本發(fā)明涉及帶防眩膜的基材及其制造方法、以及具備帶防眩膜的基材的物品。
背景技術(shù)：
：在各種設(shè)備(例如電視機、個人計算機、智能手機、手機等)中安裝的圖像顯示裝置(例如液晶顯示器、有機EL顯示器、等離子體顯示器等)中，室內(nèi)照明(熒光燈等)、陽光等外部光線映入顯示面時，因反射圖像而導(dǎo)致視覺辨識性降低。作為抑制外部光線的映入的方法，有通過在圖像顯示裝置的顯示面配置表面具有凹凸的防眩膜使外部光線發(fā)生擴散反射，從而使反射圖像變得不鮮明的方法。作為防眩膜的形成方法，已知有用噴霧法將含有烷氧基硅烷的水解縮合物等二氧化硅前體的涂布液涂布在基材上并進行煅燒的方法(例如參見專利文獻1)。通過噴霧法形成防眩膜的情況下，多使用雙流體噴霧噴嘴。然而，使用雙流體噴霧噴嘴將涂布液進行涂布的情況下，由于噴霧寬度窄，因此需要進行使噴霧頭在基材上往復(fù)運動的噴嘴掃描。此外，為了得到具有高的防眩性的防眩膜，需要多的涂布次數(shù)。因此，涂布液的涂布所需的時間變長。另一方面，專利文獻2中提出了通過使用靜電涂裝法將特定的涂料組合物涂布在基板上并進行煅燒或干燥來形成低反射膜的方法。認為根據(jù)該方法能夠解決現(xiàn)有的噴霧涂布法的問題(例如由于需要使噴霧頭沿基材的寬度方向往復(fù)，因此為了在寬度寬的基材上均勻地形成低反射膜，需要減慢基材的輸送速度的問題；由于未附著在基材上而飛散到大氣中的低反射膜形成用涂料組合物多，因此所需的低反射膜形成用涂料組合物的量增多的問題等)。然而，專利文獻2中沒有涉及防眩膜的記載。即使按照專利文獻2的實施例中記載的步驟在基材上形成膜，雖然作為低反射膜具有優(yōu)異的低反射性能，但不具有防眩膜所要求的防眩性能?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1：日本特開2009-058640號公報專利文獻2：國際公開第2013/065801號技術(shù)實現(xiàn)要素：發(fā)明要解決的問題本發(fā)明的目的在于提供能夠以短時間制造具有優(yōu)異的防眩性能的帶防眩膜的基材的制造方法、具有優(yōu)異的防眩性能的帶防眩膜的基材及具備其的物品。用于解決問題的方案本發(fā)明具有以下方式。[1]一種帶防眩膜的基材的制造方法，其特征在于，所述帶防眩膜的基材具備基材和形成在前述基材上的防眩膜，所述制造方法包括下述工序：準(zhǔn)備涂料組合物的工序，所述涂料組合物含有二氧化硅前體(A)和顆粒(C)中的至少一者以及液態(tài)介質(zhì)(B)，且相對于前述液態(tài)介質(zhì)(B)的總量，前述液態(tài)介質(zhì)(B)含有86質(zhì)量％以上的沸點150℃以下的液態(tài)介質(zhì)(B1)；使用具備靜電涂裝槍的靜電涂裝裝置，使前述涂料組合物帶電并噴霧，由此涂布在前述基材上而形成涂膜的工序，所述靜電涂裝槍具有旋轉(zhuǎn)霧化頭；以及，通過煅燒前述涂膜而形成防眩膜的工序。[2]根據(jù)[1]所述的帶防眩膜的基材的制造方法，其中，涂布前述涂料組合物時的前述旋轉(zhuǎn)霧化頭的旋轉(zhuǎn)速度為5000～80000rpm。[3]根據(jù)[1]或[2]所述的帶防眩膜的基材的制造方法，其中，在涂布前述涂料組合物時，以0.01～0.3MPa的空氣壓力從前述靜電涂裝槍吹出成形空氣。[4]根據(jù)[1]～[3]中的任一項所述的帶防眩膜的基材的制造方法，其中，前述涂料組合物中的二氧化硅前體(A)與顆粒(C)的總含量在涂料組合物中的固體成分(100質(zhì)量％)(其中，二氧化硅前體(A)按SiO2換算。)中為30～100質(zhì)量％。[5]根據(jù)[1]～[4]中的任一項所述的帶防眩膜的基材的制造方法，其中，前述涂料組合物中的二氧化硅前體(A)的含量在涂料組合物中的固體成分(100質(zhì)量％)(其中，二氧化硅前體(A)按SiO2換算。)中為35～95質(zhì)量％。[6]根據(jù)[1]～[5]中的任一項所述的帶防眩膜的基材的制造方法，其中，前述涂料組合物中的顆粒(C)的含量在涂料組合物中的固體成分(100質(zhì)量％)(其中，二氧化硅前體(A)按SiO2換算。)中為3～40質(zhì)量％。[7]根據(jù)[1]～[6]中的任一項所述的帶防眩膜的基材的制造方法，其中，前述涂料組合物中的液態(tài)介質(zhì)(B)的含量設(shè)定為使得在涂料組合物的總量(100質(zhì)量％)中涂料組合物的固體成分濃度成為1～8質(zhì)量％的量。[8]一種帶防眩膜的基材，其是由[1]～[7]中的任一項所述的帶防眩膜的基材的制造方法得到的。[9]一種物品，其具備[8]所述的帶防眩膜的基材。[10]根據(jù)[9]所述的物品，其為圖像顯示裝置。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，可以提供能夠以短時間制造具有優(yōu)異的防眩性能的帶防眩膜的基材的制造方法、具有優(yōu)異的防眩性能的帶防眩膜的基材及具備其的物品。附圖說明圖1是本發(fā)明中的帶防眩膜的基材的一個例子的剖視示意圖。圖2是示出靜電涂裝裝置的一個例子的示意圖。圖3是圖2的靜電涂裝裝置所具備的靜電涂裝槍17的剖視示意圖。圖4是從前方看圖3的靜電涂裝槍17的前視示意圖。具體實施方式以下用語的定義適用于本說明書和權(quán)利要求書?！岸趸枨绑w”表示通過煅燒能夠形成以二氧化硅作為主要成分的基體的物質(zhì)?！耙远趸枳鳛橹饕煞帧笔侵负?0質(zhì)量％以上的SiO2?！芭c硅原子鍵合的水解性基團”表示通過水解能夠轉(zhuǎn)換成與硅原子鍵合的OH基的基團?！镑[片狀顆粒”表示具有扁平形狀的顆粒。顆粒的形狀可以使用透射型電子顯微鏡(以下也記為TEM。)確認?！?0°鏡面光澤度”通過JISZ8741：1997(ISO2813：1994)中記載的方法，不消除背面(與形成有防眩膜的一側(cè)處于相反側(cè)的面)反射地進行測定?！办F度”通過JISK7136：2000(ISO14782：1999)中記載的方法進行測定?！八阈g(shù)平均粗糙度Ra”通過JISB0601：2001(ISO4287：1997)中記載的方法進行測定?！捌骄健北硎驹趯大w積基準(zhǔn)求出的粒度分布的全部體積設(shè)為100％的累積體積分布曲線中為50％的點的粒徑，即體積基準(zhǔn)累積50％粒徑(D50)。粒度分布通過用激光衍射/散射式粒徑分布測定裝置測得的頻率分布和累積體積分布曲線求出?！皬胶癖?aspectratio)”表示顆粒的最長長度相對于厚度之比(最長長度/厚度)，“平均徑厚比”為隨機選擇的50個顆粒的徑厚比的平均值。顆粒的厚度通過原子力顯微鏡(以下也記為AFM。)進行測定，最長長度通過TEM進行測定。<帶防眩膜的基材>由本發(fā)明的帶防眩膜的基材的制造方法得到的帶防眩膜的基材具備基材和形成在基材上的防眩膜。帶防眩膜的基材的霧度優(yōu)選為5％以上，更優(yōu)選為8～50％，進一步優(yōu)選為10～35％。如果霧度為5％以上，則可充分發(fā)揮防眩效果。如果霧度為50％以下，則在將帶防眩膜的基材作為保護板、各種濾光片設(shè)置在圖像顯示裝置主體的視覺辨識側(cè)的情況下，可充分抑制圖像的對比度的降低。圖1是示出由本發(fā)明的制造方法得到的帶防眩膜的基材的一個例子的剖視示意圖。該例的帶防眩膜的基材1具備基材3和形成在基材3上的防眩膜5。(基材)作為基材3的材料，可列舉出：玻璃、金屬、樹脂、硅、木材、紙等。作為玻璃，可列舉出：鈉鈣玻璃、硼硅玻璃、鋁硅酸鹽玻璃、無堿玻璃等。從即使厚度薄也容易通過強化處理加入大的應(yīng)力、適宜作為在圖像顯示裝置的視覺辨識側(cè)配置的物品的角度來看，優(yōu)選鋁硅酸鹽玻璃。此外，基于相同理由，優(yōu)選化學(xué)強化玻璃，特別優(yōu)選化學(xué)強化鋁硅酸鹽玻璃。作為樹脂，可列舉出：聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、三乙?；w維素、聚甲基丙烯酸甲酯等。作為基材3的形態(tài)，可列舉出板、薄膜等?；?的形狀通常為平坦的形狀。最近，在各種設(shè)備(例如電視機、個人計算機、智能手機、車載導(dǎo)航儀等)中，出現(xiàn)了圖像顯示裝置的顯示面被制成了曲面的設(shè)備，也可以是配合圖像顯示裝置的形狀而被彎曲的、具有曲面的形狀?；?可以在基材主體的表面上具有功能層。作為功能層，可列舉出：底涂層、密合改善層、保護層等。底涂層具有作為堿阻擋層、寬頻的低折射率層的功能。作為底涂層，優(yōu)選通過將含有烷氧基硅烷的水解物(溶膠凝膠二氧化硅)的底涂用涂料組合物涂布于基材主體而形成的層。(防眩膜)防眩膜5是對涂料組合物的涂膜進行煅燒而得到的，所述涂料組合物含有二氧化硅前體(A)和顆粒(C)中的至少一者以及液態(tài)介質(zhì)(B)，并根據(jù)需要任選含有除二氧化硅前體(A)和顆粒(C)以外的其他成分。涂料組合物含有二氧化硅前體(A)的情況下，防眩膜5的基體含有來源于二氧化硅前體(A)的、以二氧化硅作為主要成分的基體。防眩膜5可以由顆粒(C)構(gòu)成。防眩膜5可以在前述基體中分散有顆粒(C)。涂料組合物中，作為液態(tài)介質(zhì)(B)，含有沸點150℃以下的液態(tài)介質(zhì)(B1)。此外，液態(tài)介質(zhì)(B1)的含量相對于前述液態(tài)介質(zhì)(B)的總量為86質(zhì)量％以上。防眩膜5的表面的60°鏡面光澤度優(yōu)選為120％以下，更優(yōu)選為100％以下，進一步優(yōu)選為80％以下。防眩膜5的表面的60°鏡面光澤度是防眩效果的指標(biāo)，如果60°鏡面光澤度為120％以下，則可充分發(fā)揮防眩效果。防眩膜5的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為0.05μm以上，更優(yōu)選為0.10～0.70μm，進一步優(yōu)選為0.15～0.50μm。如果防眩膜5的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.05μm以上，則可充分發(fā)揮防眩效果。如果防眩膜5的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為前述范圍的上限值0.70μm以下，則可充分抑制圖像的對比度的降低。防眩膜5的表面的最大高度粗糙度Rz優(yōu)選為0.2～5.0μm，更優(yōu)選為0.3～4.5μm，進一步優(yōu)選為0.5～4.0μm。如果防眩膜5的表面的最大高度粗糙度Rz為前述范圍的下限值以上，則可充分發(fā)揮防眩效果。如果防眩膜5的表面的最大高度粗糙度Rz為前述范圍的上限值以下，則可充分抑制圖像的對比度的降低。<帶防眩膜的基材的制造方法>本發(fā)明的帶防眩膜的基材的制造方法包括下述工序：準(zhǔn)備涂料組合物的工序，所述涂料組合物含有二氧化硅前體(A)和顆粒(C)中的至少一者以及液態(tài)介質(zhì)(B)，且相對于前述液態(tài)介質(zhì)(B)的總量，前述液態(tài)介質(zhì)(B)含有86質(zhì)量％以上的沸點150℃以下的液態(tài)介質(zhì)(B1)(以下也稱為涂料組合物制備工序。)