設(shè)置有藥物合成組件130用以提供藥物合成的環(huán)境。正壓室100內(nèi)具有高于大氣壓的第一氣壓，為了維持正壓室100內(nèi)的氣壓，在本實(shí)施例的技術(shù)方案中，正壓室具有升壓機(jī)構(gòu)111和第一過濾器112，其中升壓機(jī)構(gòu)111用以對(duì)所述正壓室100進(jìn)行加壓以維持正壓室100內(nèi)高于大氣壓的第一氣壓，第一過濾器112用于過濾升壓機(jī)構(gòu)111注入正壓室100內(nèi)的氣體，以維持正壓室100內(nèi)的潔凈級(jí)別。與升壓機(jī)構(gòu)111相對(duì)應(yīng)，正壓室還具有排氣口140，排氣口140上有限壓閥141和第二過濾器142，其中，限壓閥141和第二過濾器142的位置可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用進(jìn)行調(diào)換。排氣口140的作用是通過限壓閥141使正壓室內(nèi)維持一定壓力，當(dāng)正壓室100內(nèi)壓力過大時(shí)，排氣口140上的限壓閥141可以排放部分氣體，以提高藥物合成裝置的使用期限，排氣口140上的第二過濾器142具有收集限壓閥141排出的氣體里的藥物的作用，一方面防止藥物130泄露至藥物合成裝置外部的環(huán)境中對(duì)環(huán)境的污染，另一方面，第二過濾器142過濾下來的藥物通過二次回收可以防止藥物的流失。另外，通過正壓室正面壁155上的第一開口部156可以向正壓室100內(nèi)放入合成藥物的原料或從正壓室內(nèi)取出已經(jīng)合成的藥物。正壓室100外部的雜質(zhì)可能通過正壓室正面壁155與第一開口部156之間的縫隙以及構(gòu)成正壓室的相互連接的壁120之間的縫隙進(jìn)入正壓室，但是正壓室具有高于外部氣壓的第一氣壓，因此，即便正壓室存在如上所述的縫隙，正壓室外部的雜質(zhì)也不會(huì)通過所述縫隙進(jìn)入正壓室內(nèi)污染藥物合成環(huán)境。

為了防止雜質(zhì)通過正壓室的相互連接的壁120之間的縫隙進(jìn)入正壓室100，本實(shí)施例中負(fù)壓室200不僅覆蓋了第一開口部156，而且包圍了整個(gè)正壓室100，也就是說負(fù)壓室200覆蓋了構(gòu)成正壓室100的六個(gè)壁120；在負(fù)壓室200作為正壓室100的屏障使用之前可以先對(duì)負(fù)壓室200進(jìn)行凈化，除去其中雜質(zhì)，當(dāng)負(fù)壓室200內(nèi)的雜質(zhì)濃度低于外部環(huán)境雜質(zhì)的濃度時(shí)，負(fù)壓室200首先起到了凈化正壓室100內(nèi)部環(huán)境的屏障的作用；負(fù)壓室200具有減壓機(jī)構(gòu)211和第三過濾器212，減壓機(jī)構(gòu)211和第三過濾器212的位置可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用的需要進(jìn)行更換，其中減壓機(jī)構(gòu)211用于使負(fù)壓室內(nèi)的第二氣壓低于正壓室內(nèi)的第一氣壓，優(yōu)選地，減壓機(jī)構(gòu)211使第二氣壓低于大氣壓以增加正壓室100和負(fù)壓室200之間的壓力差，從而更好的避免了雜質(zhì)通過上述縫隙進(jìn)入正壓室100內(nèi)。構(gòu)成負(fù)壓室200連通空間的壁可以是獨(dú)立于正壓室和獨(dú)立空間以外的壁，也可以直接利用正壓室和獨(dú)立空間的壁作為負(fù)壓室壁的一部分。另外，位于正壓室和負(fù)壓室中間的獨(dú)立空間300起到類似于負(fù)壓室的屏障的作用。

本實(shí)施例的技術(shù)方案中正壓室的排氣口140和負(fù)壓室200連通，從正壓室排氣口140排出的氣體可以經(jīng)過負(fù)壓室中與減壓機(jī)構(gòu)211連接的第三過濾器212再次過濾，進(jìn)一步避免了正壓室內(nèi)的藥物隨著氣流排出藥物合成裝置。正壓室的排氣口140也可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用的需要設(shè)置在負(fù)壓室200外部(省略圖示)。

藥物合成裝置合成放射性藥物時(shí)，除了需要通過三個(gè)過濾器過濾放射性藥物顆粒以避免放射性藥物擴(kuò)散到空氣中對(duì)環(huán)境造成危害外，還需要用放射線屏蔽材料作為正壓室、獨(dú)立空間或負(fù)壓室的壁，以避免放射性射線透過藥物合成裝置對(duì)環(huán)境或操作人員造成危害。

本發(fā)明通過提供一個(gè)具有第一氣壓的正壓室以及可以操控其內(nèi)部氣壓以使其內(nèi)部氣壓低于第一氣壓的負(fù)壓室來為藥物合成提供一個(gè)更加潔凈的環(huán)境，并通過分別位于正壓室和負(fù)壓室上的三個(gè)過濾器過濾排出的氣體中的藥物，以免藥物污染藥物合成裝置外部的環(huán)境。

本發(fā)明揭示的藥物合成裝置并不局限于以上實(shí)施例所述的內(nèi)容以及附圖所表示的結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明的基礎(chǔ)上對(duì)其中構(gòu)件的材料、形狀及位置所做的顯而易見地改變、替代或者修改，都在本發(fā)明要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。