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一種球磨機(jī)的制作方法

文檔序號(hào):12807603閱讀:211來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及機(jī)械粉碎領(lǐng)域,具體涉及一種球磨機(jī)。



背景技術(shù):

球磨機(jī)是物料被破碎之后,再進(jìn)行粉碎的關(guān)鍵設(shè)備。它廣泛應(yīng)用于水泥,硅酸鹽制品,新型建筑材料、耐火材料、化肥、黑與有色金屬選礦以及玻璃陶瓷等生產(chǎn)行業(yè),對(duì)各種礦石和其它可磨性物料進(jìn)行干式或濕式粉磨?,F(xiàn)有的球磨機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不合理、制備復(fù)雜且粉碎效果不好,不能達(dá)到預(yù)期效果。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的問題,提供一種球磨機(jī)。

本發(fā)明的一種球磨機(jī),包括球磨機(jī)腔體、設(shè)于球磨機(jī)腔體下的支架、設(shè)于球磨機(jī)腔體一端的進(jìn)料口、設(shè)于球磨機(jī)腔體另一端的出料口和出氣口,所述球磨機(jī)腔體分為第一磨料腔和第二磨料腔,所述第一磨料腔和第二磨料腔內(nèi)設(shè)有磨料介質(zhì),所述第一磨料腔與第二磨料腔之間設(shè)有第一隔板,所述第二磨料腔與出料口之間設(shè)有出料隔板。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述球磨機(jī)腔體內(nèi)表面上設(shè)有耐磨襯板。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述第一隔板或出料隔板的厚度為1-4cm。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有以下優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單合理,制備簡(jiǎn)單,粉碎效果好,適于工業(yè)化大生產(chǎn),使用范圍廣。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明球磨機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中:1-球磨機(jī)腔體,2-支架,3-進(jìn)料口,4-出料口,5-出氣口,6-第一磨料腔,7-第二磨料腔,8-磨料介質(zhì),9-第一隔板,10-出料隔板,11-耐磨襯板。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的解釋說(shuō)明。

如圖1所示,一種球磨機(jī),包括球磨機(jī)腔體1、設(shè)于球磨機(jī)腔體1下的支架2、設(shè)于球磨機(jī)腔體1一端的進(jìn)料口3、設(shè)于球磨機(jī)腔體1另一端的出料口4和出氣口5,球磨機(jī)腔體1分為第一磨料腔6和第二磨料腔7,第一磨料腔6和第二磨料腔7內(nèi)設(shè)有磨料介質(zhì)8,第一磨料腔6與第二磨料腔7之間設(shè)有第一隔板9,第二磨料腔7與出料口4之間設(shè)有出料隔板10。

球磨機(jī)腔體1內(nèi)表面上設(shè)有耐磨襯板11。第一隔板9或出料隔板10的厚度為1-4cm。

上述內(nèi)容為本發(fā)明的示例及說(shuō)明,但不意味著本發(fā)明可取得的優(yōu)點(diǎn)受此限制,凡是本發(fā)明實(shí)踐過程中可能對(duì)結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單變換、和/或一些實(shí)施方式中實(shí)現(xiàn)的優(yōu)點(diǎn)的其中一個(gè)或多個(gè)均在

本技術(shù):
的保護(hù)范圍內(nèi)。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種球磨機(jī),包括球磨機(jī)腔體(1)、設(shè)于球磨機(jī)腔體(1)下的支架(2)、設(shè)于球磨機(jī)腔體(1)一端的進(jìn)料口(3)、設(shè)于球磨機(jī)腔體(1)另一端的出料口(4)和出氣口(5),所述球磨機(jī)腔體(1)分為第一磨料腔(6)和第二磨料腔(7),所述第一磨料腔(6)和第二磨料腔(7)內(nèi)設(shè)有磨料介質(zhì)(8),所述第一磨料腔(6)與第二磨料腔(7)之間設(shè)有第一隔板(9),所述第二磨料腔(7)與出料口(4)之間設(shè)有出料隔板(10)。本發(fā)明結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單合理,制備簡(jiǎn)單,粉碎效果好,適于工業(yè)化大生產(chǎn),使用范圍廣。

技術(shù)研發(fā)人員:萬(wàn)喜華
受保護(hù)的技術(shù)使用者:泰州泰瑞電子專用設(shè)備制造有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2015.12.31
技術(shù)公布日:2017.07.07
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