；使用具備靜電涂裝槍的靜電涂裝裝置，使前述涂料組合物帶電并噴霧，由此涂布在前述基材上而形成涂膜的工序，所述靜電涂裝槍具有旋轉(zhuǎn)霧化頭(以下也稱為涂布工序。)；以及，通過煅燒前述涂膜而形成防眩膜的工序(以下也稱為煅燒工序。)。根據(jù)需要可以包括在形成防眩膜前在基材主體的表面形成功能層來制作基材的工序，也可以包括在形成防眩膜后實施公知的后加工的工序。[涂料組合物制備工序]涂料組合物含有二氧化硅前體(A)和顆粒(C)中的至少一者以及液態(tài)介質(zhì)(B)。涂料組合物不含二氧化硅前體(A)、含有顆粒(C)的情況下，顆粒(C)的平均粒徑優(yōu)選為30nm以下。涂料組合物根據(jù)需要可以含有除二氧化硅前體(A)以外的其他粘結(jié)劑(D)、其他添加劑(E)等。(二氧化硅前體(A))作為二氧化硅前體(A)，可列舉出：具有與硅原子鍵合的烴基和水解性基團的硅烷化合物(A1)及其水解縮合物、烷氧基硅烷(但不包括硅烷化合物(A1)。)及其水解縮合物(溶膠凝膠二氧化硅)、硅氮烷等。在硅烷化合物(A1)中，與硅原子鍵合的烴基可以是與1個硅原子鍵合的1價的烴基，也可以是與2個硅原子鍵合的2價的烴基。作為1價的烴基，可列舉出：烷基、鏈烯基、芳基等。作為2價的烴基，可列舉出：亞烷基、亞鏈烯基、亞芳基等。烴基可以具有在碳原子間組合選自-O-、-S-、-CO-和-NR’-(其中，R’為氫原子或1價的烴基。)中的1個或2個以上得到的基團。作為與硅原子鍵合的水解性基團，可列舉出：烷氧基、酰氧基、酮肟基、鏈烯氧基、氨基、氨氧基、酰胺基、異氰酸酯基、鹵素原子等。這些當(dāng)中，從硅烷化合物(A1)的穩(wěn)定性與水解的容易性的平衡的角度來看，優(yōu)選烷氧基、異氰酸酯基和鹵素原子(特別是氯原子)。作為烷氧基，優(yōu)選碳數(shù)1～3的烷氧基，更優(yōu)選甲氧基或乙氧基。在硅烷化合物(A1)中存在多個水解性基團的情況下，水解性基團可以是相同基團也可以是不同基團，從容易獲取的角度來看優(yōu)選為相同基團。作為硅烷化合物(A1)，可列舉出：后述的式(I)所示的化合物、具有烷基的烷氧基硅烷(甲基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷等)、具有乙烯基的烷氧基硅烷(乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等)、具有環(huán)氧基的烷氧基硅烷(2-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷等)、具有丙烯酰氧基的烷氧基硅烷(3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等)等。作為硅烷化合物(A1)，從即使膜厚較厚也不容易產(chǎn)生防眩膜的裂紋、膜剝離的角度來看，優(yōu)選下式(I)所示的化合物。R3-pLpSi-Q-SiLpR3-p···(I)式(I)中，Q為2價的烴基(可以具有在碳原子間組合選自-O-、-S-、-CO-和-NR’-(其中，R’為氫原子或1價的烴基。)中的1個或2個以上得到的基團。)。作為2價的烴，可列舉出上述烴。作為Q，從獲取容易且即使膜厚較厚也不容易產(chǎn)生防眩膜的裂紋、膜剝離的角度來看，優(yōu)選碳數(shù)2～8的亞烷基，進一步優(yōu)選碳數(shù)2～6的亞烷基。式(I)中，L為水解性基團。作為水解性基團，可列舉出上述基團，優(yōu)選形態(tài)也同樣。R為氫原子或1價的烴基。作為1價的烴，可列舉出上述烴。p為1～3的整數(shù)。從反應(yīng)速度不會變得過慢的角度來看，p優(yōu)選為2或3，特別優(yōu)選為3。作為烷氧基硅烷(但不包括前述硅烷化合物(A1)。)，可列舉出：四烷氧基硅烷(四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等)、具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷(全氟聚醚三乙氧基硅烷等)、具有全氟烷基的烷氧基硅烷(全氟乙基三乙氧基硅烷等)等。硅烷化合物(A1)和烷氧基硅烷(但不包括硅烷化合物(A1)。)的水解和縮合可以通過公知的方法進行。例如為四烷氧基硅烷的情況下，使用四烷氧基硅烷的4倍摩爾以上的水以及作為催化劑的酸或堿進行。作為酸，可列舉出：無機酸(HNO3、H2SO4、HCl等。)、有機酸(甲酸、草酸、單氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸等。)。作為堿，可列舉出：氨、氫氧化鈉、氫氧化鉀等。作為催化劑，從硅烷化合物(A)的水解縮合物的長期保存性的角度來看，優(yōu)選酸。作為二氧化硅前體(A)，可以單獨使用1種，也可以組合使用2種以上。從防止防眩膜的裂紋、膜剝離的角度來看，二氧化硅前體(A)優(yōu)選含有硅烷化合物(A1)及其水解縮合物的任一者或兩者。從防眩膜的耐磨耗強度的角度來看，二氧化硅前體(A)優(yōu)選含有四烷氧基硅烷及其水解縮合物的任一者或兩者。二氧化硅前體(A)特別優(yōu)選含有硅烷化合物(A1)及其水解縮合物的任一者或兩者以及四烷氧基硅烷及其水解縮合物的任一者或兩者。(液態(tài)介質(zhì)(B))液態(tài)介質(zhì)(B)在涂料組合物含有二氧化硅前體(A)的情況下用于溶解或分散二氧化硅前體(A)，在涂料組合物含有顆粒(C)的情況下用于分散顆粒(C)。涂料組合物含有二氧化硅前體(A)和顆粒(C)兩者的情況下，液態(tài)介質(zhì)(B)可以具有作為溶解或分散二氧化硅前體(A)的溶劑或分散介質(zhì)的功能和作為分散顆粒(C)的分散介質(zhì)的功能這兩者。液態(tài)介質(zhì)(B)至少含有沸點150℃以下的液態(tài)介質(zhì)(B1)。液態(tài)介質(zhì)(B1)的沸點優(yōu)選為50～145℃，更優(yōu)選為55～140℃。如果液態(tài)介質(zhì)(B1)的沸點為150℃以下，則使用具備靜電涂裝槍的靜電涂裝裝置將涂料組合物涂布在基材上進行煅燒而得的膜具有更理想的防眩性能，所述靜電涂裝槍具有旋轉(zhuǎn)霧化頭。如果液態(tài)介質(zhì)(B1)的沸點為前述范圍的下限值以上，則涂料組合物的液滴附著在基材上之后，能夠在充分保持液滴形狀的狀態(tài)下形成凹凸結(jié)構(gòu)。作為液態(tài)介質(zhì)(B1)，例如可列舉出：水、醇類(甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、1-戊醇等)、酮類(丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮等)、醚類(四氫呋喃、1,4-二噁烷等)、溶纖劑類(甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯等)、二醇醚類(乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等)等。液態(tài)介質(zhì)(B1)可以單獨使用1種，也可以組合使用2種以上。液態(tài)介質(zhì)(B)根據(jù)需要可以進一步含有除液態(tài)介質(zhì)(B1)以外的其他液態(tài)介質(zhì)、即沸點超過150℃的液態(tài)介質(zhì)。該沸點超過150℃的液態(tài)介質(zhì)的含有比率相對于液態(tài)介質(zhì)(B)的總量小于14質(zhì)量％。作為其他液態(tài)介質(zhì)，例如可列舉出：醇類、酮類、醚類、溶纖劑類、酯類、二醇醚類、含氮化合物、含硫化合物等。作為醇類，可列舉出：二丙酮醇、1-己醇、乙二醇等。作為含氮化合物，可列舉出：N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。作為二醇醚類，可列舉出：乙二醇單丁醚等。作為含硫化合物，可列舉出：二甲基亞砜等。其他液態(tài)介質(zhì)可以單獨使用1種，也可以組合使用2種以上。二氧化硅前體(A)中的烷氧基硅烷等的水解需要水，因此除非在水解后進行液態(tài)介質(zhì)的置換，否則液態(tài)介質(zhì)(B)至少含有水作為液態(tài)介質(zhì)(B1)。該情況下，液態(tài)介質(zhì)(B)可以僅僅是水，也可以是水與其他液體的混合液。作為其他液體，可以是除水以外的液態(tài)介質(zhì)(B1)，也可以是其他液態(tài)介質(zhì)，例如可列舉出：醇類、酮類、醚類、溶纖劑類、酯類、二醇醚類、含氮化合物、含硫化合物等。這些當(dāng)中，作為二氧化硅前體(A)的溶劑，優(yōu)選醇類，特別優(yōu)選甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇。(顆粒(C))顆粒(C)可以單獨或與來源于二氧化硅前體(A)的基體一起構(gòu)成防眩膜。涂料組合物不含二氧化硅前體(A)而含有顆粒(C)的情況下，顆粒(C)的平均粒徑優(yōu)選為30nm以下。作為顆粒(C)，可列舉出：鱗片狀顆粒(C1)、除鱗片狀顆粒(C1)以外的其他顆粒(C2)等。鱗片狀顆粒(C1)：鱗片狀顆粒(C1)的平均徑厚比優(yōu)選為50～650，更優(yōu)選為100～350，進一步優(yōu)選為170～240。如果鱗片狀顆粒(C1)的平均徑厚比為50以上，則即使膜厚較厚也可充分抑制防眩膜的裂紋、膜剝離。如果鱗片狀顆粒(C1)的平均徑厚比為650以下，則在涂料組合物中的分散穩(wěn)定性變良好。鱗片狀顆粒(C1)的平均粒徑優(yōu)選為0.08～0.42μm，更優(yōu)選為0.17～0.21μm。如果鱗片狀顆粒(C1)的平均粒徑為0.08μm以上，則即使膜厚較厚也可充分抑制防眩膜的裂紋、膜剝離。如果鱗片狀顆粒(C1)的平均粒徑為0.42μm以下，則在涂料組合物中的分散穩(wěn)定性變良好。作為鱗片狀顆粒(C1)，可列舉出：鱗片狀二氧化硅顆粒、鱗片狀氧化鋁顆粒、鱗片狀二氧化鈦、鱗片狀氧化鋯等，從能夠抑制膜的折射率上升、降低反射率的角度來看，優(yōu)選鱗片狀二氧化硅顆粒。鱗片狀二氧化硅顆粒是薄片狀的二氧化硅1次顆粒、或多個薄片狀的二氧化硅1次顆粒彼此面間平行地取向并重疊而形成的二氧化硅2次顆粒。二氧化硅2次顆粒通常具有層疊結(jié)構(gòu)的顆粒形態(tài)。鱗片狀二氧化硅顆粒可以僅是二氧化硅1次顆粒和二氧化硅2次顆粒的任一者，也可以是兩者。二氧化硅1次顆粒的厚度優(yōu)選為0.001～0.1μm。如果二氧化硅1次顆粒的厚度在前述范圍內(nèi)，則能夠彼此面間平行地取向而形成1個或多個重疊而成的鱗片狀的二氧化硅2次顆粒。二氧化硅1次顆粒的最小長度相對于厚度的比(最小長度/厚度)優(yōu)選為2以上，更優(yōu)選為5以上，進一步優(yōu)選為10以上。二氧化硅2次顆粒的厚度優(yōu)選為0.001～3μm，更優(yōu)選為0.005～2μm。二氧化硅2次顆粒的最小長度相對于厚度的比優(yōu)選為2以上，更優(yōu)選為5以上，進一步優(yōu)選為10以上。二氧化硅2次顆粒優(yōu)選相互獨立存在而不融合。鱗片狀二氧化硅顆粒的SiO2純度優(yōu)選為95.0質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為99.0質(zhì)量％以上。涂料組合物的制備可使用作為多個鱗片狀二氧化硅顆粒的集合體的粉體、或?qū)⒃摲垠w分散于液態(tài)介質(zhì)而成的分散體。分散體中的二氧化硅濃度優(yōu)選為1～80質(zhì)量％。粉體或分散體中，有時不僅含有鱗片狀二氧化硅顆粒，還含有在鱗片狀二氧化硅顆粒的制造時產(chǎn)生的不定形二氧化硅顆粒。鱗片狀二氧化硅顆粒例如通過對鱗片狀二氧化硅顆粒發(fā)生聚集并不規(guī)則地重疊而形成的具有間隙的聚集體形狀的二氧化硅3次顆粒(以下也記為二氧化硅聚集體。)進行破碎、分散化而得到。不定形二氧化硅顆粒是二氧化硅聚集體被一定程度地微?；臓顟B(tài)，但未被微?；羻蝹€鱗片狀二氧化硅顆粒的狀態(tài)的顆粒，為多個鱗片狀二氧化硅顆粒形成塊的形狀。如果含有不定形二氧化硅顆粒，則存在形成的防眩膜的致密性降低、變得容易產(chǎn)生裂紋、膜剝離之虞。因此，粉體或分散體中的不定形二氧化硅顆粒的含量越少越優(yōu)選。不定形二氧化硅顆粒和二氧化硅聚集體均在TEM觀察中觀察為黑色狀。而薄片狀的二氧化硅1次顆?；蚨趸?次顆粒在TEM觀察中觀察為透明或半透明狀。鱗片狀二氧化硅顆?？梢允褂檬惺鄣念w粒，也可以使用制造的顆粒。鱗片狀二氧化硅顆粒優(yōu)選為通過后述的制造方法(P)制造的顆粒。根據(jù)制造方法(P)，與公知的制造方法(例如日本特許第4063464號公報中記載的方法)相比，可抑制在制造工序中的不定形二氧化硅顆粒的產(chǎn)生，能夠得到不定形二氧化硅顆粒的含量少的粉體或分散體。顆粒(C2)：作為除鱗片狀顆粒(C1)以外的其他顆粒(C2)，可列舉出：金屬氧化物顆粒、金屬顆粒、顏料類顆粒、樹脂顆粒等。作為金屬氧化物顆粒的材料，可列舉出：Al2O3、SiO2、SnO2、TiO2、ZrO2、ZnO、CeO2、含Sb的SnOX(ATO)、含Sn的In2O3(ITO)、RuO2等。作為金屬氧化物顆粒的材料，由于本發(fā)明的防眩膜中的基體為二氧化硅，因此優(yōu)選折射率與基體相同的SiO2。作為金屬顆粒的材料，可列舉出：金屬(Ag、Ru等)、合金(AgPd、RuAu等)等。作為顏料類顆粒，可列舉出：無機顏料(鈦黑、炭黑等)、有機顏料。作為樹脂顆粒的材料，可列舉出：丙烯酸類樹脂、聚苯乙烯、三聚氰胺樹脂等。作為顆粒(C2)的形狀，可列舉出：球狀、橢圓狀、針狀、板狀、棒狀、圓錐狀、圓柱狀、立方體狀、長方體狀、金剛石狀、星狀、不定形狀等。其他顆?？梢砸愿黝w粒獨立的狀態(tài)存在，各顆粒可以連接成鏈狀，各顆粒也可以聚集。顆粒(C2)可以是實心顆粒，也可以是中空顆粒，也可以是多孔顆粒等開孔的顆粒。作為顆粒(C2)，優(yōu)選球狀二氧化硅顆粒、棒狀二氧化硅顆粒、針狀二氧化硅顆粒等二氧化硅顆粒(但不包括鱗片狀二氧化硅顆粒。)。當(dāng)中，從帶防眩膜的基材的霧度充分提高且防眩膜的表面的60°鏡面光澤度充分降低、結(jié)果可充分發(fā)揮防眩效果的角度來看，優(yōu)選球狀二氧化硅顆粒，更優(yōu)選多孔球狀二氧化硅顆粒。顆粒(C2)的平均粒徑優(yōu)選為0.3～2μm，更優(yōu)選為0.5～1.5μm。如果顆粒(C2)的平均粒徑為0.3μm以上，則可充分發(fā)揮防眩效果。如果顆粒(C2)的平均粒徑為2μm以下，則涂料組合物中的分散穩(wěn)定性變良好。多孔球狀二氧化硅顆粒的BET比表面積優(yōu)選為200～300m2/g。多孔球狀二氧化硅顆粒的細孔容積優(yōu)選為0.5～1.5cm3/g。作為多孔球狀二氧化硅顆粒的市售品，可列舉出：日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制造的LIGHTSTAR(注冊商標(biāo))系列。顆粒(C)可以單獨使用1種，也可以并用2種以上。顆粒(C)優(yōu)選含有鱗片狀顆粒(C1)，可以進一步含有顆粒(C2)。通過含有鱗片狀顆粒(C1)，防眩膜的霧度提高，可獲得更優(yōu)異的防眩性能。此外，與顆粒(C2)相比，含有鱗片狀顆粒(C1)的情況下，在加厚防眩膜的膜厚時不容易產(chǎn)生裂紋、膜剝離。(粘結(jié)劑(D))作為粘結(jié)劑(D)(但不包括二氧化硅前體(A)。)，可列舉出：溶解或分散于液體介質(zhì)(B)的無機物、樹脂等。作為無機物，例如可列舉出：除二氧化硅以外的金屬氧化物前體(金屬：鈦、鋯、等)。作為樹脂，可列舉出：熱塑性樹脂、熱固性樹脂、紫外線固化性樹脂等。(添加劑(E))涂料組合物根據(jù)需要可以在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)進一步含有添加劑(E)。作為添加劑(E)，例如可列舉出：具有極性基團的有機化合物(E1)、紫外線吸收劑、紅外線反射劑、紅外線吸收劑、防反射劑、用于提高流平性的表面活性劑、用于提高耐久性的金屬化合物等。涂料組合物含有顆粒(C)的情況下，通過使涂料組合物含有具有極性基團的有機化合物(E1)，能夠抑制由涂料組合物中的靜電力引起的顆粒(C)的聚集。作為具有極性基團的有機化合物(E1)，從抑制顆粒(C)聚集的效果的角度來看，優(yōu)選分子中具有羥基和/或羰基，更優(yōu)選分子中具有選自由羥基、醛基(-CHO)、酮基(-C(＝O)-)、酯鍵(-C(＝O)O-)、羧基(-COOH)組成的組中的1種以上，進一步優(yōu)選分子中具有選自由羧基、羥基、醛基和酮基組成的組中的1種以上。作為具有極性基團的有機化合物(E1)，可列舉出：不飽和羧酸聚合物、纖維素衍生物、有機酸(但不包括不飽和羧酸聚合物。)、萜烯化合物等。有機化合物(E1)可以單獨使用1種，也可以并用2種以上。作為不飽和羧酸聚合物，可列舉出：聚丙烯酸。作為纖維素衍生物，可列舉出：聚羥基烷基纖維素。作為有機酸(但不包括不飽和羧酸聚合物。)，可列舉出：甲酸、草酸、單氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、檸檬酸、酒石酸、馬來酸等。需要說明的是，在烷氧基硅烷等的水解中使用有機酸作為催化劑的情況下，該有機酸也包括在作為有機化合物(E1)的有機酸中。萜烯是指以異戊二烯(C5H8)作為構(gòu)成單元的(C5H8)n(其中，n為1以上的整數(shù)。)的組成的烴。萜烯化合物是指具有自萜烯衍生的官能團的萜烯類。萜烯化合物還包括不飽和度不同的化合物。需要說明的是，雖然萜烯化合物中也有作為液態(tài)介質(zhì)發(fā)揮作用的化合物，但作為“以異戊二烯作為構(gòu)成單元的(C5H8)n的組成的烴”的化合物視為屬于萜烯衍生物，而不屬于液態(tài)介質(zhì)。作為萜烯衍生物，可列舉出：萜烯醇(α-萜品醇、萜品烯4-醇、L-薄荷醇、(±)香茅醇、桃金娘烯醇、冰片、橙花醇、金合歡醇、植醇等)、萜烯醛(檸檬醛、β-環(huán)檸檬醛、紫蘇醛等)、萜烯酮((±)樟腦、β-紫羅蘭酮等)、萜烯羧酸(香茅酸、松香酸等)、萜烯酯(乙酸萜品酯、乙酸薄荷酯等)等。作為用于提高流平性的表面活性劑，可列舉出：硅油類、丙烯酸類等。作為用于提高耐久性的金屬化合物，優(yōu)選鋯螯合物化合物、鈦螯合物化合物、鋁螯合物化合物等。作為鋯螯合物化合物，可列舉出：四乙酰丙酮鋯、三丁氧基硬脂酸鋯等。(組成)涂料組合物中的二氧化硅前體(A)與顆粒(C)的總含量在涂料組合物中的固體成分(100質(zhì)量％)(其中，二氧化硅前體(A)按SiO2換算。)中優(yōu)選為30～100質(zhì)量％，更優(yōu)選為40～100質(zhì)量％。如果二氧化硅前體(A)與顆粒(C)的總含量為前述范圍的下限值以上，則防眩膜與基材的密合性優(yōu)異。如果二氧化硅前體(A)與顆粒(C)的總含量為前述范圍的上限值以下，則可抑制防眩膜的裂紋、膜剝離。涂料組合物含有二氧化硅前體(A)的情況下，涂料組合物中的二氧化硅前體(A)(SiO2換算)的含量在涂料組合物中的固體成分(100質(zhì)量％)(其中，二氧化硅前體(A)按SiO2換算。)中優(yōu)選為35～95質(zhì)量％，更優(yōu)選為50～90質(zhì)量％。如果二氧化硅前體(A)的含量為前述范圍的下限值以上，則可獲得防眩膜與基材的充分的密合強度。如果二氧化硅前體(A)的含量為前述范圍的上限值以下，則即使膜厚較厚也可充分抑制防眩膜的裂紋、膜剝離。涂料組合物含有二氧化硅前體(A)且二氧化硅前體(A)含有硅烷化合物(A1)及其水解縮合物中的任一者或兩者的情況下，相對于二氧化硅前體(A)的SiO2換算固體成分(100質(zhì)量％)，二氧化硅前體(A)中的硅烷化合物(A1)及其水解縮合物的比率優(yōu)選為5～100質(zhì)量％。如果硅烷化合物(A1)及其水解縮合物的比率為前述范圍的下限值以上，則即使膜厚較厚也可充分抑制防眩膜的裂紋、膜剝離。涂料組合物中的液態(tài)介質(zhì)(B)的含量設(shè)定為與涂料組合物的固體成分濃度相應(yīng)的量。涂料組合物的固體成分濃度在涂料組合物的總量(100質(zhì)量％)中優(yōu)選為1～8質(zhì)量％，更優(yōu)選為2～6質(zhì)量％。如果固體成分濃度為前述范圍的下限值以上，則能夠減少涂料組合物的液量。如果固體成分濃度為前述范圍的上限值以下，則防眩膜的膜厚的均勻性提高。涂料組合物的固體成分濃度是涂料組合物中除液態(tài)介質(zhì)(B)以外的全部成分的含量的總和。其中，二氧化硅前體(A)的含量為SiO2換算。涂料組合物中的沸點150℃以下的液態(tài)介質(zhì)(B1)的含量相對于液態(tài)介質(zhì)(B)的總量為86質(zhì)量％以上。通過以86質(zhì)量％以上的比率含有液態(tài)介質(zhì)(B1)，在使用具備靜電涂裝槍的靜電涂裝裝置將涂料組合物涂布在基材上并進行了煅燒時，可形成具有更理想的性能的防眩膜，所述靜電涂裝槍具有旋轉(zhuǎn)霧化頭。如果液態(tài)介質(zhì)(B1)的比率小于86質(zhì)量％，則存在因在溶劑揮發(fā)干燥前發(fā)生平滑化而無法形成凹凸結(jié)構(gòu)，煅燒后的膜無法成為防眩膜之虞。液態(tài)介質(zhì)(B1)的含量相對于液態(tài)介質(zhì)(B)的總量優(yōu)選為90質(zhì)量％以上。液態(tài)介質(zhì)(B1)的含量相對于液態(tài)介質(zhì)(B)的總量可以為100質(zhì)量％。涂料組合物含有顆粒(C)的情況下，顆粒(C)的含量在涂料組合物中的固體成分(100質(zhì)量％)(其中，二氧化硅前體(A)按SiO2換算。)中優(yōu)選為3～40質(zhì)量％，更優(yōu)選為5～30質(zhì)量％。如果顆粒(C)的含量為前述范圍的下限值以上，則帶防眩膜的基材的霧度充分提高，且防眩膜的表面的60°鏡面光澤度充分降低，因此可充分發(fā)揮防眩效果。如果顆粒(C)的含量為前述范圍的上限值以下，則可獲得足夠的耐磨耗強度。涂料組合物含有顆粒(C)且顆粒(C)含有鱗片狀顆粒(C1)的情況下，鱗片狀顆粒(C1)的含量在顆粒(C)的總量(100質(zhì)量％)中優(yōu)選為20質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為30質(zhì)量％以上。對上限沒有特別限定，可以為100質(zhì)量％。如果鱗片狀顆粒(C1)的比率為前述下限值以上，則成為防眩效果更優(yōu)異的膜。此外，即使膜厚較厚也可充分抑制防眩膜的裂紋、膜剝離。涂料組合物例如可以通過如下方法制備：制備在液體介質(zhì)(B)中溶解有硅烷前體(A)的溶液，混合視需要而追加的液態(tài)介質(zhì)(B)、顆粒(C)的分散液等。顆粒(C)含有鱗片狀顆粒(C1)、二氧化硅前體(A)含有四烷氧基硅烷的水解縮合物的情況下，從能夠以高水平且再現(xiàn)性良好地制造具有所期望的性能的防眩膜的角度來看，優(yōu)選的是，將四烷氧基硅烷的溶液、或四烷氧基硅烷及其水解縮合物的混合物的溶液與鱗片狀顆粒(C1)的分散液混合后，在鱗片狀顆粒(C1)的存在下使四烷氧基硅烷進行水解、縮合。[涂布工序]前述涂料組合物在基材上的涂布通過使用具備靜電涂裝槍的靜電涂裝裝置使前述涂料組合物帶電并噴霧來進行，所述靜電涂裝槍具有旋轉(zhuǎn)霧化頭。由此，在基材上形成前述涂料組合物的涂膜。(靜電涂裝裝置)圖2是示出靜電涂裝裝置的一個例子的示意圖。靜電涂裝裝置10具備涂布室11、鏈?zhǔn)捷斔蜋C12、多個靜電涂裝槍17、高電壓產(chǎn)生裝置18以及排氣箱20。鏈?zhǔn)捷斔蜋C12貫穿涂布室11，沿規(guī)定方向輸送導(dǎo)電性基板21和在其上載置的基材3。多個靜電涂裝槍17在鏈?zhǔn)捷斔蜋C12的上方的涂布室11內(nèi)沿與基材3的輸送方向交叉的方向并排配置，分別與高電壓電纜13、涂料組合物的進料管線14、涂料組合物的回收管線15以及2系統(tǒng)的空氣的進氣管線16a、16b連接。高電壓產(chǎn)生裝置18通過高電壓電纜13與靜電涂裝槍17連接，并且接地。排氣箱20配置在靜電涂裝槍17和鏈?zhǔn)捷斔蜋C12的下方，連接有排氣管道19。靜電涂裝槍17固定于噴嘴設(shè)置框架(圖示略)。通過噴嘴設(shè)置框架，能夠調(diào)節(jié)從靜電涂裝槍17的噴嘴前端到基材3的距離、靜電涂裝槍相對于17基材3的角度、多個靜電涂裝槍17相對于基材3的輸送方向的排列方向等。由于對靜電涂裝槍17的噴嘴前端部和涂料組合物的進料管線14以及回收管線15施加高電壓，因此靜電涂裝槍17、進料管線14和回收管線15與由金屬形成的部分(例如噴嘴設(shè)置框架、涂布室11的側(cè)壁貫穿部分等金屬部分)的連接部分用樹脂等進行了絕緣處理。鏈?zhǔn)捷斔蜋C12由多個塑料鏈形成，多個塑料鏈的一部分為導(dǎo)電性塑料鏈。導(dǎo)電性塑料鏈通過嵌入塑料鏈的金屬鏈(圖示略)及其驅(qū)動電機(圖示略)的接地電纜(圖示略)接地。導(dǎo)電性基板21用于使載置于其上的基材3通過鏈?zhǔn)捷斔蜋C12的導(dǎo)電性塑料鏈、金屬鏈和驅(qū)動電機的接地電纜充分接地。通過使基材3充分接地，涂料組合物均勻地附著在基材3上。作為導(dǎo)電性基板21，從能夠抑制基材3的溫度降低且能夠使溫度分布均勻的方面出發(fā)，優(yōu)選金屬網(wǎng)托盤。(靜電涂裝槍)圖3是靜電涂裝槍17的剖視示意圖。圖4是從前方看靜電涂裝槍17的前視示意圖。靜電涂裝槍17具備槍主體30和旋轉(zhuǎn)霧化頭40。旋轉(zhuǎn)霧化頭40以軸線朝前后方向的方式配置在槍主體30的前端部。在靜電涂裝槍17中，通過對旋轉(zhuǎn)霧化頭40進行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，從而利用離心力使供給至旋轉(zhuǎn)霧化頭40的涂料組合物霧化并放出(即噴霧)。需要說明的是，在靜電涂裝槍17的說明中，前方、前端等中的“前”表示涂料組合物的噴霧方向，其相反方向為后方。圖2、3中的下方為靜電涂裝槍17中的前方。在槍主體30內(nèi)，在與旋轉(zhuǎn)霧化頭40的同軸上固定容納有涂料供給管31。在槍主體30內(nèi)設(shè)置有未圖示的空氣渦輪發(fā)動機，在該空氣渦輪發(fā)動機中設(shè)置有旋轉(zhuǎn)軸32。此外，空氣渦輪發(fā)動機與2系統(tǒng)的空氣的進氣管線16a、16b中的1系統(tǒng)(例如進氣管線16a)連接，能夠通過來自進氣管線16a的空氣壓力來控制旋轉(zhuǎn)軸32的轉(zhuǎn)速。旋轉(zhuǎn)軸32在與旋轉(zhuǎn)霧化頭40的同軸上以包圍涂料供給管31的方式配置。需要說明的是，雖然在此示出了使用空氣渦輪發(fā)動機作為旋轉(zhuǎn)軸32的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段的例子，但也可以使用除空氣渦輪發(fā)動機以外的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動手段。在槍主體30上形成有多個成形空氣(也稱為shapingair。)的吹出口33，多個吹出口33分別形成有用于供給成形空氣的供氣路徑35。此外，供氣路徑35與2系統(tǒng)的空氣的進氣管線16a、16b中的1系統(tǒng)(例如進氣管線16b)連接，能夠通過供氣路徑35向吹出口33供給空氣(成形空氣)。在靜電涂裝槍17的前視中，多個吹出口33以在將軸心作為中心的同心圓上等間距開口的方式形成。此外，在靜電涂裝槍17的側(cè)視中，多個吹出口33以朝靜電涂裝槍17的前方逐漸遠離軸心的方式形成。旋轉(zhuǎn)霧化頭40具備第1部件41和第2部件42。第1部件41和第2部件42分別為筒狀。第1部件41是如下部分形成為一體的部件：軸安裝部43、從軸安裝部43向前方延伸出的形態(tài)的保持部44、從保持部44向前方延伸出的形態(tài)的周壁45、從周壁45向前方延伸出的形態(tài)的擴徑部47、以及在周壁45與擴徑部47的邊界位置將第1部件41的中心孔前后劃分開的形態(tài)的前面壁49。保持部44將第2部件42相對于第1部件41保持為同軸狀。周壁45的內(nèi)周面形成為在旋轉(zhuǎn)霧化頭40的軸線方向的整個區(qū)域朝前方直徑逐漸擴大的錐形的引導(dǎo)面46。擴徑部47為朝前方直徑擴大成杯狀的形態(tài)，擴徑部47的前表面形成為朝前方直徑逐漸擴大的形態(tài)的擴散面48。在擴徑部47的擴散面48的外周緣48a，在整個圓周以大致等間距設(shè)置有多個用于涂料組合物的微?；奈⒓毜那锌?。在前面壁49形成有前后貫穿前面壁49的外周緣的形態(tài)的流出孔50。流出孔50呈圓形，沿周向形成有多個等角度間距。此外，流出孔50的貫穿方向與周壁45的引導(dǎo)面46的傾斜方向平行。前面壁49的后表面中的中央部分形成為向后方突出的圓錐狀。此外，在該中央部分形成有從前面壁49的前表面的中心部向后方延伸并在中途分成3支的、在圓錐狀部分的周面上開口的貫穿孔53。第2部件42是筒狀部51與后面壁52形成為一體的部件。后面壁52配置在筒狀部51的前端部。在后面壁52的中央形成有圓形的貫穿孔，且能夠插入涂料供給管31的前端部。在旋轉(zhuǎn)霧化頭40中，將由前面壁49、周壁45和后面壁52包圍的空間作為儲存腔S。該儲存腔S通過多個流出孔50與擴散面48連通。在靜電涂裝槍17中，涂料供給管31的前端部插入后面壁52的中央的貫穿孔，以使得涂料供給管31的前端的吐出口31a在儲存腔S內(nèi)開口。由此，能夠通過涂料供給管31將涂料組合物供給至儲存腔S內(nèi)。需要說明的是，靜電涂裝裝置和靜電涂裝槍不限定于圖示例。靜電涂裝裝置只要具備具有旋轉(zhuǎn)霧化頭的靜電涂裝槍，就可以采用公知的靜電涂裝裝置。靜電涂裝槍只要具備旋轉(zhuǎn)霧化頭，就可以采用公知的靜電涂裝槍。(涂布方法)在靜電涂裝裝置10中，如下所述地在基材3上涂布涂料組合物。將基材3設(shè)置在導(dǎo)電性基板21上。此外，通過高電壓產(chǎn)生裝置18對靜電涂裝槍17施加高電壓。同時，從涂料組合物的進料管線14將涂料組合物供給至靜電涂裝槍17，并且從2系統(tǒng)的空氣的進氣管線16a、16b分別將空氣供給至靜電涂裝槍17。從空氣的進氣管線16b供給的空氣向槍主體30內(nèi)的供氣路徑35供氣并作為成形空氣從吹出口33的開口吹出。從空氣的進氣管線16a供給的空氣驅(qū)動槍主體30內(nèi)的空氣渦輪發(fā)動機，使旋轉(zhuǎn)軸32旋轉(zhuǎn)。由此，從涂料組合物的進料管線14經(jīng)過涂料供給管31供給至儲存腔S內(nèi)的涂料組合物通過離心力而沿周壁45的引導(dǎo)面46向前方移動，經(jīng)過流出孔50供給至擴散面48。涂料組合物的一部分可以經(jīng)過中央部分的貫穿孔53供給至擴散面48。在此，由于周壁45的引導(dǎo)面46呈向流出孔50直徑擴大的錐形，因此儲存腔S內(nèi)的涂料組合物通過離心力可靠地到達流出孔50而不會殘留在儲存腔S內(nèi)。接著，供給至擴散面48的涂料組合物通過離心力一邊沿擴散面48擴散一邊向外周緣48a側(cè)移動，在擴散面48形成涂料組合物的液膜，在擴徑部47的擴散面48的外周緣48a被微?；?，形成液滴而呈輻射狀飛散。從旋轉(zhuǎn)霧化頭40飛散的涂料組合物的液滴通過成形空氣的流動被引導(dǎo)至基材3方向。此外，前述液滴帶負電荷，通過靜電吸引力被朝接地的基材3吸引。因此，高效附著在基材3的表面。未從靜電涂裝槍17噴霧的一部分涂料組合物經(jīng)過涂料組合物的回收管線15回收至涂料組合物罐(圖示略)。此外，從靜電涂裝槍17噴霧且未附著于基材3的一部分涂料組合物被排氣箱20吸引，經(jīng)排氣管道19回收。基材3的表面溫度優(yōu)選為15～50℃，更優(yōu)選為20～40℃。如果基材3的表面溫度為前述范圍的下限值以上，則涂料組合物的液態(tài)介質(zhì)(B)迅速蒸發(fā)，因此容易形成充分的凸凹。如果基材3的表面溫度為前述范圍的上限值以下，則基材3與防眩膜5的密合性變良好?；?的輸送速度優(yōu)選為0.6～20.0m/分鐘，更優(yōu)選為1.5～15.0m/分鐘。如果基材3的輸送速度為0.6m/分鐘以上，則生產(chǎn)率提高。如果基材3的輸送速度為20.0m/分鐘以下，則容易控制涂布在基材3上的涂料組合物的膜厚。基材3的輸送次數(shù)、即使基材3通過靜電涂裝槍17下方而涂布涂料組合物的次數(shù)可以根據(jù)所期望的霧度、光澤度等而適當(dāng)設(shè)定。在防眩性方面，優(yōu)選為1次以上，更優(yōu)選為2次以上。在生產(chǎn)率方面，優(yōu)選為6次以下，更優(yōu)選為5次以下。從靜電涂裝槍17的噴嘴前端(即涂料組合物的噴霧方向上的旋轉(zhuǎn)霧化頭40的前端)到基材3的距離可根據(jù)基材3的寬度、涂布在基材3上的涂料組合物的膜厚等來適當(dāng)調(diào)節(jié)，通常為150～450mm。如果縮近到基材3的距離，涂布效率會提高，但如果過度接近，則引起放電的可能性提高，會產(chǎn)生安全上的問題。而隨著到基材3的距離遠離，涂布區(qū)域會擴大，但如果過度遠離，則涂布效率的降低會成為問題。施加于靜電涂裝槍17的電壓可根據(jù)涂布在基材3上的涂料組合物的涂布量等來適當(dāng)調(diào)節(jié)，通常為-30kV～-90kV的范圍。電壓的絕對值較大時，存在涂附效率提高的傾向。需要說明的是，雖然還取決于液體特性、涂布環(huán)境和涂布條件，但如果施加電壓高達一定程度，則涂布效率達到飽和。涂料組合物向靜電涂裝槍17的供給量(以下也稱為涂布液量。)可根據(jù)涂布在基材3上的涂料組合物的涂布量等來適當(dāng)調(diào)節(jié)，通常為30～200mL/分鐘。如果涂布液量過少，則存在產(chǎn)生膜開裂之虞。最大的涂布液量可以根據(jù)涂布膜厚、涂布速度、液體特性等來選擇最佳值。從2系統(tǒng)的空氣的進氣管線16a、16b分別供給至靜電涂裝槍17的空氣的壓力可根據(jù)涂布在基材3上的涂料組合物的涂布量等來適當(dāng)調(diào)節(jié)，通常為0.01MPa～0.5MPa。通過從2系統(tǒng)的空氣的進氣管線16a、16b分別供給至靜電涂裝槍17的空氣壓力，能夠控制涂料組合物的涂布圖案。涂料組合物的涂布圖案表示通過從靜電涂裝槍17噴霧的涂料組合物的液滴在基材上形成的圖案。如果提高供給至靜電涂裝槍17內(nèi)的空氣渦輪發(fā)動機的空氣的空氣壓力，則旋轉(zhuǎn)軸32的旋轉(zhuǎn)速度上升，旋轉(zhuǎn)霧化頭40的旋轉(zhuǎn)速度上升，從而顯示出從旋轉(zhuǎn)霧化頭40飛散的液滴的大小變小、涂布圖案增大的傾向。如果提高供給至靜電涂裝槍17內(nèi)的供氣路徑35的空氣的空氣壓力、提高從吹出口33吹出的空氣(成形空氣)的空氣壓力，則顯示出從旋轉(zhuǎn)霧化頭40飛散的液滴的擴散受到抑制、涂布圖案變小的傾向。供給至空氣渦輪發(fā)動機的空氣的空氣壓力優(yōu)選設(shè)定為旋轉(zhuǎn)霧化頭40的旋轉(zhuǎn)速度(以下也稱為杯轉(zhuǎn)速。)在5000～80000rpm的范圍內(nèi)的壓力。杯轉(zhuǎn)速更優(yōu)選為7000～70000rpm，特別優(yōu)選為10000～50000rpm。如果杯轉(zhuǎn)速為前述范圍的下限值以上，則表面凹凸形成能力優(yōu)異。如果杯轉(zhuǎn)速為前述范圍的上限值以下，則涂附效率優(yōu)異。杯轉(zhuǎn)速可以通過靜電涂裝裝置10附帶的測量器(圖示略)進行測定。供給至供氣路徑35的空氣的空氣壓力優(yōu)選設(shè)定為成形空氣的空氣壓力(以下也稱為成形壓力。)在0.01～0.3MPa的范圍內(nèi)的壓力。成形壓力更優(yōu)選為0.01～0.25MPa，特別優(yōu)選為0.01～0.2MPa。如果成形壓力為前述范圍的下限值以上，則由液滴的飛散防止效果提高帶來的涂附效率提高優(yōu)異。如果成形壓力為前述范圍的上限值以下，則能夠確保涂布寬度。[煅燒工序]煅燒工序中，對涂布工序中形成在基材上的涂料組合物的涂膜進行煅燒制成防眩膜。煅燒可以通過在將涂料組合物涂布于基材時加熱基材，從而與涂布同時進行，也可以在將涂料組合物涂布于基材后通過加熱涂膜來進行。煅燒溫度優(yōu)選為30℃以上，例如在基材為玻璃的情況下更優(yōu)選為100～750℃，進一步優(yōu)選為150～550℃。[作用效果]以上說明的本發(fā)明的帶防眩膜的基材的制造方法中，作為用具備旋轉(zhuǎn)霧化頭的靜電涂裝槍進行噴霧的涂料組合物，通過使用含有二氧化硅前體(A)和顆粒(C)中的至少一者以及液態(tài)介質(zhì)(B)，且液態(tài)介質(zhì)(B)相對于液態(tài)介質(zhì)(B)的總量含有86質(zhì)量％以上的沸點150℃以下的液態(tài)介質(zhì)(B1)的涂料組合物，能夠形成防眩膜。認為這是由于，涂料組合物的液滴附著在基材上后液態(tài)介質(zhì)(B1)迅速揮發(fā)，由此液滴不容易在基板上擴散，在充分保持附著時的形狀的狀態(tài)下成膜(即液態(tài)介質(zhì)(B)整體被去除。此外，在含有二氧化硅前體(A)的情況下二氧化硅前體(A)成為基體。)。此外，本發(fā)明的帶防眩膜的基材的制造方法由于使用具備旋轉(zhuǎn)霧化頭的靜電涂裝槍，因此涂布圖案的尺寸(例如寬度)大。例如在防眩膜的形成中迄今通用的使用2流體噴霧噴嘴的噴霧法的涂布圖案的寬度最大為7mm左右。與此相對，使用具備旋轉(zhuǎn)霧化頭的靜電涂裝槍的情況下，能夠使涂布圖案的寬度例如為350mm。此外，由于從前述靜電涂裝槍噴霧的涂料組合物的液滴帶負電荷，因此通過靜電吸引力被朝接地的基材吸引。因此，與不帶電并噴霧的情況相比，會高效附著在基材上。因此，本發(fā)明的帶防眩膜的基材的制造方法在形成任意的霧度、60°鏡面光澤度的防眩膜時，能夠減少所需的涂布次數(shù)、涂料組合物的涂布量。此外，比較通過本發(fā)明的帶防眩膜的基材的制造方法得到帶防眩膜的基材的防眩性能與使用2流體噴霧噴嘴形成的帶防眩膜的基材的防眩性能時，即使霧度、60°鏡面光澤度同等，通過本發(fā)明的帶防眩膜的基材的制造方法得到的帶防眩膜的基材更能夠防止外部光線、屋內(nèi)照明等映入顯示面、由反射圖像導(dǎo)致視覺辨識性降低，存在防眩性能高的傾向。認為這是由防眩膜的凹凸形狀的差異帶來的。即，根據(jù)本發(fā)明人等的研究，使用2流體噴霧噴嘴的噴霧法由于液滴被摔打在基材上，因此在涂料組合物到達基材時液滴形成皇冠狀。與此同時，液態(tài)介質(zhì)揮發(fā)，形成皇冠狀的凹凸。而使用具備旋轉(zhuǎn)霧化頭的靜電涂裝槍的情況下，由于液滴較緩和地落在基板上，因此在到達基材時液滴形成圓頂狀。與此同時，液態(tài)介質(zhì)揮發(fā)，形成圓頂狀的凹凸。認為這種形狀的差異的產(chǎn)生影響了防眩性能。[用途]作為本發(fā)明的帶防眩膜的基材的用途，沒有特別限定。作為具體例子，可列舉出：車輛用透明部件(前燈罩、側(cè)后視鏡、前擋透明基板、側(cè)車窗透明基板、后車窗透明基板、儀表板表面等。)、儀表、建筑窗戶、櫥窗、顯示器(筆記本型個人計算機、監(jiān)視器、LCD、PDP、ELD、CRT、PDA等)、LCD濾色器、觸摸屏用基板、拾取透鏡、光學(xué)透鏡、眼鏡鏡片、照像機部件、攝像機部件、CCD用罩基板、光纖端面、投影儀部件、復(fù)印機部件、太陽能電池用透明基板(蓋板玻璃等。)、手機屏幕、背光單元部件(導(dǎo)光板、冷陰極管等。)、背光單元部件液晶亮度提高薄膜(棱鏡、半透過薄膜等。)、液晶增亮膜、有機EL發(fā)光元件部件、無機EL發(fā)光元件部件、熒光體發(fā)光元件部件、濾光器、光學(xué)部件的端面、照明燈、照明器具的罩、增幅激光光源、防反射薄膜、偏光薄膜、農(nóng)業(yè)用薄膜等。<物品>本發(fā)明的物品具備前述帶防眩膜的基材。本發(fā)明的物品可以是由前述帶防眩膜的基材形成的物品，也可以是還具備除前述帶防眩膜的基材以外的其他構(gòu)件的物品。作為本發(fā)明的物品的例子，可列舉出：前述作為帶防眩膜的基材的用途列舉的物品、具備其中的任1種以上的裝置等。作為裝置，例如可列舉出：圖像顯示裝置、照明裝置、太陽能電池模塊等。本發(fā)明的物品在霧度、光澤度、防眩性等光學(xué)特性方面優(yōu)選為圖像顯示裝置。本發(fā)明的物品為圖像顯示裝置的情況下，該圖像顯示裝置具備顯示圖像的圖像顯示裝置主體以及設(shè)置在圖像顯示裝置主體的視覺辨識側(cè)的本發(fā)明的帶防眩膜的基材。作為圖像顯示裝置主體，可列舉出：液晶面板、有機EL(電致發(fā)光)面板、等離子體顯示器面板等。帶防眩膜的基材可以作為圖像顯示裝置主體的保護板與圖像顯示裝置主體設(shè)置成一體，也可以作為各種濾光片設(shè)置在圖像顯示裝置主體的視覺辨識側(cè)。以上說明的圖像顯示裝置由于具有優(yōu)異的防眩性能的本發(fā)明的帶防眩膜的基材設(shè)置在圖像顯示裝置主體的視覺辨識側(cè)，因此視覺辨識性良好。<鱗片狀二氧化硅顆粒的制造方法(P)>制造方法(P)包括在pH2以下對含有鱗片狀二氧化硅顆粒聚集而得到的二氧化硅聚集體的二氧化硅粉體進行酸處理的工序、在pH8以上對經(jīng)酸處理的二氧化硅粉體進行堿處理從而使將二氧化硅聚集體發(fā)生膠溶的工序、以及對經(jīng)堿處理的二氧化硅粉體進行濕式破碎得到鱗片狀二氧化硅顆粒的工序。作為二氧化硅聚集體，可以使用所謂的層狀聚硅酸和/或其鹽。層狀聚硅酸是基本構(gòu)成單元由SiO4四面體形成的硅酸鹽層結(jié)構(gòu)的聚硅酸。作為層狀聚硅酸和/或其鹽，例如可列舉出：二氧化硅-X(SiO2-X)、二氧化硅-Y(SiO2-Y)、水羥硅鈉石(kenyaite)、麥羥硅鈉石(magadiite)、馬水硅鈉石(makatite)、伊利石(ilerite)、水硅鈉石(kanemite)、八面體硅酸鹽(octosilicate)等，優(yōu)選二氧化硅-X或二氧化硅-Y。二氧化硅-X和二氧化硅-Y在對二氧化硅原料進行水熱處理形成方石英、石英(quartz)的過程中生成的中間相或亞穩(wěn)態(tài)的相，具有也應(yīng)稱為二氧化硅的次結(jié)晶的微弱的晶體相。二氧化硅-X和二氧化硅-Y的X射線衍射圖案不同，但用電子顯微鏡觀察到的顆粒外觀極為相似，均可以優(yōu)選用于得到鱗片狀二氧化硅顆粒。二氧化硅-X的X射線衍射的光譜以符合在美國的ASTM(AmericanSocietyforTestingandMaterials，美國測試和材料協(xié)會)注冊的卡(以下簡稱為ASTM卡。)編號16-0380的2θ＝4.9°、26.0°和28.3°的主峰為特征。二氧化硅-Y的X射線衍射的光譜以符合ASTM卡編號31-1233的2θ＝5.6°、25.8°和28.3°的主峰為特征。作為二氧化硅聚集體的X射線衍射的光譜，優(yōu)選以二氧化硅-X和/或二氧化硅-Y的主峰為特征?！岸趸璺垠w的形成”作為含有二氧化硅聚集體的二氧化硅粉體的形成方法，可列舉出：在堿金屬鹽的存在下對作為起始原料的二氧化硅水凝膠、二氧化硅溶膠和含水硅酸中的1種以上進行水熱處理的方法。需要說明的是，二氧化硅粉體不限定于用該方法形成的二氧化硅粉體，用任意的方法形成的二氧化硅粉體均包括在內(nèi)。起始原料為二氧化硅水凝膠的情況：通過使用二氧化硅水凝膠作為起始原料，可以以低溫度、短時間的反應(yīng)并且以高收率形成作為二氧化硅聚集體的二氧化硅-X、二氧化硅-Y等而不生成石英等晶體。作為二氧化硅水凝膠，優(yōu)選顆粒狀二氧化硅水凝膠。二氧化硅水凝膠的顆粒形狀可以是球狀，也可以是不定形粒狀。二氧化硅水凝膠的造粒方法可以適當(dāng)選擇。作為球狀的二氧化硅水凝膠的造粒方法，例如可列舉出：(i)使二氧化硅水溶膠在石油類等液態(tài)介質(zhì)中固化成球狀的方法、(ii)將硅酸堿金屬水溶液與無機酸水溶液混合、以短時間生成二氧化硅溶膠并且將其放出到氣體介質(zhì)中、在氣體中使其凝膠化的方法，優(yōu)選(ii)的方法。作為無機酸水溶液，可列舉出：硫酸水溶液、鹽酸、硝酸水溶液等。(ii)的方法的具體例子如下。將硅酸堿金屬水溶液和無機酸水溶液從不同的導(dǎo)入口導(dǎo)入到具備放出口的容器內(nèi)瞬間混合均勻，生成按SiO2濃度換算為130g/L以上、pH7～9的二氧化硅溶膠。將該二氧化硅溶膠從放出口放出到空氣等氣體介質(zhì)中，使其在空中凝膠化。使凝膠化的物質(zhì)落入盛有水的熟化槽中熟化數(shù)分鐘～數(shù)十分鐘，添加酸，水洗得到球狀的二氧化硅水凝膠。得到的二氧化硅水凝膠是粒徑高度一致的平均粒徑2～10mm左右的透明且具有彈性的球狀顆粒，也有相對于SiO2按質(zhì)量比計含有約4倍的水的情況。二氧化硅水凝膠中的SiO2濃度優(yōu)選為15～75質(zhì)量％。起始原料為二氧化硅溶膠的情況下：作為二氧化硅溶膠，優(yōu)選使用含有特定量的二氧化硅和堿金屬的二氧化硅溶膠。作為二氧化硅溶膠，可適宜地使用對二氧化硅(SiO2換算)與堿金屬(Me2O換算。其中，Me為Li、Na、K等堿金屬。下同。)的摩爾比(SiO2/Me2O)為1.0～3.4的硅酸堿金屬鹽水溶液通過離子交換樹脂法、電氣透析法等進行了脫堿的二氧化硅溶膠。該二氧化硅溶膠的SiO2/Me2O優(yōu)選為3.5～20，更優(yōu)選為4.5～18。作為硅酸堿金屬鹽水溶液，優(yōu)選將水玻璃(即硅酸鈉水溶液)適當(dāng)用水稀釋得到的水溶液等。二氧化硅溶膠中的SiO2濃度優(yōu)選為2～20質(zhì)量％，更優(yōu)選為3～15質(zhì)量％。二氧化硅溶膠中的二氧化硅的平均粒徑優(yōu)選為1～100nm。如果平均粒徑為100nm以下，則二氧化硅溶膠的穩(wěn)定性變良好。作為二氧化硅溶膠，特別優(yōu)選被稱為活性硅酸的平均粒徑1～20nm以下的二氧化硅溶膠。起始原料為含水硅酸的情況下：使用含水硅酸作為起始原料的情況下，可以用與二氧化硅溶膠同樣的方法形成含有二氧化硅聚集體的二氧化硅粉體。水熱處理：通過在堿金屬鹽的存在下將二氧化硅水凝膠、二氧化硅溶膠和含水硅酸的二氧化硅源中的1種以上在高壓釜等加熱壓力容器中加熱進行水熱處理，可以形成含有二氧化硅聚集體的二氧化硅粉體。由于對二氧化硅源進行水熱處理，在投加至高壓釜之前，進一步加入蒸餾水、離子交換水等純化水，可以將二氧化硅濃度調(diào)節(jié)至所期望的范圍。使用球狀的二氧化硅水凝膠的情況下，可以直接使用，也可以粉碎或粗粉碎使平均粒徑為0.1～6mm左右。對高壓釜的形式?jīng)]有特別限定。高壓釜為至少具備加熱手段、攪拌手段、和優(yōu)選的溫度測定手段的裝置即可。高壓釜內(nèi)的處理液中的總SiO2濃度考慮攪拌效率、晶體生長速度、收率等來選擇，通常按全部投加原料基準(zhǔn)計優(yōu)選為1～30質(zhì)量％，更優(yōu)選為10～20質(zhì)量％。處理液中的總SiO2濃度是體系內(nèi)的總SiO2濃度，在不僅使用二氧化硅源中的SiO2還使用硅酸鈉等作為堿金屬鹽的情況下，是加上了通過硅酸鈉等帶入體系的SiO2的值。在水熱處理中，通過使二氧化硅源與堿金屬鹽共存，從而將處理液的pH調(diào)節(jié)至堿性側(cè)，適度增大二氧化硅溶解度，提高基于所謂的Ostwald熟化的晶析速度，可以促進二氧化硅水凝膠向二氧化硅-X和/或二氧化硅-Y的轉(zhuǎn)換。作為堿金屬鹽，可列舉出：氫氧化堿金屬、硅酸堿金屬鹽、碳酸堿金屬鹽等、或它們的組合。作為堿金屬，可列舉出：Li、Na、K等、或它們的組合。實施水熱處理的處理液的體系的pH優(yōu)選為7以上，更優(yōu)選為8～13，進一步優(yōu)選為9～12.5。體系內(nèi)的總SiO2與堿金屬(Me2O換算)的摩爾比(SiO2/Me2O)優(yōu)選為4～15，更優(yōu)選為7～13。二氧化硅溶膠或含水硅酸的水熱處理從增大反應(yīng)速度且減小結(jié)晶進行的角度來看，優(yōu)選在150～250℃下進行，更優(yōu)選在170～220℃下進行。二氧化硅溶膠或含水硅酸的水熱處理的時間可以根據(jù)水熱處理的溫度、有無添加晶種等而變化，優(yōu)選為3～50小時，更優(yōu)選為3～40小時，進一步優(yōu)選為5～25小時。二氧化硅水凝膠的水熱處理優(yōu)選在150～220℃下進行，更優(yōu)選在160～200℃下進行，進一步優(yōu)選在170～195℃下進行。二氧化硅水凝膠的水熱處理的時間可以根據(jù)水熱處理的溫度、有無添加晶種等而變化，優(yōu)選為3～50小時，更優(yōu)選為5～40小時，進一步優(yōu)選為5～25小時，特別優(yōu)選為5～12小時。要想高效進行水熱處理、縮短處理時間，優(yōu)選相對于二氧化硅源的投加量(SiO2換算)添加0.001～1質(zhì)量％左右的晶種(SiO2換算)。作為晶種，可以直接使用或適當(dāng)粉碎使用二氧化硅-X、二氧化硅-Y等。水熱處理結(jié)束后，將產(chǎn)物從高壓釜取出，過濾、水洗。水洗處理后的顆粒在制成10質(zhì)量％的水漿料時的pH優(yōu)選為5～9，更優(yōu)選為6～8?！岸趸璺垠w”所得二氧化硅粉體的平均粒徑優(yōu)選為7～25μm，更優(yōu)選為7～11μm。在二氧化硅粉體中含有鱗片狀二氧化硅顆粒聚集得到的二氧化硅聚集體。二氧化硅聚集體是鱗片狀二氧化硅顆粒聚集并不規(guī)則地重合形成的具有間隙的聚集體形狀的二氧化硅3次顆粒。二氧化硅聚集體可以使用掃描型電子顯微鏡(以下也記為SEM。)確認二氧化硅粉體。SEM無法識別薄片狀的二氧化硅1次顆粒，能夠識別二氧化硅1次顆粒彼此面間平行地取向、重疊多個形成的鱗片狀的二氧化硅2次顆粒。而TEM能夠識別電子射線的一部分可透過的屬于極薄片顆粒的二氧化硅1次顆粒。此外，能夠識別二氧化硅1次顆粒相互面間平行地取向、重疊多個形成的二氧化硅2次顆粒。二氧化硅1次顆粒和二氧化硅2次顆粒為鱗片狀二氧化硅顆粒。從鱗片狀的二氧化硅2次顆粒逐個剝離、分離作為其構(gòu)成單元的薄片狀的二氧化硅1次顆粒被認為是困難的。即，在薄片狀的二氧化硅1次顆粒的層狀的層疊中，各層間的結(jié)合牢固且發(fā)生了融合一體化。因此，將鱗片狀的二氧化硅2次顆粒進一步破碎成二氧化硅1次顆粒被認為是困難的。根據(jù)制造方法(P)，能夠從二氧化硅聚集體進行微細化至鱗片狀的二氧化硅2次顆粒，還能進一步進行微細化至薄片狀的二氧化硅1次顆粒?！八崽幚怼弊鳛樗崽幚淼姆椒ǎ闪信e出：在含有二氧化硅粉體的分散體(漿料狀的分散體也包括在內(nèi)。)(以下也記為二氧化硅分散體。)中添加酸性液使體系的pH為2以下，邊任意攪拌邊處理的方法。通過在pH2以下對含有二氧化硅聚集體的二氧化硅粉體進行酸處理，能夠在后續(xù)工序的堿處理中促進二氧化硅聚集體的膠溶，能夠在濕式破碎工序后抑制不定形二氧化硅顆粒的產(chǎn)生。此外，通過進行酸處理，能夠去除二氧化硅粉體中含有的堿金屬鹽。通過水熱處理形成二氧化硅粉體的情況下，在水熱處理中添加了堿金屬鹽。酸處理的pH為2以下即可，優(yōu)選為1.9以下。通過預(yù)先用低的pH進行酸處理，在后續(xù)工序的堿處理和濕式破碎工序中變得更容易對二氧化硅聚集體進行膠溶和破碎。為了充分進行處理，酸處理優(yōu)選在室溫下進行8小時以上。作為酸性液，可以使用硫酸水溶液、鹽酸、硝酸水溶液等無機酸水溶液。無機酸的濃度優(yōu)選為1～37質(zhì)量％。二氧化硅分散體中的SiO2濃度優(yōu)選為5～15質(zhì)量％。二氧化硅分散體的pH優(yōu)選為10～12。二氧化硅分散體與酸性液的配混比例調(diào)節(jié)至pH為2以下即可，沒有特別限制。對二氧化硅分散體進行酸處理后，優(yōu)選對二氧化硅粉體進行清洗。通過清洗，能夠去除在水熱處理中混入的堿金屬鹽或源于其的產(chǎn)物。作為清洗方法，可列舉出：在對二氧化硅分散體進行過濾或離心分離時水洗的方法。清洗后的二氧化硅分散體可以添加水或濃縮來調(diào)節(jié)固體成分濃度。在清洗后作為二氧化硅濾餅回收的情況下，可以添加水制成二氧化硅分散體。清洗后的二氧化硅分散體的pH優(yōu)選為4～6。“鋁酸處理”對于酸處理后的二氧化硅粉體，可以任選實施鋁酸處理。通過鋁酸處理，可以在二氧化硅粉體中的二氧化硅顆粒的表面導(dǎo)入鋁(Al)、進行表面改性使其帶負電。帶負電的二氧化硅粉體能夠提高相對于酸性介質(zhì)的分散性。作為鋁酸處理的方法，可列舉出：在二氧化硅分散體中添加鋁酸鹽的水溶液，任意攪拌混合，然后，進行加熱處理在二氧化硅顆粒的表面導(dǎo)入Al的方法。混合優(yōu)選在10～30℃下進行0.5～2小時。加熱處理優(yōu)選在加熱回流條件下進行，優(yōu)選在80～110℃下進行4小時以上。作為鋁酸鹽，可列舉出：鋁酸鈉、鋁酸鉀等、它們的組合，優(yōu)選鋁酸鈉。鋁酸鹽(Al2O3換算)與二氧化硅粉體(SiO2換算)的摩爾比(Al2O3/SiO2)優(yōu)選為0.00040～0.00160。鋁酸鹽的水溶液的濃度優(yōu)選為1～3質(zhì)量％。鋁酸鹽的水溶液的添加量相對于二氧化硅分散體中的SiO2100質(zhì)量份優(yōu)選為5.8～80.0質(zhì)量份。二氧化硅分散體中的SiO2濃度優(yōu)選為5～20質(zhì)量％。二氧化硅分散體的pH優(yōu)選為6～8。鋁酸處理后的二氧化硅分散體可以添加水或濃縮來調(diào)節(jié)固體成分量。鋁酸處理后的二氧化硅分散體的pH優(yōu)選為6～8?！皦A處理”對經(jīng)酸處理、視需要經(jīng)鋁酸處理后的二氧化硅粉體在pH8以上進行堿處理，使二氧化硅聚集體發(fā)生膠溶。通過堿處理，能夠使二氧化硅聚集體的牢固結(jié)合發(fā)生膠溶，接近單個的鱗片狀二氧化硅顆粒的形態(tài)。使二氧化硅聚集體發(fā)生膠溶是指對二氧化硅聚集體賦予電荷，將單個的二氧化硅顆粒分散在介質(zhì)中。通過堿處理，二氧化硅粉體中含有的二氧化硅顆?？梢允菐缀跞苛勘荒z溶成單個的鱗片狀二氧化硅顆粒，也可以是僅其一部分被膠溶而殘留有聚集體。此外，二氧化硅分散體中含有的二氧化硅聚集體可以是所有部分被膠溶成單個的鱗片狀二氧化硅顆粒，也可以是僅其一部分被膠溶而殘留有聚集體部分。殘留的聚集體可以在后續(xù)工序的濕式破碎工序中破碎成單個的鱗片狀二氧化硅顆粒。堿處理的pH為8以上即可，優(yōu)選為8.5以上，更優(yōu)選為9以上。如果堿處理的pH為8以上，則能夠促進二氧化硅粉體中含有的二氧化硅聚集體的膠溶。此外，即使在堿處理后二氧化硅聚集體殘留，也能夠削弱二氧化硅聚集體的鱗片狀二氧化硅顆粒的結(jié)合，容易在后續(xù)工序的濕式破碎工序中破碎成單個的鱗片狀二氧化硅顆粒。作為堿處理的方法，可列舉出：在二氧化硅分散體中添加堿性液使pH為8以上，邊任意攪拌邊處理的方法?？梢源鎵A性液分別添加堿金屬鹽和水。堿處理優(yōu)選在10～50℃下進行1～48小時，更優(yōu)選進行2～24小時。作為堿金屬鹽，可列舉出：鋰(Li)、鈉(Na)、鉀(K)等堿金屬的氫氧化物、碳酸鹽等、它們的組合。作為堿性液，可以使用含有堿金屬鹽的水溶液。此外，作為堿性液，可以使用氨水(NH4+OH-)。二氧化硅分散體中的堿金屬鹽的濃度(堿金屬鹽的質(zhì)量/二氧化硅分散體中的水與堿金屬鹽的總質(zhì)量×100)優(yōu)選為0.01～28質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.04～5質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為0.1～2.5質(zhì)量％。堿金屬鹽的量相對于二氧化硅分散體中的SiO21g，優(yōu)選為0.4～2.5毫摩爾，更優(yōu)選為0.5～2毫摩爾。二氧化硅分散體中的SiO2濃度優(yōu)選為3～7質(zhì)量％。二氧化硅分散體的pH優(yōu)選為8～11。對于二氧化硅分散體與堿性液的配混比例，調(diào)節(jié)至pH為8以上即可，沒有特別限制。堿處理后的二氧化硅分散體中含有的二氧化硅粉體的平均粒徑優(yōu)選為3～10μm，更優(yōu)選為4～8.5μm。堿處理后的二氧化硅分散體可以添加水或濃縮來調(diào)節(jié)固體成分量。堿處理后的二氧化硅分散體的pH優(yōu)選為8.0～12.5。“濕式破碎”對經(jīng)堿處理的二氧化硅粉體進行濕式破碎，得到鱗片狀二氧化硅顆粒。在經(jīng)堿處理的二氧化硅粉體中，含有二氧化硅聚集體被膠溶而殘留的一部分二氧化硅聚集體以及二氧化硅聚集體在被一定程度微粒化的狀態(tài)的不定形二氧化硅顆粒。通過對其進行濕式破碎，將不定形二氧化硅顆粒進一步破碎，可以得到單個的鱗片狀二氧化硅顆粒。通過預(yù)先進行堿處理，能夠在濕式破碎中促進無定形二氧化硅顆粒的破碎。因此，能夠抑制未充分破碎而殘留無定形二氧化硅顆粒的量。作為用于進行濕式破碎的裝置，可列舉出：使用粉碎介質(zhì)以機械方式進行高速攪拌的方式的濕式珠磨機、濕式球磨機、薄膜旋轉(zhuǎn)型高速攪拌機、沖擊粉碎裝置(納米均質(zhì)機等)等濕式粉碎裝置(破碎裝置)等。特別是在濕式珠磨機中，如果使用直徑0.2～1mm的氧化鋁、氧化鋯等的介質(zhì)珠，能夠以盡可能不粉碎、破壞鱗片狀二氧化硅顆粒的基本層疊結(jié)構(gòu)的方式進行破碎、分散化，故優(yōu)選。沖擊粉碎裝置通過使用向80～1000μm的細管中加壓投入含有粉體的分散體、使分散體中的顆粒彼此碰撞來分散的沖擊粉碎裝置，能夠?qū)㈩w粒破碎得更微細。進行濕式粉碎的二氧化硅粉體優(yōu)選以蒸餾水、離子交換水等純化水等作為分散體制成合適的濃度來供給到濕式粉碎裝置中。分散體中的SiO2濃度優(yōu)選為0.1～20質(zhì)量％，考慮到破碎效率、受粘度上升影響的作業(yè)效率，更優(yōu)選為0.1～15質(zhì)量％?！瓣栯x子交換處理”濕式破碎后的二氧化硅粉體可以任選進行陽離子交換處理。通過陽離子交換處理，能夠去除二氧化硅粉體中含有的陽離子、特別是金屬離子。作為陽離子交換處理的方法，可列舉出：在含有二氧化硅粉體的二氧化硅分散體中添加陽離子交換樹脂、邊任意攪拌邊處理的方法。陽離子交換處理優(yōu)選在10～50℃下進行0.5～24小時。作為陽離子交換樹脂的樹脂母體，可列舉出：苯乙烯-二乙烯基苯等苯乙烯類樹脂、(甲基)丙烯酸類樹脂等。作為陽離子交換樹脂，優(yōu)選氫型(H型)陽離子交換樹脂，例如可列舉出：具有磺酸基、羧基或磷酸基等的陽離子交換樹脂。陽離子交換樹脂的量相對于二氧化硅分散體中的SiO2100質(zhì)量份優(yōu)選為3～20質(zhì)量份。二氧化硅分散體中的SiO2濃度優(yōu)選為3～20質(zhì)量％。二氧化硅分散體的pH優(yōu)選為4以下。實施例以下給出實施例對本發(fā)明進行詳細說明。不過，本發(fā)明并不受以下記載的限定。后述的例1～14中，例1～8、10為實施例，例9、11～14為比較例。以下示出各例中使用的評價方法和材料。<評價方法>(算術(shù)平均粗糙度Ra、最大高度粗糙度Rz)防眩膜的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra和最大高度粗糙度Rz分別使用表面粗糙度儀(株式會社東京精密制造、SURFCOM(注冊商標(biāo))1500DX)通過JISB0601：2001中記載的方法進行測定。粗糙度曲線用的基準(zhǔn)長度lr(截斷值λc)設(shè)為0.08mm。(霧度)帶防眩層的基材的霧度按JISK7136：2000中規(guī)定的方法使用霧度儀(株式會社村上色彩研究所制造、HR-100型)在防眩層的大致中央部進行測定。(光澤度)作為防眩層的表面的光澤度，測定60°鏡面光澤度。60°鏡面光澤度按JISZ8741：1997的60°鏡面光澤度中規(guī)定的方法，使用光澤度儀(柯尼卡美能達公司制造、MULTIGLOSS268Plus)不消除帶防眩層的基材的背面反射，在防眩層的大致中央部進行測定。(防眩性)將帶防眩層的基材以防眩層側(cè)朝上的方式放在設(shè)置于熒光燈下的臺上，通過目視觀察熒光燈對帶防眩層的基材的映入，按下述標(biāo)準(zhǔn)判定防眩性。◎：觀察不到熒光燈的輪廓?！穑簶O輕微地觀察到熒光燈的輪廓?！鳎嚎捎^察到熒光燈的輪廓但在允許范圍內(nèi)?！粒呵宄赜^察到熒光燈的輪廓?！痢粒悍浅Ｇ宄赜^察到熒光燈的輪廓。<使用材料>(鱗片狀二氧化硅顆粒分散液(a)的制造)“二氧化硅粉體的形成”將硅酸鈉水溶液(SiO2/Na2O＝3.0(摩爾比)、SiO2濃度：21.0質(zhì)量％)2000mL/分鐘和硫酸水溶液(硫酸濃度：20.0質(zhì)量％)從不同的導(dǎo)入口導(dǎo)入到具備放出口的容器內(nèi)瞬間混合均勻，生成二氧化硅溶膠。2種液體的流量比調(diào)節(jié)成從放出口釋放到空中的二氧化硅溶膠的pH為7.5～8.0。將二氧化硅溶膠從放出口連續(xù)釋放到空氣中。二氧化硅溶膠在空氣中形成球形液滴，在畫出拋物線于空中停留約1秒鐘的期間在空中凝膠化。使凝膠化的二氧化硅溶膠落入盛有水的熟化槽中進行熟化。熟化后，將pH調(diào)節(jié)至6，進一步充分水洗，得到二氧化硅水凝膠。所得二氧化硅水凝膠為球狀顆粒，平均粒徑為6mm。二氧化硅水凝膠中水相對于SiO2的質(zhì)量比為4.55倍。使用雙輥破碎機對二氧化硅水凝膠進行粗粉碎至平均粒徑2.5mm。向容量17m3的高壓釜(帶錨式攪拌葉片)中，以體系內(nèi)的總SiO2/Na2O為12.0(摩爾比)的方式投加二氧化硅水凝膠(SiO2濃度：18質(zhì)量％)7249kg和硅酸鈉水溶液(SiO2濃度：29.00質(zhì)量％、Na2O濃度：9.42質(zhì)量％、SiO2/Na2O＝3.18(摩爾比))1500kg，向其中加入水1560kg，邊以10rpm攪拌邊加入飽和壓力1.67MPa的高壓水蒸氣4682kg，升溫至185℃，進行5小時水熱處理。體系內(nèi)的總SiO2濃度為12.5質(zhì)量％。對所得二氧化硅分散體進行過濾、清洗，取出二氧化硅粉體，使用TEM觀察。確認到二氧化硅粉體中含有二氧化硅聚集體。利用激光衍射/散射式粒徑分布測定裝置(株式會社堀場制作所制造、LA-950、下同。)測得的二氧化硅粉體的平均粒徑為8.33μm?！八崽幚怼边呌脭嚢杵鲾嚢韬卸趸璺垠w的二氧化硅分散體(通過紅外線水分儀測得的固體成分濃度：13.3質(zhì)量％、pH：11.4)10100g邊加入硫酸水溶液(硫酸濃度：20質(zhì)量％)1083g。添加后的pH為1.5。在該狀態(tài)下在室溫下繼續(xù)攪拌18小時進行處理。過濾酸處理后的二氧化硅分散體，相對于1g的SiO2，用50mL的水進行清洗?；厥涨逑春蟮亩趸铻V餅，加入水制得漿料狀的二氧化硅分散體。用紅外線水分儀測得的二氧化硅分散體的固體成分濃度為14.7質(zhì)量％，pH為4.8?！颁X酸處理”將酸處理后的二氧化硅分散體7000g裝入10L的燒瓶，邊用頂置式攪拌器攪拌邊少量多次加入鋁酸鈉水溶液(濃度：2.02質(zhì)量％)197g(Al2O3/SiO2＝0.00087(摩爾比))。添加后的pH為7.2。添加后，在室溫下繼續(xù)攪拌1小時。然后，升溫在加熱回流條件下進行4小時處理?！皦A處理”邊用攪拌器攪拌鋁酸處理后的二氧化硅分散體775g邊加入氫氧化鉀43.5g(1毫摩爾/g-二氧化硅)和水1381g。添加后的pH為9.9。在該狀態(tài)下在室溫下繼續(xù)攪拌24小時進行處理。堿處理后的二氧化硅粉體的平均粒徑為7.98μm。“濕式破碎”使用超高壓濕式微?；b置(吉田機械興業(yè)社株式會社制造、Nanomizer(注冊商標(biāo))NM2-2000AR、孔徑120μm碰撞型發(fā)生器)，以吐出壓力130～140MPa、以30道次(path)對堿處理后的二氧化硅分散體進行處理，對二氧化硅粉體進行破碎、分散化。破碎后的二氧化硅分散體的pH為9.3，利用激光衍射/散射式粒徑分布測定裝置測得的平均粒徑為0.182μm?！瓣栯x子交換”向破碎后的二氧化硅分散體1550g中添加陽離子交換樹脂161mL，邊用頂置式攪拌器攪拌邊在室溫下處理17小時。然后，將陽離子交換樹脂分離。陽離子交換后的二氧化硅分散體的pH為3.7。“濃度調(diào)節(jié)”用超濾膜(DAICENMEMBRANE-SYSTEMSLtd.制造、MOLSEP(注冊商標(biāo))、截留分子量：150000)處理陽離子交換后的二氧化硅分散體，進行濃度調(diào)節(jié)。從所得二氧化硅分散體(鱗片狀二氧化硅顆粒分散液(a))取出二氧化硅顆粒，用TEM觀察，結(jié)果確認到只有實質(zhì)上不含不定形二氧化硅顆粒的鱗片狀二氧化硅顆粒。鱗片狀二氧化硅顆粒分散液(a)中含有的鱗片狀二氧化硅顆粒的平均粒徑與濕式破碎后相同，為0.182μm。平均徑厚比為188。用紅外線水分儀測得的鱗片狀二氧化硅顆粒分散液(a)的固體成分濃度為5.0質(zhì)量％。(基液(b)的制備)邊攪拌改性乙醇(JapanAlcoholTradingCo.,Ltd.制造、SOLMIX(注冊商標(biāo))AP-11、以乙醇作為主劑的混合溶劑、沸點78℃。下同。)34.33g邊加入硅酸鹽40(多摩化學(xué)工業(yè)株式會社制造、四乙氧基硅烷及其水解縮合物的混合物、固體成分濃度(SiO2換算)：40質(zhì)量％、溶劑：乙醇(10％以下)。下同。)4.20g和鱗片狀二氧化硅顆粒分散液(a)2.00g，攪拌30分鐘。向其中加入離子交換水3.55g和硝酸水溶液(硝酸濃度：61質(zhì)量％)0.06g的混合液，攪拌60分鐘，制得固體成分濃度(SiO2換算)為4.0質(zhì)量％的基液(b)。需要說明的是，SiO2換算固體成分濃度是硅酸鹽40的全部Si轉(zhuǎn)化成SiO2時的固體成分濃度。(硅烷化合物溶液(c)的制備)邊攪拌改性乙醇3.85g邊加入離子交換水0.37g和硝酸水溶液(硝酸濃度：61質(zhì)量％)0.01g的混合液，攪拌5分鐘。接著，加入1,6-雙(三甲氧基甲硅烷基)己烷(信越化學(xué)工業(yè)株式會社制造、KBM-3066、固體成分濃度(SiO2換算)：37質(zhì)量％)0.54g，在水浴中在60℃下攪拌15分鐘，制得固體成分濃度(SiO2換算)為4.3質(zhì)量％的硅烷化合物溶液(c)。(涂布液(d)的制備)邊攪拌基液(b)44.14g邊加入硅烷化合物溶液(c)4.77g，攪拌60分鐘。向其中加入改性乙醇4.09g，在室溫下攪拌30分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為4.0質(zhì)量％的涂布液(d)。(涂布液(e)的制備)邊攪拌基液(b)44.14g邊加入硅烷化合物溶液(c)4.77g，攪拌60分鐘。向其中加入改性乙醇54.09g，在室溫下攪拌30分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為2.0質(zhì)量％的涂布液(e)。(基液(f)的制備)邊攪拌改性乙醇34.33g邊加入4.76g硅酸鹽40和2.00g鱗片狀二氧化硅顆粒分散液(a)，攪拌30分鐘。向其中加入離子交換水3.55g和硝酸水溶液(硝酸濃度：61質(zhì)量％)0.06g的混合液，在室溫下攪拌60分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為4.0質(zhì)量％的基液(f)。需要說明的是，SiO2換算固體成分濃度是硅酸鹽40的全部Si轉(zhuǎn)化成SiO2時的固體成分濃度。(涂布液(g)的制備)向基液(f)中加入改性乙醇51.09g，在室溫下攪拌30分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為2.0質(zhì)量％的涂布液(g)。(基液(h)的制備)邊攪拌改性乙醇34.33g邊加入4.45g硅酸鹽40，攪拌30分鐘。向其中加入離子交換水3.55g和硝酸水溶液(硝酸濃度：61質(zhì)量％)0.06g的混合液，在室溫下攪拌60分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為4.0質(zhì)量％的基液(h)。需要說明的是，SiO2換算固體成分濃度是硅酸鹽40的全部Si轉(zhuǎn)化成SiO2時的固體成分濃度。(涂布液(i)的制備)向基液(h)中加入改性乙醇151.09g，在室溫下攪拌30分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為1.0質(zhì)量％的涂布液(i)。(涂布液(j)的制備)向基液(f)中加入改性乙醇96.09g和異丁醇(沸點108℃)5g，在室溫下攪拌30分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為2.0質(zhì)量％的涂布液(j)。(涂布液(k)的制備)向基液(f)中加入改性乙醇96.09g和二丙酮醇(沸點166℃)5g，在室溫下攪拌30分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為2.0質(zhì)量％的涂布液(k)。(涂布液(l)的制備)向基液(f)中加入改性乙醇96.09g和1-戊醇(沸點138℃)5g，在室溫下攪拌30分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為2.0質(zhì)量％的涂布液(l)。(涂布液(m)的制備)向基液(f)中加入改性乙醇96.09g和1-己醇(157℃)5g，在室溫下攪拌30分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為2.0質(zhì)量％的涂布液(m)。(涂布液(n)的制備)邊攪拌改性乙醇72.1g邊向其中加入離子交換水6.0g與61質(zhì)量％硝酸1.23g的混合液，攪拌5分鐘。向其中加入硅酸鹽40(SiO2換算固體成分濃度：40質(zhì)量％)9.0g，在室溫下攪拌30分鐘。向其中加入如下的液體：邊攪拌改性乙醇7.2g邊向其中加入離子交換水0.7g與61質(zhì)量％硝酸0.15g，加入1,6-雙(三甲氧基甲硅烷基)己烷1.04g，攪拌5分鐘后，加入在60度下攪拌15分鐘而得到的液體。向其中加入乙二醇(沸點197℃)2.8g，在室溫下攪拌30分鐘，得到SiO2換算固體成分濃度為3.78質(zhì)量％的涂布液(n)。需要說明的是，SiO2換算固體成分濃度是硅酸鹽40的全部Si轉(zhuǎn)化成SiO2時的固體成分濃度。(基液(о)的制備)邊攪拌改性乙醇34.33g邊加入4.20g硅酸鹽40和2.00g鱗片狀二氧化硅顆粒分散液(a)，攪拌30分鐘。向其中加入離子交換水3.55g和硝酸水溶液(硝酸濃度：61質(zhì)量％)0.06g的混合液，攪拌60分鐘。向其中加入多孔球狀二氧化硅顆粒(日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制造、LIGHTSTAR(注冊商標(biāo))LA-S23A、固體成分濃度(SiO2換算)：23質(zhì)量％、分散介質(zhì)：水)0.09g，攪拌15分鐘，制得固體成分濃度(SiO2換算)為4.1質(zhì)量％的基液(o)。需要說明的是，SiO2換算固體成分濃度是硅酸鹽40的全部Si轉(zhuǎn)化成SiO2時的固體成分濃度。(涂布液(p)的制備)邊攪拌基液(o)邊加入硅烷化合物溶液(c)，攪拌60分鐘。向其中加入改性乙醇51.09g，在室溫下攪拌30分鐘，得到固體成分濃度(SiO2換算)為2.0質(zhì)量％的涂布液(p)。[例1](基材的清洗)作為基材，準(zhǔn)備鈉鈣玻璃(旭硝子株式會社制造。FL1.1。尺寸：100mm×100mm、厚度：1.1mm的玻璃基板。)。用碳酸氫鈉水清洗該玻璃的表面后，用離子交換水沖洗，進行干燥。(靜電涂裝裝置)準(zhǔn)備與圖1所示的靜電涂布裝置10同樣的構(gòu)成的靜電涂裝裝置(液體靜電涂布機、ASAHISUNACCORPORATION制造)。作為靜電涂裝槍，準(zhǔn)備旋轉(zhuǎn)霧化式自動靜電槍(ASAHISUNACCORPORATION制造、Sunbell、ESA120、70φ杯)。為了更容易地進行基材的接地，準(zhǔn)備金屬網(wǎng)托盤作為導(dǎo)電性基板。(靜電涂裝)將靜電涂裝裝置的涂布室內(nèi)的溫度調(diào)節(jié)至25±1℃、濕度調(diào)節(jié)至50％±10％。在靜電涂裝裝置的鏈?zhǔn)捷斔蜋C上隔著導(dǎo)電性基板放置預(yù)先加熱至30℃±3℃的已清洗的基材。一邊利用鏈?zhǔn)捷斔蜋C勻速輸送，一邊通過基于表1所示的涂布條件的靜電涂裝法將涂布液(d)涂布于基材的頂面(在利用浮法制造時與熔融錫接觸的面處于相反一側(cè)的面)，然后在大氣中、在450℃下煅燒30分鐘，得到帶防眩膜的基材。針對所得帶防眩膜的基材進行前述評價。結(jié)果示于表1。[例2～例11]將涂布條件變更為表1所示，除此之外與例1同樣地制得例2～例11的帶防眩膜的基材。針對所得帶防眩膜的基材進行前述評價。結(jié)果示于表1。[例12]作為噴霧機器人，使用6軸涂裝用機器人(KawasakiRoboticsCo.,Ltd.制造、JF-5)。作為噴嘴，使用VAU噴嘴(雙流體噴霧噴嘴、SprayingSystemsCo.制造)。將涂布液(i)按日本特開2009-058640號公報的圖2中記載的噴霧間距和噴霧圖案涂布。即，將VAU噴嘴的排氣壓力設(shè)定為0.4MPa，在已清洗的基材(玻璃基板22)上以750mm/分鐘的速度沿寬度方向移動，接著，向前方移動22mm，從此處起在基材(玻璃基板22)上以750nm/分鐘的速度沿寬度方向移動。實施VAU噴嘴的移動直至VAU噴嘴掃描到預(yù)先加熱至30℃±3℃的已清洗的基材的整面。將用該方法在基材整面涂布了涂布液的物品稱為1面涂布品。將在該1面涂布品上用同樣的方法涂布了涂布液的物品稱為2面涂布品。通過同樣地在2面涂布品上重疊涂布，可得到3面以上的涂布品。通過表2所示的涂布條件將涂布液(l)涂布后，在大氣中、450℃下煅燒30分鐘，得到帶防眩膜的基材。針對所得帶防眩膜的基材進行前述評價。結(jié)果示于表2。[例13～例14]將涂布條件變更為表2所示，除此之外與例12同樣地制得例13～例14的帶防眩膜的基材。針對所得帶防眩膜的基材進行前述評價。結(jié)果示于表2。[表1][表2]例12例13例14涂布液lln涂布面數(shù)(面)6821涂布液量(mL/min)7728基板面溫度(℃)808090從噴嘴前端到玻璃板的距離(mm)115115280涂布所需時間(相對值)91035霧度(％)3.04.525光澤度968222防眩性判定○○◎Ra(μm)0.0640.0930.22Rz(μm)0.421.22.7表1～2中的涂布所需時間是相對于例1的涂布時間的相對值(將例1中涂布需要的時間設(shè)為1時的比較值)。如上述結(jié)果所示，在用旋轉(zhuǎn)霧化式自動靜電槍涂布了沸點150℃以下的液態(tài)介質(zhì)的比率相對于液態(tài)介質(zhì)的總量為86質(zhì)量％以上的涂料組合物(涂布液d、e、g、i、j、l)的例1～8、例10中，以相對值0.6～4的較短的涂布時間得到具有充分的防眩性的帶防眩膜的基材。另一方面，在用旋轉(zhuǎn)霧化式自動靜電槍涂布沸點150℃以下的液態(tài)介質(zhì)的比率相對于二氧化硅前體與液態(tài)介質(zhì)的總量小于86質(zhì)量％的涂料組合物(涂布液k、m)的例9、例11中，得到的帶防眩膜的基材的防眩性不充分。通過噴霧涂布法涂布涂料組合物(涂布液l、n)的例12～14中，為了得到防眩性判定結(jié)果為○或◎的帶防眩膜的基材，需要相對值9～35的涂布時間。產(chǎn)業(yè)上的可利用性根據(jù)本發(fā)明，可以提供能夠以短時間制造具有優(yōu)異的防眩性能的帶防眩膜的基材的制造方法、具有優(yōu)異的防眩性能的帶防眩膜的基材及具備其的物品。需要說明的是，將2014年6月2日提交的日本特許出愿2014-114399號的說明書、權(quán)利要求書、說明書附圖和摘要的全部內(nèi)容引用至此，作為本發(fā)明的公開內(nèi)容而并入。附圖標(biāo)記說明1帶防眩膜的基材3基材5防眩膜10靜電涂裝裝置11涂布室12鏈?zhǔn)捷斔蜋C13高電壓電纜14涂料組合物的進料管線15涂料組合物的回收管線16空氣的進氣管線17靜電涂裝槍18高電壓產(chǎn)生裝置19排氣管道20排氣箱21導(dǎo)電性基板30槍主體31涂料供給管32旋轉(zhuǎn)軸33吹出口35供氣路徑40旋轉(zhuǎn)霧化頭41第1部件42第2部件43軸安裝部44保持部45周壁46引導(dǎo)面47擴徑部48擴散面49前面壁50流出孔51筒狀部52后面壁53貫穿孔S儲存腔當(dāng)前第1頁1 2 3